【技術實現步驟摘要】
一種非接觸式物體體積測量方法、裝置、電子設備及介質
[0001]本專利技術主要涉及體積測量領域,特別涉及一種非接觸式物體體積測量方法、裝置、電子設備及介質。
技術介紹
[0002]隨著科技快速發展,在工業制造以及科學研究等各種領域中,很多情況需要測量相關物體的體積,例如在物料投放領域中需要測量物料的體積,在物流運輸領域中需要測量物品的體積,在石油化工領域中需要測量化工品的體積等等,然而很多物品由于存在易燃易爆等特性不方便直接測量。
技術實現思路
[0003]本申請的目的在于提供一種非接觸式物體體積測量方法、裝置、電子設備及介質,實現了在不接觸物體的前提下準確測量出物體體積。
[0004]第一方面,本申請提供一種物體體積測量方法,包括:獲取含有待測物體的深度圖像,得到場景點云數據;對場景點云數據進行預處理,得到待測物體點云數據;基于待測物體點云數據,在深度相機坐標系下建立待測物體對應的空間方程;根據待測物體對應的空間方程計算待測物體的高度;對待測物體點云數據進行投影處理,得到待測物體的上表面最小外接矩陣;根據待測物體的高度以及上表面最小外接矩陣計算出待測物體的體積。
[0005]本申請中,先獲取含有待測物體的深度圖像,得到場景點云數據;然后對場景點云數據進行預處理,得到待測物體點云數據;再基于待測物體點云數據,在深度相機坐標系下建立待測物體對應的空間方程;根據待測物體對應的空間方程計算待測物體的高度;接著對待測物體點云數據進行投影處理,得到待測物體的上表面最小外接矩陣;最后根據待測物體的 ...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
1.一種非接觸式物體體積測量方法,其特征在于,所述方法包括:獲取含有待測物體的深度圖像,得到場景點云數據;對所述場景點云數據進行預處理,得到待測物體點云數據;基于所述待測物體點云數據,在深度相機坐標系下建立所述待測物體對應的空間方程;根據所述待測物體對應的空間方程計算所述待測物體的高度;對所述待測物體點云數據進行投影處理,得到所述待測物體的上表面最小外接矩陣;根據所述待測物體的高度以及所述上表面最小外接矩陣計算出所述待測物體的體積。2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,對所述場景點云數據進行預處理,得到待測物體點云數據,包括:對所述場景點云數據進行空間剪裁濾波,得到空間剪裁濾波后的場景點云數據;對所述空間剪裁濾波后的場景點云數據進行體素濾波,得到體素濾波后的場景點云數據;對所述體素濾波后的場景點云數據進行統計濾波,得到統計濾波后的場景點云數據;對所述統計濾波后的場景點云數據進行點云分割,得到待測物體點云數據。3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,對所述場景點云數據進行空間剪裁濾波,得到空間剪裁濾波后的場景點云數據,包括:獲取所述場景點云數據中各點云數據對應的探測距離;濾除所述場景點云數據中所述探測距離大于探測閾值的點云數據,得到空間剪裁濾波后的場景點云數據。4.根據權利要求2或3所述的方法,其特征在于,所述對所述空間剪裁濾波后的場景點云數據進行體素濾波,得到體素濾波后的場景點云數據,包括:對所述空間剪裁濾波后的場景點云數據進行體素化,得到體素化后的場景點云數據,所述體素化后的場景點云數據分別位于若干個體素格中;當所述體素格中存在若干場景點云數據時,獲取所述若干場景點云數據分別到所述體素格的中心的距離;基于所述若干場景點云數據分別到所述體素格的中心的距離,保留所述到所述體素格的中心的距離最短的場景點云數據。5.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述對所述體素濾波后的場景點云數據進行統計濾波,得到統計濾波后的場景點云數據,包括:獲取所述體素濾波后的場景點云數據中每個場景點云數據對應的若干個臨近點,所述臨近點與所述場景點云數據之間的距離小于距離閾值;計算所述若干個臨近點到所述場景點云數據的平均距離;當所述平均距離大于標準閾值時,濾除所述平均距離大于標準閾值的場景點云數據。6.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述對所述統計濾波后的場景點云數據進行點云分割,得到待測物體點云數據,包括:分割出所述統計濾波后的場景點云數據中的地面點云數據,得到待測物體點云數據。7.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述待測物體點云數據,在深度相機坐標系下建立所述待測物體對應的空間方程,包括:
以所述深度相機為中心建立深度相機坐標系;基于所述深度相機坐標系,建立所述待測物體對應的上表面空間方程z
i
=a0x
i
+a1y
i
+a2以及所述待測物體對應的地面空間方程z
j
=b0x
j
+b1y
j
+b2,其中,x
i
、y
i
、z
i
分別為所述待測物體對應的第i個上表面點云數據的三維坐標值,a0、a1、a2分別為上表面空間方程的第一系數、第二系數及第三系數,x
j
、y
j
、z
j
分別為所述待測物體對應的第j個地面點云數據的三維坐標值,b0、b1、b2分別為地面空間方程的第四系數、第五系數及第六系數。8.根據權利要求7所述的方法,其特征在于,所述根據所述待測物體對應的空間方程計算所述待測物體的高度,包括:根據所述...
【專利技術屬性】
技術研發人員:劉晶晶,茍傲睿,陳霄翔,李煜,
申請(專利權)人:上海復瞰科技有限公司,
類型:發明
國別省市:
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