本發明專利技術公開了一種無基材屏蔽膜及其制造方法,屬于屏蔽膜領域,方法包括:在透明基材表面壓印離型膠;在離型膠表面壓印透明UV膠層并形成網格凹槽;在透明UV膠層的網格凹槽中填充導電材料構成導電層;去除透明基材以及離型膠得到無基材屏蔽膜。所述導電材料包括銅金屬、銀金屬與ITO中的一種,所述網格凹槽通過帶有圖案的模具壓印透明UV膠層形成,且圖案形狀與網格凹槽相匹配,所述導電材料的填充厚度為5um,所述透明基材為PET,所述透明UV膠層的厚度為10um,所述網格凹槽的截面呈梯形,梯形的寬度從遠離網格凹槽開口的一側向另一側逐漸增大。本發明專利技術,通過采用無基材制作,提升顯示產品的透過率,降低產品厚度。降低產品厚度。降低產品厚度。
【技術實現步驟摘要】
一種無基材屏蔽膜及其制造方法
[0001]本專利技術涉及一種屏蔽膜,具體是一種無基材屏蔽膜及其制造方法。
技術介紹
[0002]屏蔽膜是一種抗電磁輻射、抗電磁干擾的透光屏蔽裝置,主要利用屏蔽材料阻擋或衰減被屏蔽區域與外界之間的電磁能量傳輸,廣泛適用于手機、平板、汽車、保密會議室、儀器儀表視窗等起到阻斷電磁干擾作用。
[0003]現有屏蔽膜多在透明基材(例如PET)壓印金屬網格,其中,填充無規則的金屬網格可以實現無需進行對比貼合,解決干涉條紋。
[0004]但是,現有的技術是透明基材壓印完成屏蔽膜,基材的厚度增加也同樣會影響透過率,再貼在顯示的視窗上,會增加產品的結構厚度。因此,本領域技術人員提供了一種無基材屏蔽膜及其制造方法,以解決上述
技術介紹
中提出的問題。
技術實現思路
[0005]本專利技術的目的在于提供一種無基材屏蔽膜及其制造方法,通過采用無基材制作,提升顯示產品的透過率,降低產品厚度,以解決上述
技術介紹
中提出的問題。
[0006]為實現上述目的,本專利技術提供如下技術方案:
[0007]一種無基材屏蔽膜的制造方法,包括:
[0008]在透明基材表面壓印離型膠;
[0009]在離型膠表面壓印透明UV膠層并形成網格凹槽;
[0010]在透明UV膠層的網格凹槽中填充導電材料構成導電層;
[0011]去除透明基材以及離型膠得到無基材屏蔽膜。
[0012]作為本專利技術進一步的方案:所述導電材料包括銅金屬、銀金屬與ITO中的一種。<br/>[0013]作為本專利技術再進一步的方案:所述網格凹槽通過帶有圖案的模具壓印透明UV膠層形成,且圖案形狀與網格凹槽相匹配。
[0014]作為本專利技術再進一步的方案:所述導電材料的填充厚度為5um。
[0015]作為本專利技術再進一步的方案:所述透明基材為PET。
[0016]作為本專利技術再進一步的方案:所述透明UV膠層的厚度為10um。
[0017]作為本專利技術再進一步的方案:所述網格凹槽的截面呈梯形,梯形的寬度從遠離網格凹槽開口的一側向另一側逐漸增大。
[0018]作為本專利技術再進一步的方案:所述無基材屏蔽膜可通過透明膠貼合在顯示產品上,且透明膠設在透明UV膠層具有網格凹槽的一面。
[0019]作為本專利技術再進一步的方案:所述透明膠為OCA光學膠。
[0020]本申請還公開了一種無基材屏蔽膜,所述無基材屏蔽膜采用上述的制造方法制造得到。
[0021]與現有技術相比,本專利技術的有益效果是:
[0022]1、本專利技術能夠實現分離基材,做到取消基材貼合,進而提升顯示產品的透過率,降低產品厚度,并具有隱形效果。
[0023]2、本專利技術的無基材屏蔽膜屏蔽效果優于現有技術中有基材的屏蔽膜屏蔽效果。
[0024]3、本專利技術的導電網格采用壓印填充式,相較于現有技術,不僅成本低、效率高,還可以卷對卷工藝生產。
附圖說明
[0025]圖1為一種無基材屏蔽膜的制造方法流程圖;
[0026]圖2為本申請撕下透明基材的結構示意圖;
[0027]圖3為本申請未撕下透明基材的結構示意圖;
[0028]圖4為本申請的無基材屏蔽膜屏蔽效果圖;
[0029]圖5為現有技術中有基材的屏蔽膜屏蔽效果圖。
[0030]圖中:1、透明UV膠層;2、網格凹槽;3、導電材料;4、顯示產品;5、離型膠;6、透明基材;7、透明膠。
具體實施方式
[0031]為了更好的理解上述技術方案,下面將結合說明書附圖以及具體的實施方式對上述技術方案進行詳細的說明。
[0032]請參閱圖1~5,本專利技術實施例中,一種無基材屏蔽膜的制造方法,包括:
[0033]在透明基材6表面壓印離型膠5;
[0034]在離型膠5表面壓印透明UV(Ultraviolet Rays)膠層1并形成網格凹槽2;
[0035]在透明UV膠層1的網格凹槽2中填充導電材料3構成導電層;
[0036]去除透明基材6以及離型膠5得到無基材屏蔽膜。
[0037]以下結合具體實施方式對本專利技術作進一步說明。
[0038]1)、在透明基材6表面壓印離型膠5;
[0039]在透明基材6(在本實施例中選用PET,即Polyethylene terephthalate)表面壓印離型膠5,離型膠5可在后續產品完成時分離透明基材6形成無基材屏蔽膜,離型膠5厚度為10um,通過UV能量控制固化效果。
[0040]2)、在離型膠5表面壓印透明UV膠層1并形成網格凹槽2;
[0041]在離型膠5上通過帶有圖案的模具壓印透明UV膠層1并形成網格凹槽2,其中,圖案形狀與網格凹槽2相匹配,透明UV膠層1的厚度為10um,網格凹槽2的截面呈梯形,梯形的寬度從遠離網格凹槽2開口的一側向另一側逐漸增大。
[0042]3)、在透明UV膠層1的網格凹槽2中填充導電材料3構成導電層;
[0043]在透明UV膠層1的網格凹槽2中印刷填充導電材料3構成導電層,通過烘烤固化燒結后具有導電效果,其中,導電材料3包括銅金屬、銀金屬與ITO中的一種,銅金屬、銀金屬與ITO(Indium Tin Oxide)的阻抗較低,導電性良好,導電材料3的填充厚度為5um。
[0044]4)、去除透明基材6以及離型膠5得到無基材屏蔽膜。
[0045]如圖2與圖3所示,先將透明基材6通過離型膠5撕下形成無基材屏蔽膜,再將無基材屏蔽膜通過透明膠7(在本實施例中選用OCA光學膠)貼合在顯示產品4上,透明膠7設在透
明UV膠層1具有網格凹槽2的一面。需要說明的是,本申請的無基材屏蔽膜前期需要在透明基材6上加工,透明基材6起到支撐作用。將本申請的無基材屏蔽膜與現有技術中有基材的屏蔽膜進行屏蔽性能檢測,本申請的無基材屏蔽膜屏蔽效果如圖4所示,現有技術中有基材的屏蔽膜屏蔽效果如圖5所示,可以明顯看出,本申請的無基材屏蔽膜屏蔽效果優于現有技術中有基材的屏蔽膜屏蔽效果,特別是在30MHZ,無基材屏蔽膜比有基材屏蔽膜高出1.6DB的屏蔽效能。
[0046]需要說明的是,現有網格形成技術常見的是刻蝕工藝,具體為,在基材表面鍍銅,銅表面曝光圖案,通過藥液在蝕刻槽內進行蝕刻,貼合OCA光學膠,再貼合在顯示產品4面上;而本申請的網格是采用壓印填充式,具體為,模具壓印網格圖案形成網格凹槽2,網格凹槽2填充導電材料3(銅、銀與ITO),最后烘烤固化,相較于現有技術,不僅成本低、效率高,還可以卷對卷工藝生產。此外,OCA(Optically Clear Adhesive)光學膠只能做粘結,不能做基材,而UV膠可以,本申請采用UV膠的原因如下:
[0047]無VOC揮發物,對環境空氣無污染。
[0048]膠粘劑成分在環保法規中限制或禁止的比較少。
[0049]無溶劑,可燃性低。
[0050]固化速度快,幾秒至幾十秒即可完成固化,有利于自動化生產線,提高本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
1.一種無基材屏蔽膜的制造方法,其特征在于,包括:在透明基材表面壓印離型膠;在離型膠表面壓印透明UV膠層并形成網格凹槽;在透明UV膠層的網格凹槽中填充導電材料構成導電層;去除透明基材以及離型膠得到無基材屏蔽膜。2.根據權利要求1所述的一種無基材屏蔽膜的制造方法,其特征在于,所述導電材料包括銅金屬、銀金屬與ITO中的一種。3.根據權利要求1所述的一種無基材屏蔽膜的制造方法,其特征在于,所述網格凹槽通過帶有圖案的模具壓印透明UV膠層形成,且圖案形狀與網格凹槽相匹配。4.根據權利要求1所述的一種無基材屏蔽膜的制造方法,其特征在于,所述導電材料的填充厚度為5um。5.根據權利要求1所述的一種無基材屏蔽膜的制造方法,其特征在于...
【專利技術屬性】
技術研發人員:黃運榮,樸成珉,
申請(專利權)人:安徽精卓光顯技術有限責任公司,
類型:發明
國別省市:
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