帶有冷卻輥補氣機構的真空鍍膜設備制造技術

本申請涉及真空鍍膜的技術領域，尤其是涉及一種帶有冷卻輥補氣機構的真空鍍膜設備，包括真空鍍膜室、冷卻輥，冷卻輥上繞設有基材，冷卻輥與基材的夾角處設置有補氣機構。通過補氣機構向冷卻輥與基材的夾角處噴入氣體，達到了提高基材與冷卻輥的熱傳遞效果。提高基材與冷卻輥的熱傳遞效果。提高基材與冷卻輥的熱傳遞效果。

【技術實現步驟摘要】
帶有冷卻輥補氣機構的真空鍍膜設備


[0001]本申請涉及真空鍍膜的
，尤其是涉及一種帶有冷卻輥補氣機構的真空鍍膜設備。

技術介紹

[0002]柔性基材進行真空鍍膜的過程中，由于濺射、蒸鍍或多弧離子鍍等方式，會使基材表面產生大量熱量，為了防止基材由于溫度過高而起褶或燒壞，通常需要將基材卷繞在帶冷卻效果的冷卻輥上，使基材在鍍膜過程中進行冷卻。基材與冷卻輥之間的熱傳遞的效果直接決定了基材的鍍膜質量。
[0003]然而實際設備運行過程中為保證設備產量，經常出現冷卻輥未能及時帶走基材表面熱量，從而導致基材溫度過高而起褶甚至燒壞情況。
[0004]目前，基材與冷卻輥之間主要存在三種熱傳遞方式：導熱、熱對流和熱輻射。由于基材和冷卻輥表面在微觀上都是凹凸不平的，特別是基材表面需要存在一定粗糙度使其在冷卻輥表面不打滑且能順利覆膜，所以基材和冷卻輥之間實際為線接觸或點接觸，因此基材和冷卻輥之間的接觸面中存在的空隙。
[0005]針對上述中的相關技術，濺射、蒸鍍或多弧離子鍍等鍍膜工藝均需將設備內部抽至中真空狀態或高真空狀態，隨著設備內部真空度的升高，氣體流動狀態依次進入粘滯流和分子流狀態，對流傳熱效果隨著壓力降低逐漸減弱。而基材和冷卻輥之間的接觸面中存在的空隙為真空狀態時，基材和冷卻輥之間的導熱效果不佳。

技術實現思路

[0006]為了提高基材與冷卻輥之間的熱傳遞效果，本申請提供一種帶有冷卻輥補氣機構的真空鍍膜設備。
[0007]本申請提供的一種帶有冷卻輥補氣機構的真空鍍膜設備采用如下的技術方案：
[0008]一種帶有冷卻輥補氣機構的真空鍍膜設備，包括真空鍍膜室、冷卻輥，所述真空鍍膜室內設置有補氣機構，所述補氣機構設置在所述冷卻輥與基材夾角處，所述補氣機構用于向所述冷卻輥和所述基材的夾角處噴氣，所述補氣機構噴氣的方向與所述冷卻輥的轉動方向相同。
[0009]通過采用上述技術方案，利用補氣機構向冷卻輥和基材的夾角處噴氣體，使得在冷卻輥轉動過程中基材和冷卻輥接觸的間隙中充有氣體，提高基材與冷卻輥之間的熱傳遞效果，增強基材的散熱效果。
[0010]可選的，所述補氣機構包括進氣管路、勻氣機構，所述進氣管路固定連接在所述真空鍍膜室上，所述進氣管路的一端與所述勻氣機構連通，所述勻氣機構用于向所述冷卻輥和所述基材的夾角處噴氣。
[0011]通過采用上述技術方案，利用進氣管路輸送氣體，勻氣機構將氣體均勻的噴在冷卻輥與基材的夾縫處，從而使得基材與冷卻輥之間的熱傳遞效果均勻。
[0012]可選的，所述冷卻輥與所述基材的兩個夾角處均設置有勻氣機構。
[0013]通過采用上述技術方案，在兩個夾角處均設置補氣機構便于正反鍍時均可向冷卻輥和基材之間噴氣體。
[0014]可選的，所述補氣機構還包括氣路導向板，所述氣路導向板罩設在所述勻氣機構上，所述氣路導向板開口朝向所述冷卻輥和所述基材的夾角處。
[0015]通過采用上述技術方案，利用氣路導向板對勻氣機構噴出的氣體起到導向作用，從而減少氣體的浪費。
[0016]可選的，所述氣路導向板開口處呈扁平狀。
[0017]通過采用上述技術方案，使得氣路導向板的開口處能更加靠近冷卻輥和基材的夾角，從而輸送的氣體能充分利用。
[0018]可選的，所述進氣管路包括進氣主管、進氣分管以及進氣支管，所述進氣主管與所述真空鍍膜室固定連接，所述進氣分管的一端與所述進氣主管連接，另一端與所述進氣支管連通，所述進氣支管設置有多個出氣口。
[0019]通過采用上述技術方案，多個出氣口進氣支管能使氣體更加均勻。
[0020]可選的，所述進氣分管上設置有補氣控制閥。
[0021]通過采用上述技術方案，利用補氣控制閥控制進氣分管的通斷來控制進氣支管通入氣體的通斷。
[0022]可選的，所述勻氣機構包括勻氣管，所述勻氣管的軸線與所述冷卻輥軸線平行，所述勻氣管內部為空腔，所述進氣管路與所述勻氣管連通，所述勻氣管開設有若干放氣孔，若干所述放氣孔的數量大于所述進氣管路的數量，所述放氣孔朝向所述冷卻輥和所述基材的夾角處。
[0023]通過采用上述技術方案，進氣管路將氣體輸送至勻氣管中，氣體在勻氣管中進行均勻分布后再通過放氣孔充入冷卻輥和基材的夾角中，從而使得基材與冷卻輥之間的熱傳遞效果均勻。
[0024]可選的，所述勻氣機構包括若干依次嵌套的勻氣筒，若干所述勻氣筒依次連通，所述勻氣筒上開設有若干勻氣孔，相鄰所述勻氣筒上所述勻氣孔的朝向相反，位于最外側的所述勻氣筒上的所述勻氣孔朝向所述冷卻輥和所述基材的夾角處，所述進氣管路與最內側的所述勻氣筒連通。
[0025]通過采用上述技術方案，進氣管路將氣體輸送至最內側勻氣筒中，氣體在多層勻氣筒充分均勻分布，再通過朝向冷卻輥和基材的夾角處勻氣孔排出。
[0026]可選的，所述勻氣機構包括若干依次嵌套的勻氣筒，若干所述勻氣筒依次連通，所述勻氣筒上開設有若干勻氣孔，相鄰所述勻氣筒上所述勻氣孔的朝向相反，位于最外側的所述勻氣筒上的所述勻氣孔與所述氣路導向板的開口朝向相反，所述進氣管路與最內側的所述勻氣筒連通。
[0027]通過采用上述技術方案，進氣管路將氣體輸送至最內側勻氣筒中，氣體在多層勻氣筒充分均勻分布，再通過勻氣孔排出至氣路導向板內，通過氣路導向板輸送至冷卻輥和基材的夾角處。
[0028]可選的，所述勻氣機構包括勻氣板，所述勻氣板上開設有連通所述進氣管路的進氣口以及數量多于所述進氣口的排氣口。
[0029]通過采用上述技術方案，運用勻氣板將進氣管路輸送的氣體經過多層的均勻分布，使得最后排出的氣體分布更加均勻。
[0030]綜上所述，本申請包括以下至少一種有益技術效果：
[0031]1.通過補氣機構向冷卻輥與基材之間的夾角處噴氣，達到了提高基材與冷卻輥之間的熱傳遞的效果；
[0032]2.通過進氣管路、勻氣機構的設置，達到了將氣體均勻的噴入冷卻輥與基材之間的夾角處的效果；
[0033]3.通過依次嵌套勻氣筒的設置，使的通入的氣體在多層勻氣筒中充分分布均勻，到了將氣體充分均勻的分布在冷卻輥與基材之間的夾角處的效果。
附圖說明
[0034]圖1是本實施例1中帶有冷卻輥補氣機構的真空鍍膜設備的剖視圖。
[0035]圖2是本實施例1中補氣機構結構示意圖。
[0036]圖3是本實施例1中勻氣機構的結構示意圖。
[0037]圖4是本實施例1中勻氣機構和進氣支管的俯視圖。
[0038]圖5是圖4中A
?
A的剖視圖。
[0039]圖6是本實施例2中勻氣機構和進氣支管的俯視圖。
[0040]圖7是圖6中B
?
B的剖視圖。
[0041]圖8是本實施例3中勻氣機構和進氣支管的俯視圖。
[0042]圖9是圖8中C
?
C的剖視圖。
[0043]圖10是圖9中D的放大圖。
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【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.一種帶有冷卻輥補氣機構的真空鍍膜設備，包括真空鍍膜室（1）、冷卻輥（2），其特征在于：所述真空鍍膜室內設置有補氣機構（4），所述補氣機構（4）設置在所述冷卻輥（2）與基材（3）夾角處，所述補氣機構（4）用于向所述冷卻輥（2）和所述基材（3）的夾角處噴氣，所述補氣機構（4）噴氣的方向與所述冷卻輥（2）的轉動方向相同。2.根據權利要求1所述的帶有冷卻輥補氣機構的真空鍍膜設備，其特征在于：所述補氣機構（4）包括進氣管路（41）、勻氣機構（42），所述進氣管路（41）固定連接在所述真空鍍膜室（1）上，所述進氣管路（41）的一端與所述勻氣機構（42）連通,所述勻氣機構（42）用于向所述冷卻輥（2）和所述基材（3）的夾角處噴氣。3.根據權利要求2所述的帶有冷卻輥補氣機構的真空鍍膜設備，其特征在于：所述冷卻輥（2）與所述基材（3）的兩個夾角處均設置有勻氣機構（42）。4.根據權利要求2所述的帶有冷卻輥補氣機構的真空鍍膜設備，其特征在于：所述補氣機構（4）還包括氣路導向板（43），所述氣路導向板（43）罩設在所述勻氣機構（42）上，所述氣路導向板（43）開口朝向所述冷卻輥（2）和所述基材（3）的夾角處。5.根據權利要求4所述的帶有冷卻輥補氣機構的真空鍍膜設備，其特征在于：所述氣路導向板（43）開口處呈扁平狀。6.根據權利要求3所述的帶有冷卻輥補氣機構的真空鍍膜設備，其特征在于：所述進氣管路（41）包括進氣主管（411）、進氣分管（412）以及進氣支管（413），所述進氣主管（411）與所述真空鍍膜室（1）固定連接，所述進氣分管（412）的一端與所述進氣主管（411）連接，另一端與所述進氣支管（413）連通，所述進氣支管（413）設置有多個出氣口。7.根據權利要求6所述的帶有冷卻輥補氣機構...

【專利技術屬性】
技術研發人員：劉文麗，吳子敬，金晨，
申請(專利權)人：北京北方華創真空技術有限公司，
類型：新型
國別省市：