一種光譜的測量方法、測量系統以及存儲介質,測量方法包括:調節光學組件的透過率,在積分球的開口設置光學組件;采用光譜儀測量積分球的測量點的光譜,得到標準燈的第一測量光譜;采用光譜儀測量積分球的測量點的光譜,得到待測燈的第二測量光譜;改變光學組件的透過率,重復測量,得到對應每個透過率下的第一測量光譜以及第二測量光譜;獲取所有第一測量光譜以及所有第二測量光譜,采用擬合函數擬合得到關于第一光譜與第二光譜的擬合參數;根據第一光譜以及擬合參數,計算得到第二光譜。本申請可以快速、準確地計算出待測燈的第二光譜。準確地計算出待測燈的第二光譜。準確地計算出待測燈的第二光譜。
【技術實現步驟摘要】
一種光譜的測量方法、測量系統以及存儲介質
[0001]本專利技術涉及內窺鏡光源
,具體涉及一種光譜的測量方法、測量系統以及存儲介質。
技術介紹
[0002]在醫用內窺鏡中,光源的光譜以及色溫對成像的質量影響很大,需要對內窺鏡光源的光譜做準確的測量。比較常見的測量設備是使用光譜儀和積分球對光源的光譜進行測量。
[0003]積分球是一種在內部涂有光譜反射率高而且均勻的材料的空心球體,通常會在球面開設有開口以接收待測光源的光。另外,積分球也有接口連接光譜儀,對光譜進行采樣測量。
[0004]現有的光譜測量方式,需要一個已經確定光譜的標準燈作為對比參照,通過光譜儀的讀數按比例計算待測燈的光譜。這樣的對比測量比較快速,但是存在著測量不準確的問題。尤其是當標準燈和待測光源的表面形狀或者反射率較大差異時尤為突出。其原因在于,在積分球的開口存在漏光。從開口漏出來的光在經過球體外的標準燈或者待測光源的反射會重新回到積分球,而且這部分反射的回光因外面標準燈或者待測燈形狀而不同。從而給測量帶來誤差。
技術實現思路
[0005]本專利技術主要解決的技術問題是現有光譜測量存在誤差較大的技術問題。
[0006]根據第一方面,一種實施例中提供一種光譜的測量方法,應用于測量系統中,測量系統包括標準燈、積分球、光譜儀以及光學組件,光學組件具有至少三個可調節的透過率,測量方法包括:
[0007]調節光學組件的透過率,在積分球的開口設置光學組件;
[0008]開啟標準燈,標準燈的光通過光學組件以及開口后進入積分球內;采用光譜儀測量積分球的測量點的光譜,得到標準燈的第一測量光譜;標準燈具有確定的第一光譜;
[0009]開啟待測燈,待測燈的光通過光學組件以及開口后進入積分球內;采用光譜儀測量積分球的測量點的光譜,得到待測燈的第二測量光譜;待測燈具有待測的第二光譜;
[0010]改變光學組件的透過率,重復測量,得到對應每個透過率下的第一測量光譜以及第二測量光譜;
[0011]獲取所有第一測量光譜以及所有第二測量光譜,采用擬合函數擬合得到關于第一光譜與第二光譜的擬合參數;根據第一光譜以及擬合參數,計算得到第二光譜。
[0012]根據第二方面,一種實施例中提供一種光譜的測量系統,用于測量待測燈的第二光譜,測量系統包括:
[0013]標準燈,具有確定的第一光譜;
[0014]積分球,具有開口以及一個測量點,開口相對于積分球的內表面積的占比為第一
占比;
[0015]光譜儀,用于連接積分球,測量測量點的光譜;
[0016]光學組件,設置在開口前,具有至少三個可調節的透過率;標準燈以及待測燈分別通過光學組件以及開口后進去積分球內,光譜儀輸出標準燈在每個透過率下的第一測量光譜,輸出待測燈在每個透過率下的第二測量光譜;
[0017]處理模塊,根據所有第一測量光譜以及所有第二測量光譜,采用擬合函數擬合得到關于第一光譜與第二光譜的擬合參數;根據第一光譜以及擬合參數,計算得到第二光譜。
[0018]根據第三方面,一種實施例中提供一種計算機可讀存儲介質,介質上存儲有程序,程序能夠被處理器執行以實現如第一方面所描述的測量方法。
[0019]依據上述實施例的光譜的測量方法、測量系統以及存儲介質,通過在積分球的開口處設置光學組件,通過多個透射率測試環境,可以將第一測量光譜以及第二測量光譜進行擬合,計算得到關于第一光譜與第二光譜的擬合參數,根據已確定的第一光譜計算得到待測燈的第二光譜,采用該測試方法可以快速、準確地計算出待測燈的第二光譜,尤其適合大批量測試需求。
附圖說明
[0020]圖1為現有的一種光譜的測量系統的結構示意圖(一);
[0021]圖2為現有的一種光譜的測量系統的結構示意圖(二);
[0022]圖3為現有的另一種光譜的測量系統的結構示意圖(一);
[0023]圖4為現有的另一種光譜的測量系統的結構示意圖(二);
[0024]圖5為本申請一種實施例提供的測量系統的結構示意圖(一);
[0025]圖6為本申請一種實施例提供的測量系統的結構示意圖(二);
[0026]圖7為本申請一種實施例提供的光學組件的結構示意圖(一);
[0027]圖8為本申請一種實施例提供的光學組件的結構示意圖(二);
[0028]圖9為本申請一種實施例提供的光學組件的結構示意圖(三);
[0029]圖10為本申請一種實施例提供的測量方法的流程圖。
[0030]附圖標記:1
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標準燈;2
?
積分球;201
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測量點;202
?
開口;3
?
光譜儀;301
?
光纖;4
?
光學組件;41
?
轉盤;42
?
濾光片;43
?
偏振片;5
?
處理模塊;6
?
待測燈。
具體實施方式
[0031]下面通過具體實施方式結合附圖對本專利技術作進一步詳細說明。其中不同實施方式中類似元件采用了相關聯的類似的元件標號。在以下的實施方式中,很多細節描述是為了使得本申請能被更好的理解。然而,本領域技術人員可以毫不費力的認識到,其中部分特征在不同情況下是可以省略的,或者可以由其他元件、材料、方法所替代。在某些情況下,本申請相關的一些操作并沒有在說明書中顯示或者描述,這是為了避免本申請的核心部分被過多的描述所淹沒,而對于本領域技術人員而言,詳細描述這些相關操作并不是必要的,他們根據說明書中的描述以及本領域的一般技術知識即可完整了解相關操作。
[0032]另外,說明書中所描述的特點、操作或者特征可以以任意適當的方式結合形成各種實施方式。同時,方法描述中的各步驟或者動作也可以按照本領域技術人員所能顯而易
見的方式進行順序調換或調整。因此,說明書和附圖中的各種順序只是為了清楚描述某一個實施例,并不意味著是必須的順序,除非另有說明其中某個順序是必須遵循的。
[0033]本文中為部件所編序號本身,例如“第一”、“第二”等,僅用于區分所描述的對象,不具有任何順序或技術含義。而本申請所說“連接”、“聯接”,如無特別說明,均包括直接和間接連接(聯接)。
[0034]如圖1與圖2所示,現有的第一種光譜測量方式,如圖1所示,在積分球出口安裝標準燈(已經測量過其光譜為φ1),打開標準燈,光譜儀的讀數為y1。
[0035]如圖2所示,在積分球開口安裝待測燈(內窺鏡端頭),打開內窺鏡光源,光譜系的讀數為y2。
[0036]此時可以計算得到內窺鏡光源的光譜為:φ2=y2×
φ1/y1。
[0037]以上的測量方式測量比較快速,但是存在著測量不準確的問題。尤其是當標準燈和待測光源(待測燈)的表面形狀或者反射率較大差異時尤為突出。其原因在于,在積分球的開口存在漏光。從開口漏出來本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
1.一種光譜的測量方法,其特征在于,應用于測量系統中,所述測量系統包括標準燈、積分球、光譜儀以及光學組件,所述光學組件具有至少三個可調節的透過率,所述測量方法包括:調節光學組件的透過率,在所述積分球的開口設置所述光學組件;開啟標準燈,所述標準燈的光通過所述光學組件以及所述開口后進入所述積分球內;采用所述光譜儀測量所述積分球的測量點的光譜,得到所述標準燈的第一測量光譜;所述標準燈具有確定的第一光譜;開啟待測燈,所述待測燈的光通過所述光學組件以及所述開口后進入所述積分球內;采用所述光譜儀測量所述積分球的測量點的光譜,得到所述待測燈的第二測量光譜;所述待測燈具有待測的第二光譜;改變所述光學組件的透過率,重復測量,得到對應每個透過率下的所述第一測量光譜以及第二測量光譜;獲取所有所述第一測量光譜以及所有所述第二測量光譜,采用擬合函數擬合得到關于第一光譜與第二光譜的擬合參數;根據所述第一光譜以及所述擬合參數,計算得到所述第二光譜。2.如權利要求1所述的測量方法,其特征在于,所述擬合函數為:其中,a為所述擬合參數,b=x
×
r1,c=x
×
r2,r1為所述標準燈在所述開口處漏光的反射比,r2為所述待測燈在所述開口處漏光的反射比,x為開口面積和積分球內表面積之比,即第一占比,t為所述光學組件的透過率;y1為所述第一測量光譜,y2為所述第二測量光譜;采用如下公式1計算所述第二光譜:φ2=φ1×
a;其中,φ1為所述第一光譜,φ2為所述第二光譜。3.如權利要求1所述的測量方法,其特征在于,所述光學組件的所有透過率均小于或等于0.1。4.如權利要求1
?
3任一項所述的測量方法,其特征在于,所述光學組件包括至少三個濾光片,每個所述濾光片具有不同的透過率,一個所述濾光片或多個所述濾光片...
【專利技術屬性】
技術研發人員:蘇勝飛,朱能杰,許訊,
申請(專利權)人:深圳因賽德思醫療科技有限公司,
類型:發明
國別省市:
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