本實(shí)用新型專利技術(shù)提出了一種劃痕培養(yǎng)裝置，涉及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。一種劃痕培養(yǎng)裝置，包括培養(yǎng)基、劃痕蓋和劃痕棒，培養(yǎng)基包括多個(gè)培養(yǎng)單元，培養(yǎng)單元內(nèi)開(kāi)設(shè)有凹槽，劃痕蓋罩設(shè)在培養(yǎng)基上；劃痕蓋上開(kāi)設(shè)有多個(gè)與凹槽對(duì)應(yīng)的導(dǎo)向槽，劃痕棒穿過(guò)導(dǎo)向槽至培養(yǎng)基底部。該劃痕培養(yǎng)裝置的劃痕蓋上開(kāi)設(shè)有導(dǎo)向槽，可以將劃痕棒伸入其中至培養(yǎng)基底部，進(jìn)行劃痕，有利于劃出均一筆直的直線。除此之外，該劃痕培養(yǎng)裝置的制作成本低，售價(jià)便宜。售價(jià)便宜。售價(jià)便宜。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
一種劃痕培養(yǎng)裝置
[0001]本技術(shù)涉及實(shí)驗(yàn)設(shè)備
，具體而言，涉及一種劃痕培養(yǎng)裝置。
技術(shù)介紹
[0002]細(xì)胞劃痕實(shí)驗(yàn)是體外研究細(xì)胞遷移的一個(gè)有用的實(shí)驗(yàn)。原理是人為的在鋪板的單層細(xì)胞中制造一個(gè)空白的無(wú)細(xì)胞的地帶，然后對(duì)這個(gè)無(wú)細(xì)胞地帶的邊緣的細(xì)胞進(jìn)行觀察；這些邊緣的細(xì)胞會(huì)開(kāi)始進(jìn)行遷移活動(dòng)，并且覆蓋整個(gè)無(wú)細(xì)胞的區(qū)域，重新互相接觸在一起。
[0003]目前研究者普遍使用槍頭，牙簽等進(jìn)行劃痕，容易染菌且劃不直。不能保證每次劃痕的一致，有時(shí)候在劃細(xì)胞的同時(shí)會(huì)刮壞一片細(xì)胞，對(duì)劃痕的邊緣的細(xì)胞造成機(jī)械損傷，如果培養(yǎng)皿底部還有包被蛋白的話，槍頭劃過(guò)，很可能傷害到包被，進(jìn)而影響到細(xì)胞遷移，結(jié)果便很難判斷是哪個(gè)因素造成了決定性的影響。而我公司所研制的細(xì)胞劃痕實(shí)驗(yàn)配套裝置——?jiǎng)澓叟囵B(yǎng)基解決了上述問(wèn)題，利用與細(xì)胞培養(yǎng)基配套，即一種專適用于細(xì)胞劃痕實(shí)驗(yàn)的細(xì)胞培養(yǎng)基，解決了劃痕不直，劃痕時(shí)容易染菌，雜質(zhì)影響視野等問(wèn)題。并且其價(jià)格也遠(yuǎn)低于culture insert，使研究者在劃痕時(shí)，更快更好的完成實(shí)驗(yàn)，從而在后期拍照時(shí)得到良好的視野。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
[0004]本技術(shù)的目的在于提供一種劃痕培養(yǎng)裝置，其能夠降低培養(yǎng)基中的樣品污染率，保證劃痕的質(zhì)量，并且該劃痕培養(yǎng)裝置性價(jià)比高。
[0005]本技術(shù)的實(shí)施例是這樣實(shí)現(xiàn)的：
[0006]本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種劃痕培養(yǎng)裝置，包括培養(yǎng)基、劃痕蓋和劃痕棒，培養(yǎng)基包括多個(gè)培養(yǎng)單元，培養(yǎng)單元內(nèi)開(kāi)設(shè)有凹槽，劃痕蓋罩設(shè)在培養(yǎng)基上；
[0007]劃痕蓋上開(kāi)設(shè)有多個(gè)與凹槽對(duì)應(yīng)的導(dǎo)向槽，上述劃痕棒穿過(guò)導(dǎo)向槽至培養(yǎng)基底部。
[0008]在本技術(shù)的一些實(shí)施例中，上述劃痕棒上設(shè)置有橫臂，橫臂垂直設(shè)置在劃痕棒上。
[0009]在本技術(shù)的一些實(shí)施例中，上述導(dǎo)向槽寬度等于或大于劃痕棒的直徑，劃痕棒能在導(dǎo)向槽內(nèi)自由滑動(dòng)。
[0010]在本技術(shù)的一些實(shí)施例中，上述培養(yǎng)基上設(shè)置有標(biāo)識(shí)帶。
[0011]在本技術(shù)的一些實(shí)施例中，上述培養(yǎng)基上設(shè)置有定位元件，定位元件包括定位卡柱，定位卡柱設(shè)置在培養(yǎng)基上，劃痕蓋上對(duì)應(yīng)設(shè)置有卡槽。
[0012]在本技術(shù)的一些實(shí)施例中，上述凹槽為錐臺(tái)形。
[0013]在本技術(shù)的一些實(shí)施例中，上述凹槽的口部直徑大于凹槽的底部直徑。
[0014]在本技術(shù)的一些實(shí)施例中，上述凹槽的高度為16.9mm～18mm。
[0015]在本技術(shù)的一些實(shí)施例中，上述培養(yǎng)基和劃痕蓋之間設(shè)置有分隔環(huán)，分隔環(huán)連通述培養(yǎng)基和劃痕蓋。
[0016]在本技術(shù)的一些實(shí)施例中，上述劃痕棒底部設(shè)置有錐體，錐體的底面與劃痕棒固定連接，錐體的頂部與培養(yǎng)基底部接觸。
[0017]相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，本技術(shù)的實(shí)施例至少具有如下優(yōu)點(diǎn)或有益效果：
[0018]本技術(shù)的目的在于提供一種劃痕培養(yǎng)裝置，包括培養(yǎng)基、劃痕蓋和劃痕棒，培養(yǎng)基包括多個(gè)培養(yǎng)單元，培養(yǎng)單元內(nèi)開(kāi)設(shè)有凹槽，劃痕蓋罩設(shè)在培養(yǎng)基上；劃痕蓋上開(kāi)設(shè)有多個(gè)與凹槽對(duì)應(yīng)的導(dǎo)向槽，劃痕棒穿過(guò)導(dǎo)向槽至培養(yǎng)基底部。上述培養(yǎng)基中設(shè)置有多個(gè)培養(yǎng)單元，有利于多個(gè)菌落或者細(xì)胞的培養(yǎng)。上述培養(yǎng)單元內(nèi)開(kāi)設(shè)有凹槽，上述凹槽有利于菌落的生長(zhǎng)，在培養(yǎng)基上罩設(shè)有劃痕蓋，避免空氣中的雜質(zhì)污染上述培養(yǎng)單元中的培養(yǎng)物質(zhì)，還可以避免培養(yǎng)單元之間的相互污染。上述劃痕蓋上設(shè)置有導(dǎo)向槽，上述導(dǎo)向槽可以使劃痕棒能夠?qū)蚴蛊湓趯?dǎo)向槽中做直線運(yùn)動(dòng)，可以在培養(yǎng)基中劃出筆直而且均勻的線，有利于培養(yǎng)物質(zhì)的生長(zhǎng)。
[0019]因此，該劃痕培養(yǎng)裝置的劃痕蓋上開(kāi)設(shè)有導(dǎo)向槽，可以將劃痕棒伸入其中至培養(yǎng)基底部，進(jìn)行劃痕，有利于劃出均一筆直的直線。除此之外，該劃痕培養(yǎng)裝置的制作成本低，售價(jià)便宜。
附圖說(shuō)明
[0020]為了更清楚地說(shuō)明本技術(shù)實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，應(yīng)當(dāng)理解，以下附圖僅示出了本技術(shù)的某些實(shí)施例，因此不應(yīng)被看作是對(duì)范圍的限定，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他相關(guān)的附圖。
[0021]圖1為本技術(shù)實(shí)施例的劃痕蓋結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖2為本技術(shù)實(shí)施例的培養(yǎng)基結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖3為本技術(shù)實(shí)施例的劃痕棒的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖4為本技術(shù)實(shí)施例的培養(yǎng)單元的剖視圖。
[0025]圖標(biāo)：1
?
凹槽；2
?
培養(yǎng)單元；3
?
標(biāo)識(shí)帶；4
?
劃痕蓋；5
?
導(dǎo)向槽；6
?
培養(yǎng)基；7
?
劃痕棒；8
?
錐體；9
?
橫臂；10
?
分隔環(huán)。
具體實(shí)施方式
[0026]為使本技術(shù)實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本技術(shù)實(shí)施例中的附圖，對(duì)本技術(shù)實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本技術(shù)一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。通常在此處附圖中描述和示出的本技術(shù)實(shí)施例的組件可以以各種不同的配置來(lái)布置和設(shè)計(jì)。
[0027]因此，以下對(duì)在附圖中提供的本技術(shù)的實(shí)施例的詳細(xì)描述并非旨在限制要求保護(hù)的本技術(shù)的范圍，而是僅僅表示本技術(shù)的選定實(shí)施例。基于本技術(shù)中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本技術(shù)保護(hù)的范圍。
[0028]應(yīng)注意到：相似的標(biāo)號(hào)和字母在下面的附圖中表示類似項(xiàng)，因此，一旦某一項(xiàng)在一個(gè)附圖中被定義，則在隨后的附圖中不需要對(duì)其進(jìn)行進(jìn)一步定義和解釋。
[0029]在本技術(shù)實(shí)施例的描述中，需要說(shuō)明的是，若出現(xiàn)術(shù)語(yǔ)“中心”、“上”、“下”、
“
左”、“右”、“豎直”、“水平”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，或者是該技術(shù)產(chǎn)品使用時(shí)慣常擺放的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本技術(shù)和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本技術(shù)的限制。此外，術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”等僅用于區(qū)分描述，而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性。
[0030]此外，若出現(xiàn)術(shù)語(yǔ)“水平”、“豎直”、“懸垂”等術(shù)語(yǔ)并不表示要求部件絕對(duì)水平或懸垂，而是可以稍微傾斜。如“水平”僅僅是指其方向相對(duì)“豎直”而言更加水平，并不是表示該結(jié)構(gòu)一定要完全水平，而是可以稍微傾斜。
[0031]在本技術(shù)實(shí)施例的描述中，“多個(gè)”代表至少2個(gè)。
[0032]在本技術(shù)實(shí)施例的描述中，還需要說(shuō)明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，若出現(xiàn)術(shù)語(yǔ)“設(shè)置”、“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
【技術(shù)特征摘要】
1.一種劃痕培養(yǎng)裝置，其特征在于，包括培養(yǎng)基、劃痕蓋和劃痕棒，所述培養(yǎng)基包括多個(gè)培養(yǎng)單元，所述培養(yǎng)單元內(nèi)開(kāi)設(shè)有凹槽，所述劃痕蓋罩設(shè)在所述培養(yǎng)基上；所述劃痕蓋上開(kāi)設(shè)有多個(gè)與所述凹槽對(duì)應(yīng)的導(dǎo)向槽，所述劃痕棒穿過(guò)所述導(dǎo)向槽至所述培養(yǎng)基底部。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的劃痕培養(yǎng)裝置，其特征在于，所述劃痕棒上設(shè)置有橫臂，所述橫臂垂直設(shè)置在所述劃痕棒上。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的劃痕培養(yǎng)裝置，其特征在于，所述導(dǎo)向槽寬度等于或大于所述劃痕棒的直徑，所述劃痕棒能在所述導(dǎo)向槽內(nèi)自由滑動(dòng)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的劃痕培養(yǎng)裝置，其特征在于，所述培養(yǎng)基上設(shè)置有標(biāo)識(shí)帶。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的劃痕培養(yǎng)裝置，其特征在于，所述培養(yǎng)基上設(shè)置有定位元件，...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：姜輝，孔薦，韓文博，牟笑笑，李紅，楊曉云，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：姜輝，
類型：新型
國(guó)別省市：
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