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    蒸鍍掩模用框架、帶框架蒸鍍掩模以及蒸鍍方法技術

    技術編號:35588716 閱讀:42 留言:0更新日期:2022-11-16 15:04
    提供一種蒸鍍掩模用框架,該蒸鍍掩模用框架輕量并具有高剛性,且抑制脫氣的產生。一個實施方式的蒸鍍掩模用框架(50)具備構成為保持蒸鍍掩模的框架主體(51)。框架主體是基材以及強化材料均由無機固體材料構成的復合材料。及強化材料均由無機固體材料構成的復合材料。及強化材料均由無機固體材料構成的復合材料。

    【技術實現步驟摘要】
    【國外來華專利技術】蒸鍍掩模用框架、帶框架蒸鍍掩模以及蒸鍍方法


    [0001]實施方式涉及蒸鍍掩模用框架、帶框架蒸鍍掩模以及蒸鍍方法。

    技術介紹

    [0002]在有機EL(electro
    ?
    luminescence:電致發光)面板的制造中,已知有在蒸鍍室內在被蒸鍍基板上蒸鍍有機物等蒸鍍物質時使用的蒸鍍掩模、以及保持該蒸鍍掩模的蒸鍍掩模用框架。
    [0003]在通過蒸鍍處理形成高精細的圖案的情況下,由于蒸鍍掩模的厚度,從傾斜方向入射的蒸鍍物質被遮擋,像素內不能均勻地蒸鍍,可能產生陰影的問題。因此,希望將蒸鍍掩模設計成薄膜。薄膜的蒸鍍掩模的剛性容易降低,有時蒸鍍掩模單體不容易相對于被蒸鍍基板高精度地定位。因此,要求蒸鍍掩模用框架具有高剛性,從而具有取代蒸鍍掩模而提高蒸鍍掩模相對于被蒸鍍基板的定位精度的功能。
    [0004]另外,在蒸鍍處理時,來自蒸鍍源的熱量向蒸鍍掩模以及蒸鍍掩模用框架輻射,發生蒸鍍掩模以及蒸鍍掩模用框架的熱變形。因此,為了抑制蒸鍍掩模由于溫度變化而變形,希望蒸鍍掩模用框架具有與蒸鍍掩模相同程度低的熱膨脹系數。由于在蒸鍍掩模中經常使用殷鋼合金,因此在蒸鍍掩模用框架中也經常使用殷鋼合金。
    [0005]另外,在專利文獻1中,提出了一種蒸鍍掩模用框架,該蒸鍍掩模用框架由柱狀的芯部和面板形成為夾層構造體,該柱狀的芯部內含通過以碳化硅為強化纖維的碳纖維強化塑料(CFRP:Carbon fiber reinforced plastics)而形成的空隙,該面板覆蓋該柱狀的芯部的包含露出空隙的面的側面的周圍且由粘貼于芯部的由CFRP或金屬板構成。
    [0006]現有技術文獻
    [0007]專利文獻
    [0008]專利文獻1:日本國特開2019
    ?
    112713號公報

    技術實現思路

    [0009]專利技術要解決的課題
    [0010]伴隨著有機EL面板的大型化,該有機EL面板的制造中使用的蒸鍍掩模用框架有大型化、質量增加的傾向。因此,在使用密度為8.1[g/cm3]左右的殷鋼合金作為蒸鍍掩模用框架的情況下,在蒸鍍裝置內用于輸送蒸鍍掩模用框架的輸送機器人的載荷過大,結果有可能增加蒸鍍裝置的成本。
    [0011]另一方面,CFRP在具有高剛性的同時,密度為1.6[g/cm3]左右,因此能夠形成比殷鋼合金輕的蒸鍍掩模用框架。因此,從減輕對輸送機器人施加的載荷的觀點出發,能夠比殷鋼合金更有利。
    [0012]然而,CFRP包括塑料(樹脂)。在專利文獻1中,該樹脂雖然使用具有熱固化性的樹脂,但在蒸鍍室內的真空環境中,會成為脫氣的產生原因,會引起該脫氣導致的被蒸鍍基板的污染。
    [0013]本專利技術是鑒于這樣的實際情況而完成的,其目的在于提供一種蒸鍍掩模用框架,該蒸鍍掩模用框架輕量并具有高剛性,且抑制脫氣的產生。
    [0014]用于解決課題的方案
    [0015]為了解決上述的課題,本專利技術采用以下的結構。
    [0016]即,實施方式的蒸鍍掩模用框架具備構成為保持蒸鍍掩模的框架主體。上述框架主體是基材以及強化材料均由無機固體材料構成的復合材料。
    [0017]專利技術效果
    [0018]根據本專利技術,能夠提供一種蒸鍍掩模用框架,該蒸鍍掩模用框架輕量并具有高剛性,且抑制脫氣的產生。
    附圖說明
    [0019]圖1是示出實施方式的蒸鍍裝置的結構的示意圖。
    [0020]圖2是示出實施方式的帶框架蒸鍍掩模的結構的俯視圖以及側視圖。
    [0021]圖3是示出實施方式的帶框架蒸鍍掩模的結構的剖視圖。
    [0022]圖4是示出設置在實施方式的蒸鍍裝置的蒸鍍室內的帶框架蒸鍍掩模的示意圖。
    [0023]圖5是用于說明實施方式的效果的示意圖。
    [0024]圖6是示出變形例的帶框架蒸鍍掩模的結構的俯視圖以及側視圖。
    具體實施方式
    [0025]以下,參照附圖對實施方式進行說明。各實施方式例示了用于具體化專利技術的技術思想的裝置和方法。附圖是示意性或概念性的,各附圖的尺寸以及比率等未必與現實的相同。本專利技術的技術思想并不是通過構成要素的形狀、構造、配置等來確定的。
    [0026]需要說明的是,在以下的說明中,對于具有大致相同的功能以及結構的構成要素,標注相同的參照附圖標記。在相互區分具有大致相同的功能以及結構的多個構成要素的情況下,在參照附圖標記的末尾,還附加有分配給多個構成要素的每一個的數字或字符。
    [0027]1.實施方式
    [0028]對實施方式的蒸鍍掩模用框架進行說明。實施方式的蒸鍍掩模用框架是用于保持在有機EL面板的制造工序中用于在被蒸鍍基板形成蒸鍍圖案的蒸鍍掩模的框架。蒸鍍掩模用框架具有難以因熱或自重而變形的特性,通過與蒸鍍掩模接合,能夠容易地進行蒸鍍掩模相對于被蒸鍍基板的正確的定位。
    [0029]需要說明的是,作為有機EL面板的顯示方式,可以有使各自獨立蒸鍍的紅、藍、綠三原色的有機EL層單獨地發光而進行有色顯示的方式,和經由濾色器對在一面蒸鍍的白色的有機EL層的白色發光進行有色顯示的方式。實施方式的蒸鍍掩模用框架在上述的任一種顯示方式的有機EL面板的制造工序中都可以應用。
    [0030]1.1結構
    [0031]首先,對實施方式的蒸鍍掩模用框架以及帶框架蒸鍍掩模、以及應用該帶框架蒸鍍掩模的蒸鍍裝置的結構進行說明。
    [0032]1.1.1蒸鍍裝置
    [0033]圖1是用于說明實施方式的蒸鍍裝置的結構的示意圖。在圖1中,示出用于在被蒸
    鍍基板上蒸鍍蒸鍍物質、作為有機EL面板發揮功能的蒸鍍裝置1的一部分的概觀。
    [0034]如圖1所示,蒸鍍裝置1具備至少一個集群CTR,同時設置有清洗室8,該集群CTR具備輸送室2、交接室3以及4、掩模儲存室5、以及多個蒸鍍室6(6A、6B以及6C)。蒸鍍裝置1內能夠維持例如1.0
    ×
    10
    ?4[Pa]以下的真空狀態。
    [0035]輸送室2例如設置在交接室3以及4、掩模儲存室5以及多個蒸鍍室6A~6C的中心。在輸送室2,設置有輸送機器人7。輸送室2構成為,能夠經由該輸送機器人7將被蒸鍍基板(未圖示)輸送到交接室3以及4、掩模儲存室5以及多個蒸鍍室6A~6C中的任一個。
    [0036]交接室3以及4例如是用于在與其他集群CTR(未圖示)之間交接被蒸鍍基板的室,分別連接兩個集群CTR之間。
    [0037]掩模儲存室5是在設置于相同的集群CTR內的多個蒸鍍室6A~6C內保管與被蒸鍍的圖案對應的多個蒸鍍掩模(未圖示)的室。如后述這樣,保管在掩模儲存室5內的多個蒸鍍掩模的每一個可以在與蒸鍍掩模用框架(未示出)一體化的狀態(帶框架蒸鍍掩模的狀態)下被保管。另外,掩模儲存室5具有實施在真空環境和大氣壓環境之間置換室內的壓力的置換工序的功能。
    [0038]蒸鍍室6A~6C具備用于對被蒸鍍基板蒸鍍各自不同的蒸鍍物質的功能。通過輸送機器人7,以規定的順序將被蒸鍍基板輸送到蒸鍍室6A~6C。由此,在本文檔來自技高網
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    【技術保護點】

    【技術特征摘要】
    【國外來華專利技術】1.一種蒸鍍掩模用框架,具備構成為保持蒸鍍掩模的框架主體,所述框架主體是基材以及強化材料均由無機固體材料構成的復合材料。2.如權利要求1所述的蒸鍍掩模用框架,其中,還具備至少一個固定在所述框架主體的金屬材料的臺座,所述框架主體構成為經由所述至少一個臺座來保持蒸鍍掩模。3.如權利要求1所述的蒸鍍掩模用框架,其中,所述復合材料是碳纖維強化碳復合材料。4.如權利要求1所述的蒸鍍掩模用框架,其中,所述復合材料是金屬基復合材料。5.如權利要求2所述的蒸鍍掩模用框架,其中,所述框架主體具有矩形狀,所述至少一個臺座包括第一臺座以及第二臺座,所述第一臺座固定在所述框架主體中的所述矩形狀的第一邊,所述第二臺座固定在所述框架主體中的與所述第一邊對置的第二邊。6.如權利要求5所述的蒸鍍掩模...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:若林雅野本將史
    申請(專利權)人:株式會社V技術
    類型:發明
    國別省市:

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