具套管的靜電消除噴嘴結(jié)構(gòu)制造技術(shù)

本實用新型專利技術(shù)是提供一種具套管的靜電消除噴嘴結(jié)構(gòu)，其主要是該離子放射針與該噴嘴之間置設(shè)一套管，以延長該離子放射針尖端周圍與該噴嘴之間距距離，當(dāng)該離子放射針經(jīng)電暈放電產(chǎn)生正負(fù)離子時，可避免該離子放射針的尖端周圍與該噴嘴之間產(chǎn)生電弧，進達改善漏電、高溫積炭現(xiàn)象，并可抵抗電暈放電所產(chǎn)生的臭氧，以達防止臭氧破壞該噴嘴周圍組件，進而改善粉塵現(xiàn)象，且經(jīng)由該噴嘴將正負(fù)離子傳導(dǎo)至目標(biāo)物上，進達中和消除目標(biāo)物所帶的靜電的目的。（*該技術(shù)在2016年保護過期，可自由使用*）

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

本技術(shù)涉及的是一種具套管的靜電消除噴嘴結(jié)構(gòu)。
技術(shù)介紹
如圖3所示，是為一般傳統(tǒng)靜電消除器的結(jié)構(gòu)，其主要是由一高壓產(chǎn)生器A、一金屬噴嘴B所組成，其中該高壓產(chǎn)生器A一端是置設(shè)有一進氣口A1，另一端則置設(shè)一離子放射針A2，該離子放射針A2外套一金屬噴嘴B，而該金屬噴嘴B置設(shè)于該高壓產(chǎn)生器A，藉由該離子放射針A2電暈放電釋放出正離子、負(fù)離子，并透過該金屬噴嘴B傳導(dǎo)正、負(fù)離子至需要消除靜電的目標(biāo)物；然，藉由離子放射針A2電暈放電釋放出正離子、負(fù)離子必需具備數(shù)千伏特高電壓，而該金屬噴嘴B由于是金屬材質(zhì)所構(gòu)成，當(dāng)進氣含有濕氣時，容易在該離子放射針A2的尖端周圍及該金屬噴嘴B之間產(chǎn)生電弧C，發(fā)生漏電現(xiàn)象，以致?lián)p害噴嘴產(chǎn)生粉塵，且電弧C所產(chǎn)生的高溫，極易使得放電針尖端產(chǎn)生積炭，而使離子釋放的性能劣化；此外，由于電暈放電所產(chǎn)生的高濃度臭氧以及臭氧所衍生出的氣體(如一氧化氮、二氧化氮、亞硝酸等)，極易破壞該金屬噴嘴B周圍產(chǎn)生粉塵；因此，如何將上述缺失加以摒除，改善漏電、積炭、粉塵等問題，即為本案創(chuàng)作人所欲解決的技術(shù)困難點的所在。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本技術(shù)的主要目的在于提供一種具套管的靜電消除噴嘴結(jié)構(gòu)，其是該離子放射針與該噴嘴之間置設(shè)一套管，俾以延長該離子放射針尖端周圍與該噴嘴之間距距離，俾當(dāng)該離子放射針經(jīng)電暈放電產(chǎn)生正負(fù)離子時，俾可避免該離子放射針的尖端周圍與該噴嘴之間產(chǎn)生電弧，進達改善漏電、高溫積炭現(xiàn)象，并可抵抗電暈放電所產(chǎn)生的臭氧，俾達防止臭氧破壞該噴嘴周圍組件，進而改善粉塵現(xiàn)象，且藉由該噴嘴將正負(fù)離子傳導(dǎo)至目標(biāo)物上，進達中和消除目標(biāo)物所帶的靜電的目的。為實現(xiàn)上述目的，本技術(shù)采用的技術(shù)方案是一種具套管的靜電消除噴嘴結(jié)構(gòu)，包含一離子放射針，該離子放射針是釋放正、負(fù)離子；一噴嘴，是用以傳導(dǎo)正、負(fù)離子于目標(biāo)物，又該噴嘴是接設(shè)于該套管一端；一套管，該套管是置設(shè)在該離子放射針與噴嘴之間。所述的套管為陶瓷材質(zhì)。所述的套管為鐵氟龍材質(zhì)。所述的噴嘴為金屬管材質(zhì)。所述的噴嘴為可彎曲金屬軟管。附圖說明圖1是本技術(shù)的立體示意圖；圖2是本技術(shù)噴嘴置設(shè)于可彎曲金屬軟管的示意圖；圖3是習(xí)用的示意圖。附圖標(biāo)記說明A-高壓產(chǎn)生器；A1-進氣口；A2-放電針；B-金屬噴嘴；C-電弧；1-高壓產(chǎn)生器；2-離子放射針；3-噴嘴；4-套管；5-可彎曲金屬軟管；51-外護層。具體實施方式請參閱圖1所示，本技術(shù)是提供一種具套管的靜電消除噴嘴結(jié)構(gòu)，其包含一離子放射針2、一噴嘴3、一套管4，其中該離子放射針2是置設(shè)于該高壓產(chǎn)生器1的一端，且該離子放射針2是以電暈放電釋放正、負(fù)離子；該噴嘴3是一端接設(shè)于該套管4一端，又該噴嘴3是用以傳導(dǎo)正、負(fù)離子于目標(biāo)物；該套管4其是具有絕緣特性，又該套管4是置設(shè)于該離子放射針2與該噴嘴3之間，俾以延長該離子放射針2尖端周圍與該噴嘴3之間距距離，俾可避免該離子放射針2與該噴嘴3之間產(chǎn)生電弧，且該套管4也可采用具有特殊特性(如耐熱、耐高溫、耐蝕性..等)的材質(zhì)(如陶瓷、鐵氟龍)；請再參閱圖2所示，其是該本技術(shù)的另一實施例，該噴嘴3可為可彎曲金屬軟管5，俾當(dāng)需要消除靜電的目標(biāo)物其位置有所移動時，俾可機動調(diào)整該可彎曲金屬軟管5，進達改變正、負(fù)離子釋放的路徑，并該可彎曲金屬軟管5可在外緣被覆外護層51，俾供輔助該可彎曲金屬軟管5為一保護層，又該可彎曲金屬軟管5的一端置設(shè)一套管4，俾可藉由延長該離子放射針2的尖端周圍與該可彎曲金屬軟管5之間距距離，進而避免該離子放射針2與該可彎曲金屬軟管5之間產(chǎn)生電弧，進達改善漏電、離子放射針2尖端周圍高溫積炭的現(xiàn)象，并可抵抗當(dāng)該離子放射針2透過電暈放電的方式釋放正、負(fù)離子時，致使該離子放射針2周圍產(chǎn)生高濃度臭氧，俾達防止臭氧破壞該噴嘴3周圍組件，進而改善粉塵現(xiàn)象；為使本技術(shù)更加顯現(xiàn)出其進步性與實用性，茲與習(xí)用作一比較分析如下習(xí)用缺點1、離子放射針的尖端與金屬噴嘴之間容易產(chǎn)生電弧發(fā)生漏電現(xiàn)象，損害噴嘴。2、漏電產(chǎn)生的高溫積炭導(dǎo)致離子釋放的性能劣化。3、離子放射針周圍的臭氧致使噴嘴周圍組件產(chǎn)生粉塵。本技術(shù)優(yōu)點1、避免該離子放射針與該噴嘴之間產(chǎn)生電弧，進而改善漏電。2、改善離子放射針高溫積炭現(xiàn)象。3、抵抗高濃度臭氧，進而改善粉塵現(xiàn)象。4、具實用性。5、具工商界及產(chǎn)業(yè)界上利用價值。綜上所述，以上所述僅為本案的較佳實施例，并非用以限制本技術(shù)，若依本技術(shù)的構(gòu)想所作的改變，在不脫離本技術(shù)精神范圍內(nèi)，例如對在構(gòu)形或布置型態(tài)加以變換，對在各種變化，修飾與應(yīng)用，所產(chǎn)生等效作用，均應(yīng)包含在本案的權(quán)利范圍內(nèi)。權(quán)利要求1.一種具套管的靜電消除噴嘴結(jié)構(gòu)，其特征在于包含一離子放射針，該離子放射針是釋放正、負(fù)離子；一噴嘴，是用以傳導(dǎo)正、負(fù)離子于目標(biāo)物，又該噴嘴是接設(shè)于該套管一端；一套管，該套管是置設(shè)在該離子放射針與噴嘴之間。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具套管的靜電消除噴嘴結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的套管為陶瓷材質(zhì)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具套管的靜電消除噴嘴結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的套管為鐵氟龍材質(zhì)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具套管的靜電消除噴嘴結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的噴嘴為金屬管材質(zhì)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具套管的靜電消除噴嘴結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的噴嘴為可彎曲金屬軟管。專利摘要本技術(shù)是提供一種具套管的靜電消除噴嘴結(jié)構(gòu)，其主要是該離子放射針與該噴嘴之間置設(shè)一套管，以延長該離子放射針尖端周圍與該噴嘴之間距距離，當(dāng)該離子放射針經(jīng)電暈放電產(chǎn)生正負(fù)離子時，可避免該離子放射針的尖端周圍與該噴嘴之間產(chǎn)生電弧，進達改善漏電、高溫積炭現(xiàn)象，并可抵抗電暈放電所產(chǎn)生的臭氧，以達防止臭氧破壞該噴嘴周圍組件，進而改善粉塵現(xiàn)象，且經(jīng)由該噴嘴將正負(fù)離子傳導(dǎo)至目標(biāo)物上，進達中和消除目標(biāo)物所帶的靜電的目的。文檔編號H05F3/06GK2909781SQ20062000133公開日2007年6月6日 申請日期2006年1月25日 優(yōu)先權(quán)日2006年1月25日專利技術(shù)者高俊杰 申請人:海豐科技股份有限公司本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】
一種具套管的靜電消除噴嘴結(jié)構(gòu)，其特征在于：包含：　　　　一離子放射針，該離子放射針是釋放正、負(fù)離子；　　　　一噴嘴，是用以傳導(dǎo)正、負(fù)離子于目標(biāo)物，又該噴嘴是接設(shè)于該套管一端；　　　　一套管，該套管是置設(shè)在該離子放射針與噴嘴之間。

【技術(shù)特征摘要】

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：高俊杰，
申請(專利權(quán))人：海豐科技股份有限公司，
類型：實用新型
國別省市：71[中國|臺灣]