本實用新型專利技術公開了一種ETFE薄膜電暈裝置，包括工作臺及其表面設置的機架，所述機架的左側面開設有ETFE薄膜的進料口，機架的右側面開設有ETFE薄膜的出料口，所述進料口及出料口處分別安裝有導入輥和導出輥。所述機架內設有串行布置的第一電暈輥和第二電暈輥，第一電暈輥和第二電暈輥的上方設置有對ETFE薄膜進行電暈處理的電暈發生器，機架頂部通過固定架安裝有與電暈發生器固定連接的升降結構。有益效果：能調節電暈發生器與薄膜間的距離來調整電暈力度，避免電暈輥的溫度不斷升高，影響薄膜表面產生的游離基反應的進行以及造成薄膜發生熱收縮和粘輥問題。另外，導入輥內部均勻布置的加熱管可以對薄膜進行加熱，避免在溫度較低的天氣薄膜過分收縮。低的天氣薄膜過分收縮。低的天氣薄膜過分收縮。
【技術實現步驟摘要】
一種ETFE薄膜電暈裝置
[0001]本技術涉及ETFE薄膜加工
，尤其涉及一種ETFE薄膜電暈裝置。
技術介紹
[0002]薄膜的電暈主要用于塑料薄膜類產品的表面處理，為了使薄膜類產品的表面具有粘附力，防止原材料在生產過程中出現印刷甩色、粘貼不牢固等現象，需要對薄膜進行電暈處理，產生低溫等離子，使薄膜表面產生游離基反應而使聚合物發生交聯。
[0003]現有電暈發生器與薄膜之間的距離大多固定，而薄膜電暈裝置在持續工作過程中，電暈輥的溫度不斷升高，若電暈輥的溫度過高，會影響薄膜表面產生的游離基反應的進行以及造成薄膜發生熱收縮和粘輥問題；薄膜在電暈前由于是常溫環境，收卷的薄膜有時候會出現不平整、存在氣泡等情況，影響薄膜電暈；另外，電暈發生器出現損壞或異常時，需要停工檢修或維護，影響生產。
技術實現思路
[0004]本技術的目的是提供一種ETFE薄膜電暈裝置，能調節電暈發生器與薄膜間的距離來調整電暈力度，避免電暈輥的溫度不斷升高，影響薄膜表面產生的游離基反應的進行以及造成薄膜發生熱收縮和粘輥問題。另外，導入輥的外表面設置有彈性緩沖層，可以避免導入輥發生變形，且內部均勻布置的加熱管可以對薄膜進行加熱，避免在溫度較低的天氣薄膜過分收縮，提高ETFE薄膜在電暈時的效果和質量。
[0005]本技術的技術方案是這樣實現的：
[0006]一種ETFE薄膜電暈裝置，包括工作臺及其表面設置的機架，所述機架的左側面開設有ETFE薄膜的進料口，機架的右側面開設有ETFE薄膜的出料口，所述進料口及出料口處分別安裝有導入輥和導出輥，對ETFE薄膜進行導向輸送。
[0007]所述機架內設有第一電暈輥和第二電暈輥，所述第一電暈輥與第二電暈輥串行布置，所述第一電暈輥和第二電暈輥的上方設置有對ETFE薄膜進行電暈處理的電暈發生器，所述機架頂部通過固定架安裝有與電暈發生器連接的升降結構，通過升降結構帶動電暈發生器遠離或靠近ETFE薄膜，調整電暈力度。
[0008]進一步的，所述升降結構包括安裝在固定架上的左升降組件和右升降組件，并通過左升降組件和右升降組件與電暈發生器的頂部連接，共同驅動電暈發生器的升降。
[0009]進一步的，所述左升降組件和右升降組件均包括安裝在固定架頂端的電缸，所述電缸的輸出端連接有升降桿，所述升降桿遠離電缸的一端貫穿機架頂部，并與其內部電暈發生器的頂部固定連接；
[0010]滑塊，所述滑塊通過螺釘固定在升降桿的側面，且與滑軌滑動配合，所述滑軌通過固定板安裝在固定架上。
[0011]進一步的，所述第一電暈輥和第二電暈輥的底部兩側分別設置有壓輥，通過壓輥將薄膜壓緊在第一電暈輥和第二電暈輥上。
[0012]進一步的，所述導入輥的外表面設置有彈性緩沖層，所述導入輥的內部以其中心為圓心呈放射性間隔布置有若干加熱管。
[0013]本技術的有益效果是：
[0014](1)第一電暈輥、電暈發生器及升降結構形成電暈處理裝置，第二電暈輥、電暈發生器及升降結構形成備用電暈處理裝置，在電暈處理裝置出現故障時，通過控制器開啟備用電暈處理裝置，避免在生產時出現停機。升降結構包括左升降組件和右升降組件，并通過左升降組件和右升降組件與電暈發生器的頂部連接，共同驅動電暈發生器的升降，調整電暈力度，避免薄膜在電暈持續工作過程中，電暈輥的溫度不斷升高，影響薄膜表面產生的游離基反應的進行以及造成薄膜發生熱收縮和粘輥問題。
[0015](2)導入輥的外表面設置有彈性緩沖層，導入輥的內部以其中心為圓心呈放射性間隔布置有若干加熱管。薄膜在生產直至到電暈過程中，會逐漸冷卻收縮；通過在導入輥的外表面設置有彈性緩沖層，可以避免導入輥發生變形，且內部均勻布置的加熱管可以對薄膜進行加熱，避免在溫度較低的天氣薄膜過分收縮，提高ETFE薄膜在電暈時的效果和質量。
附圖說明
[0016]為了更清楚地說明本技術實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0017]圖1為一種ETFE薄膜電暈裝置的示意圖；
[0018]圖2為一種ETFE薄膜電暈裝置的內部示意圖；
[0019]圖3為升降結構的示意圖；
[0020]圖4為導入輥的結構的示意圖。
具體實施方式
[0021]下面將結合本技術實施例中的附圖，對本技術實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本技術一部分實施例，而不是全部的實施例。
[0022]在本技術的描述中，需要理解的是，術語“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“頂”、“底”、“內”、“外”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本技術和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本技術的限制。
[0023]根據本技術的實施例，提供了一種ETFE薄膜電暈裝置。
[0024]實施例1：
[0025]參照圖1和圖2，在本實施例中：ETFE薄膜電暈裝置包括工作臺1及其表面設置的機架2，機架2的左側面開設有ETFE薄膜的進料口3，機架2的右側面開設有ETFE薄膜的出料口4，且位于進料口3及出料口4處分別安裝有導入輥5和導出輥6，對ETFE薄膜進行導向輸送。
[0026]機架2內設有串行布置的第一電暈輥7和第二電暈輥8，第一電暈輥7和第二電暈輥8的上方設置有對ETFE薄膜進行電暈處理的電暈發生器9，機架2頂部通過固定架安裝有與
電暈發生器9固定連接的升降結構，通過升降結構帶動電暈發生器9遠離或靠近ETFE薄膜，調整電暈力度。
[0027]具體的，參照圖2和3所示，第一電暈輥7和第二電暈輥8的上方設置有對ETFE薄膜進行電暈處理的電暈發生器9，即第一電暈輥7、電暈發生器9及升降結構形成電暈處理裝置，且第二電暈輥8、電暈發生器9及升降結構形成備用電暈處理裝置，在電暈處理裝置出現故障時，通過控制器開啟備用電暈處理裝置，避免在生產時出現停機。
[0028]其中，升降結構包括左升降組件10和右升降組件11，并通過左升降組件10和右升降組件11與電暈發生器9的頂部連接，共同驅動電暈發生器9的升降。
[0029]具體的，通過電缸12的輸出端帶動升降桿13升降，并帶動機架2內電暈發生器9遠離或靠近ETFE薄膜，調整電暈力度，避免薄膜在電暈持續工作過程中，電暈輥的溫度不斷升高，影響薄膜表面產生的游離基反應的進行以及造成薄膜發生熱收縮和粘輥問題。
[0030]另外，升降桿13的側面通過滑塊14與滑軌15滑動配合，滑軌15通過固定板16安裝在固定架上，保證電暈發生器9在升降過程中的穩定性。
[0031]需要說明的是，在機架2內的第一本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
1.一種ETFE薄膜電暈裝置，其特征在于，包括工作臺(1)及其表面設置的機架(2)，所述機架(2)的左側面開設有ETFE薄膜的進料口(3)，機架(2)的右側面開設有ETFE薄膜的出料口(4)，所述進料口(3)及出料口(4)處分別安裝有導入輥(5)和導出輥(6)，對ETFE薄膜進行導向輸送；所述機架(2)內設有第一電暈輥(7)和第二電暈輥(8)，所述第一電暈輥(7)與第二電暈輥(8)串行布置，所述第一電暈輥(7)和第二電暈輥(8)的上方設置有對ETFE薄膜進行電暈處理的電暈發生器(9)，所述機架(2)頂部通過固定架安裝有與電暈發生器(9)連接的升降結構，通過升降結構帶動電暈發生器(9)遠離或靠近ETFE薄膜，調整電暈力度。2.根據權利要求1所述的一種ETFE薄膜電暈裝置，其特征在于，所述升降結構包括安裝在固定架上的左升降組件(10)和右升降組件(11)，并通過左升降組件(10)和右升降組件(11)與電暈發生器(9)的頂部連接，共同驅動電暈發...
【專利技術屬性】
技術研發人員：請求不公布姓名，
申請(專利權)人：安徽一星新材料科技有限公司，
類型：新型
國別省市：
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