本實用新型專利技術涉及一種應用于半導體清洗設備的防漏液旋轉結構，包括轉軸，所述的轉軸上部轉動安裝有卡盤，該卡盤上端中部設置有向上凸起的圓臺，所述的轉軸上端位于圓臺的上方設置有圓板部，該圓板部下端沿著邊緣布置有一圈環形凸緣，所述的環形凸緣罩住圓臺。本實用新型專利技術通過環形凸緣和圓臺配合遮擋住卡盤內孔與轉軸之間的間隙，極大程度的減少沖洗液進入到該間隙內，且整體結構不影響轉軸與卡盤之間的旋轉動作，也不影響其它裝配關系，對半導體清洗工藝也沒有影響。洗工藝也沒有影響。洗工藝也沒有影響。
【技術實現步驟摘要】
一種應用于半導體清洗設備的防漏液旋轉結構
[0001]本技術涉及半導體清洗設備
，特別是涉及一種應用于半導體清洗設備的防漏液旋轉結構。
技術介紹
[0002]目前，成品芯片的產生需經過數千道工序，整個加工過程離不開半導體工藝設備，其中半導體清洗設備扮演著至關重要的一環。半導體清洗設備中的旋轉結構包括轉軸以及與轉軸轉動連接的卡盤，轉軸與卡盤內孔之間存在間隙，在清洗過程中，清洗液容易進入到該間隙內。
[0003]現有技術是在轉軸與卡盤內孔之間盡量留有足夠小間隙，并用氮氣使間隙內為微正壓，以防止液體流入間隙。
[0004]這種方法的缺陷是：1、較小的機械間隙對機械安裝精度有較高要求，對安裝人員要求高，也難保證動靜零件之間不發生摩擦，造成磨損和顆粒污染。2、氮氣的微正壓不能保證液體不流入間隙。
技術實現思路
[0005]本技術所要解決的技術問題是提供一種應用于半導體清洗設備的防漏液旋轉結構，通過環形凸緣和圓臺配合遮擋住卡盤內孔與轉軸之間的間隙，極大程度的減少沖洗液進入到該間隙內，且整體結構不影響轉軸與卡盤之間的旋轉動作，也不影響其它裝配關系，對半導體清洗工藝也沒有影響。
[0006]本技術解決其技術問題所采用的技術方案是：提供一種應用于半導體清洗設備的防漏液旋轉結構，包括轉軸，所述的轉軸上部轉動安裝有卡盤，該卡盤上端中部設置有向上凸起的圓臺，所述的轉軸上端位于圓臺的上方設置有圓板部，該圓板部下端沿著邊緣布置有一圈環形凸緣，所述的環形凸緣罩住圓臺。
[0007]作為對本技術所述的技術方案的一種補充，所述的轉軸和圓板部采用一體成型。
[0008]作為對本技術所述的技術方案的一種補充，所述的轉軸內部沿軸向豎直開設有一通孔，該通孔上端貫穿圓板部的上端面。
[0009]作為對本技術所述的技術方案的一種補充，所述的卡盤沿著邊緣均勻開設有多個裝配口。
[0010]作為對本技術所述的技術方案的一種補充，所述的卡盤上端開設有圓形凹槽，該卡盤上端圍繞著圓形凹槽均勻布置有多個排水通道，所述的排水通道一端與圓形凹槽連通，該排水通道另一端貫穿卡盤的外側壁，所述的圓臺設置在圓形凹槽底面的中部。
[0011]有益效果：本技術涉及一種應用于半導體清洗設備的防漏液旋轉結構，將卡盤上端中部進行抬升形成圓臺，圓板部的邊緣向下延伸形成環形凸緣，環形凸緣套在圓臺外，通過環形凸緣和圓臺配合遮擋住卡盤內孔與轉軸之間的間隙，極大程度的減少沖洗液
進入到該間隙內，且整體結構不影響轉軸與卡盤之間的旋轉動作，也不影響其它裝配關系，對半導體清洗工藝也沒有影響。
附圖說明
[0012]圖1是本技術的結構示意圖；
[0013]圖2是本技術所述的轉軸和圓板部的局部示意圖；
[0014]圖3是本技術的俯視圖。
[0015]圖示：1、轉軸，2、卡盤，3、圓板部，4、圓臺，5、環形凸緣，6、通孔，7、裝配口，8、圓形凹槽，9、排水通道。
具體實施方式
[0016]下面結合具體實施例，進一步闡述本技術。應理解，這些實施例僅用于說明本技術而不用于限制本技術的范圍。此外應理解，在閱讀了本技術講授的內容之后，本領域技術人員可以對本技術作各種改動或修改，這些等價形式同樣落于本申請所附權利要求書所限定的范圍。
[0017]本技術的實施方式涉及一種應用于半導體清洗設備的防漏液旋轉結構，如圖1
?
3所示，包括轉軸1，所述的轉軸1上部轉動安裝有卡盤2，該卡盤2上端中部設置有向上凸起的圓臺4，所述的轉軸1上端位于圓臺4的上方設置有圓板部3，該圓板部3下端沿著邊緣布置有一圈環形凸緣5，所述的環形凸緣5罩住圓臺4；卡盤2用于固定硅片。
[0018]所述的卡盤2上端開設有圓形凹槽8，該卡盤2上端圍繞著圓形凹槽8均勻布置有多個排水通道9，所述的排水通道9一端與圓形凹槽8連通，該排水通道9另一端貫穿卡盤2的外側壁，所述的圓臺4設置在圓形凹槽8底面的中部。
[0019]本技術將卡盤2上端中部進行抬升形成圓臺4，圓板部3的邊緣向下延伸形成環形凸緣5，環形凸緣5套在圓臺4外，通過環形凸緣5和圓臺4配合遮擋住卡盤2內孔與轉軸1之間的間隙，極大程度的減少沖洗液進入到該間隙內，且整體結構不影響轉軸1與卡盤2之間的旋轉動作，也不影響其它裝配關系，對半導體清洗工藝也沒有影響。已投入使用幾年，解決了設備生產商未解決的難題，效果非常好。
[0020]通過環形凸緣5和圓臺4配合形成類似傘形結構，達到防漏液目的，同時安裝間隙變大，利于作業拆裝。
[0021]本技術還將卡盤2上端向下沉形成圓形凹槽8，通過多個排水通道9進行排液，圓臺4設置在圓形凹槽8底面的中部，通過開設圓形凹槽8，使得圓臺4上端面與圓形凹槽8底面之間的間距較大，減少沖洗液進入到卡盤2內孔與轉軸1之間的間隙內。
[0022]所述的轉軸1和圓板部3采用一體成型，保證轉軸1和圓板部3之間的連接強度以及結構穩定性。
[0023]所述的轉軸1內部沿軸向豎直開設有一通孔6，該通孔6上端貫穿圓板部3的上端面；該通孔6用于通沖洗液，沖洗液可以沖洗安裝在卡盤2上的硅片。
[0024]所述的卡盤2沿著邊緣均勻開設有多個裝配口，該裝配口可以用于安裝壓緊裝置。壓緊裝置用于夾緊硅片，壓緊裝置是工裝夾具中常用的部件，市面上可直接買到。
[0025]在本技術的描述中，需要理解的是，方位詞如“前、后、上、下、左、右”、“橫向、
豎向、垂直、水平”和“頂、底”等所指示的方位或位置關系通常是基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本技術和簡化描述，在未作相反說明的情況下，這些方位詞并不指示和暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位或者以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本技術保護范圍的限制；方位詞“內、外”是指相對于各部件本身的輪廓的內外。
[0026]為了便于描述，在這里可以使用空間相對術語，如“在
……
之上”、“在
……
上方”、“在
……
上表面”、“上面的”等，用來描述如在圖中所示的一個器件或特征與其他器件或特征的空間位置關系。應當理解的是，空間相對術語旨在包含除了器件在圖中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附圖中的器件被倒置，則描述為“在其他器件或構造上方”或“在其他器件或構造之上”的器件之后將被定位為“在其他器件或構造下方”或“在其他器件或構造之下”。因而，示例性術語“在
……
上方”可以包括“在
……
上方”和“在
……
下方”兩種方位。該器件也可以其他不同方式定位(旋轉90度或處于其他方位)，并且對這里所使用的空間相對描述做出相應解釋。
[0027]此外，需要說明的是，使用“第一”、“第二”等詞語來限定零部件，僅僅是為了便于對相應零部件進行區別，如沒有另行聲明，本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
1.一種應用于半導體清洗設備的防漏液旋轉結構，包括轉軸(1)，其特征在于：所述的轉軸(1)上部轉動安裝有卡盤(2)，該卡盤(2)上端中部設置有向上凸起的圓臺(4)，所述的轉軸(1)上端位于圓臺(4)的上方設置有圓板部(3)，該圓板部(3)下端沿著邊緣布置有一圈環形凸緣(5)，所述的環形凸緣(5)罩住圓臺(4)。2.根據權利要求1所述的一種應用于半導體清洗設備的防漏液旋轉結構，其特征在于：所述的轉軸(1)和圓板部(3)采用一體成型。3.根據權利要求1所述的一種應用于半導體清洗設備的防漏液旋轉結構，其特征在于：所述的轉軸(1)內部沿軸...
【專利技術屬性】
技術研發人員：劉亮榮，劉建剛，盧鋒，
申請(專利權)人：浙江金瑞泓科技股份有限公司，
類型：新型
國別省市：
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