一種涂布裝置，將涂布液涂布在基板上，其特征在于，具有： 載物臺，在其上表面上裝載所述基板； 噴嘴，在所述載物臺上的空間，從其前端部噴出所述涂布液； 局部環境生成機構，其對涂布空間局部性地供給規定氣體，在規定的環境下進行所述涂布液的涂布，該涂布空間包括所述噴嘴噴出涂布液的空間以及所述涂布液所涂布的基板的涂布部位。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及一種，尤其涉及一種從噴嘴向裝載于載物臺上的基板噴出有機EL材料等涂布液而進行涂布的。
技術介紹
一直以來，都在對將涂布液涂布于基板等被處理物體的涂布裝置進行各種開發。例如，在制造有機EL(Electro Luminescence電致發光)顯示裝置的裝置中，采用這樣的涂布裝置在被裝載于載物臺上的玻璃基板等基板的主面通過噴嘴以規定的圖案形狀涂布空穴輸送材料或有機EL材料。在該涂布裝置中，從噴嘴以規定的壓力噴出涂布液(有機EL材料或空穴輸送材料)。具體而言，在涂布裝置所具有的槽等供給源貯存涂布液，利用泵對從供給源所供給的涂布液進行增壓，并用被設置于配管內的過濾器除去異物之后，從噴嘴被噴出。一般地，眾所周知，有機EL材料的品質會因氧化而惡化。因此，在向基板涂布有機EL材料時，必須防止該有機EL材料的氧化。例如，在JP特開2004-164873號公告(以下記為專利文獻1)公開了為了防止這種有機EL材料的品質惡化而在管理氧氣濃度的同時進行制造的技術。專利文獻1所公開的制造裝置，在腔室(chamber)內配列涂布裝置、干燥裝置、熱固化裝置、基板層壓裝置等，使該腔室內成為氮氣環境來進行制造。另外，例如在JP特開2001-237178號公報(以下記為專利文獻2)開發了一種膜形成裝置，該膜形成裝置雖然和涂布有機EL材料或空穴輸送材料的
不同，但是從噴嘴噴出涂布液，并且連續地、一氣呵成地在晶片上涂布涂布液。如上述專利文獻2的圖38所公開那樣，該膜形成裝置使支撐噴出噴嘴85的滑動91沿著導向軸98a以及98b進行往復移動。另外，驅動帶92沿著和導向軸98a以及98b的并排設置方向相同的方向可轉動地被架設在兩個驅動帶輪93以及驅動帶輪94(參照上述專利文獻2的圖6)之間。并且，滑動91與驅動帶92相連接，受到來自驅動帶92的驅動力而沿著導向軸98a以及98b移動。通過這種結構，構成上述膜形成裝置的移動裝置86。另一方面，如上述專利文獻2的圖36所示，移動裝置86以在被膜形成體、即晶片W上橫向架設的方式而被設置。然后，從噴出噴嘴85向晶片W上噴出涂布液的同時，使滑動91進行往復移動，從而在晶片W上形成了膜。但是，在上述專利文獻1所公開的制造裝置中，由于將多個裝置設置在一個腔室內，所以腔室內的容積變大。也就是，為了使腔室內變為氮氣環境，必須供給大量的氮氣。另外，為了向上述腔室供給氮氣來保持在所希望的氧氣濃度，需要設置多個吸氣/排氣泵或閘門，裝置本身變復雜。因此，存在制造成本和裝置成本變大的問題。另外，在使大空間變為氮氣環境時，存在因人進入該空間而產生窒息等危險要素，從而也產生出在安全方面的課題。另外，在使被架設在帶輪之間的驅動帶的一側的帶輪被驅動的情況下，因帶輪和驅動帶的接觸而成為發塵源。并且，在帶輪附近產生的粉塵附著在驅動帶上，伴隨該驅動帶的動作，被運送到支撐噴出噴嘴的滑動往復移動的空間，有可能會落到被裝載于其下的被涂布體(例如，專利文獻2中的晶片W)上。也就是，因帶輪和驅動帶的接觸而產生的粉塵(顆粒)附著在被涂布體上，從而導致被涂布體的制造品質顯著下降。另一方面，考慮通過設置覆蓋驅動帶和帶輪接觸的附近的空間的罩，并具備從由該罩包圍的密閉空間向外部排氣的機構，將產生的粉塵排出到外部。但是，即使具有這種排氣設備，也不能完全地防止產生的粉塵從上述密閉空間向滑動進行往復移動的空間流出。另外，考慮通過設置覆蓋滑動進行往復移動的空間的罩，并具有從由該罩包圍的密閉空間向外部排氣的機構，將流到了該空間的粉塵排到外部。但是，在覆蓋滑動進行往復移動的空間的罩至少必須形成噴出噴嘴能在罩外部進行往復移動那樣的開口部(例如，以往復移動方向為長軸方向的狹縫狀的開口部)。因此，由于流到滑動進行往復移動的空間的粉塵有可能經由開口部而落到被涂布體上，因而粉塵會附著在被涂布體上。
技術實現思路
因此，本專利技術的目的是提供一種防止涂布液的氧化并考慮了成本方面和安全方面的。另外，本專利技術的另一目的是提供一種防止異物落到作為被涂布體的基板上的。為了實現上述目的，本專利技術具有如下所述特征。第一方案是在基板上涂布涂布液的涂布裝置。涂布裝置具有載物臺、噴嘴、以及局部環境生成機構。載物臺將基板裝載于其上。噴嘴在載物臺上的空間，從其前端部噴出涂布液。局部環境生成機構，對于包含噴嘴噴出涂布液的空間、以及涂布液所涂布的基板的涂布部位的涂布空間，局部性地提供規定氣體，在規定的環境進行涂布液的涂布。第二方案為，在上述第一方案中還具有噴嘴移動機構。噴嘴移動機構，在載物臺上的空間，在橫貫該載物臺面的方向使噴嘴往復移動。局部環境生成機構具有第一箱體以及第一供給口。第一箱體包圍載物臺而設置，隔開噴嘴移動機構配置的空間和該載物臺配置的空間。第一供給口設置在第一箱體，對該第一箱體的內部空間提供規定氣體。第三方案為，在上述第二方案中，第一箱體包圍載物臺裝載基板進行移動的空間而設置。第四方案為，在上述第二方案中，第一箱體的上面配置在載物臺和噴嘴移動機構之間。在第一箱體的上面形成噴嘴的至少一部分從噴嘴移動機構側向該第一箱體內突出而進行往復移動的開口部。第五方案為，在上述第二方案中，局部環境生成機構還具有排氣口。排氣口設置在第一箱體并將該第一箱體的內部空間內的氣體排出到外部。第六方案為，在上述第五方案中，第一供給口設置在第一箱體的一端的側面。排氣口設置于與在第一箱體設置第一供給口的一端的側面相對的另一端的側面。第七方案為，在上述第五方案中，第一供給口以及排氣口相對于第一箱體分別設置多個。第八方案為，在上述第五方案中，排氣口設置在第一箱體的底部附近。第九方案為，在上述第二方案中，環境生成機構還具有第二箱體。第二箱體包圍了包含噴嘴移動機構的第一箱體的上部空間而設置。第十方案為，在上述第九方案中，局部環境生成機構還具有排氣口。排氣口設置在第二箱體并將該第二箱體的內部空間內的氣體排出到外部。第十一方案為，在上述第九方案中，在第二箱體形成噴嘴的至少一部分從噴嘴移動機構側向該第一箱體內突出而進行往復移動的開口部。第十二方案為，在上述第九方案中，局部環境生成機構還具有第三箱體。第三箱體設置在第二箱體內并包圍了噴嘴移動機構而設置第十三方案為，在上述第十二方案中，在第三箱體形成噴嘴的至少一部分從噴嘴移動機構側向該第一箱體內突出而進行往復移動的開口部、和連通該第三箱體內的空間和該第三箱體的外側的第二箱體內的空間的開口部。第十四方案為，在上述第十二方案中，局部環境生成機構還具有其他的供給口。其他的供給口設置在第三箱體并向將該第三箱體的內部空間供給規定氣體。第十五方案為，在上述第十二方案中，局部環境生成機構還具有排氣口。排氣口被設置在第三箱體并將該第三箱體的內部空間內的氣體排出到外部。第十六方案為，在上述第二方案中，在第一箱體的上表面形成噴嘴的至少一部分從噴嘴移動機構側突出而進行往復移動的開口部。局部環境生成機構還具有第二箱體、第一排氣口、以及第二排氣口。第二箱體包圍噴嘴移動機構而設置在第一箱體的上部。第一排體口被設置在第一箱體，將該第一箱體的內部空間內的氣體排出到外部。第二排氣口被設置在第二箱體，將該第二箱體的內部空間內的氣體排出到外部。直到第一箱體內的規定空間達到規定氧氣濃度為止，將從第一供給口提供的本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種涂布裝置，將涂布液涂布在基板上，其特征在于，具有：載物臺，在其上表面上裝載所述基板；噴嘴，在所述載物臺上的空間，從其前端部噴出所述涂布液；局部環境生成機構，其對涂布空間局部性地供給規定氣體，在規定的環境下進行所述涂布液的涂布，該涂布空間包括所述噴嘴噴出涂布液的空間以及所述涂布液所涂布的基板的涂布部位。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：吉田順一，增市干雄，高村幸宏，上野博之，川越理史，松家毅，
申請(專利權)人：大日本網目版制造株式會社，
類型：發明
國別省市：JP
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