本實(shí)用新型專利技術(shù)公開(kāi)了掩模組件和包括掩模組件的顯示裝置的制造裝置。本實(shí)用新型專利技術(shù)包括：掩模框架，具有開(kāi)口區(qū)域并且具有槽；多個(gè)掩模片，布置于所述開(kāi)口區(qū)域；以及第一支承框架，所述掩模片布置在所述第一支承框架的上部，且所述第一支承框架布置成穿過(guò)所述開(kāi)口區(qū)域，并且支承所述多個(gè)掩模片中的彼此相鄰的所述掩模片，其中，當(dāng)在平面上觀察時(shí)，所述掩模片的末端和所述第一支承框架的末端布置于所述槽的內(nèi)部。所述第一支承框架的末端布置于所述槽的內(nèi)部。所述第一支承框架的末端布置于所述槽的內(nèi)部。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
掩模組件及包括掩模組件的顯示裝置的制造裝置
[0001]本技術(shù)的實(shí)施例涉及裝置，更具體地，涉及掩模組件及包括掩模組件的顯示裝置的制造裝置。
技術(shù)介紹
[0002]基于移動(dòng)性的電子設(shè)備正在被廣泛地使用。近來(lái)，除了諸如移動(dòng)電話的小型電子設(shè)備之外，平板PC也被廣泛地用作移動(dòng)電子設(shè)備。
[0003]為了支持各種功能，這種移動(dòng)電子設(shè)備包括顯示裝置以向用戶提供諸如圖像或影像的視覺(jué)信息。近來(lái)，隨著用于驅(qū)動(dòng)顯示裝置的其它部件變得小型化，顯示裝置在電子設(shè)備中所占的比重正在逐漸增加，并且也正在開(kāi)發(fā)能夠從平坦?fàn)顟B(tài)彎曲成具有預(yù)定的角度的結(jié)構(gòu)。這種顯示裝置可以使用掩模組件以形成薄膜。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
[0004]要解決的技術(shù)問(wèn)題
[0005]通常，當(dāng)使掩模組件和基板彼此緊貼并執(zhí)行沉積時(shí)，會(huì)有基板由于掩模組件而損壞或基板的內(nèi)部出現(xiàn)裂紋的情況。在這種情況下，不僅會(huì)導(dǎo)致最終產(chǎn)品的缺陷，而且會(huì)出現(xiàn)在使用最終產(chǎn)品時(shí)壽命縮短的問(wèn)題。本技術(shù)的實(shí)施例提供防止基板損壞的掩模組件及包括掩模組件的顯示裝置的制造裝置。
[0006]解決方法
[0007]本技術(shù)一實(shí)施例公開(kāi)一種掩模組件，所述掩模組件包括：掩模框架，具有開(kāi)口區(qū)域并且具有槽；多個(gè)掩模片，布置于所述開(kāi)口區(qū)域；以及第一支承框架，所述掩模片布置在所述第一支承框架的上部，且所述第一支承框架布置成穿過(guò)所述開(kāi)口區(qū)域，并且支承所述多個(gè)掩模片中的彼此相鄰的所述掩模片，其中，當(dāng)在平面上觀察時(shí)，所述掩模片的末端和所述第一支承框架的末端布置于所述槽的內(nèi)部。
[0008]在本實(shí)施例中，所述槽可以在所述多個(gè)掩模片所排列的第一方向上延伸。
[0009]在本實(shí)施例中，所述槽的側(cè)表面中的至少一個(gè)可以是傾斜的。
[0010]在本實(shí)施例中，所述槽的側(cè)表面中的傾斜的側(cè)表面可以從所述槽的邊沿越往所述槽的中央部分越低。
[0011]在本實(shí)施例中，所述掩模片的末端和所述第一支承框架的末端中的至少一個(gè)可以在遠(yuǎn)離所述掩模框架的方向上突出。
[0012]在本實(shí)施例中，所述掩模組件還可以包括：第二支承框架，穿過(guò)所述開(kāi)口區(qū)域，并且以與所述第一支承框架交叉的方式布置于所述掩模框架。
[0013]本技術(shù)另一實(shí)施例公開(kāi)一種顯示裝置的制造裝置，所述裝置包括：掩模組件，與基板相對(duì)地布置；以及沉積源，以所述掩模組件為基準(zhǔn)布置在所述基板的對(duì)面，并且向所述基板供應(yīng)沉積物質(zhì)，其中，所述掩模組件包括：掩模框架，具有開(kāi)口區(qū)域并且具有槽；多個(gè)掩模片，布置于所述開(kāi)口區(qū)域；以及第一支承框架，所述掩模片布置在所述第一支承框架的
上部，且所述第一支承框架布置成穿過(guò)所述開(kāi)口區(qū)域，并且支承所述多個(gè)掩模片中的彼此相鄰的所述掩模片，其中，當(dāng)在平面上觀察時(shí)，所述掩模片的末端和所述第一支承框架的末端布置于所述槽的內(nèi)部。
[0014]在本實(shí)施例中，所述槽可以在所述多個(gè)掩模片所排列的第一方向上延伸。
[0015]在本實(shí)施例中，所述槽的側(cè)表面中的至少一個(gè)可以是傾斜的。
[0016]在本實(shí)施例中，所述槽的側(cè)表面中的傾斜的側(cè)表面可以從所述槽的邊沿越往所述槽的中央部分越低。
[0017]在本實(shí)施例中，所述掩模片的末端和所述第一支承框架的末端中的至少一個(gè)可以在遠(yuǎn)離所述掩模框架的方向上突出。
[0018]在本實(shí)施例中，所述掩模框架還可以包括：第二支承框架，穿過(guò)所述開(kāi)口區(qū)域，并且以與所述第一支承框架交叉的方式布置于所述掩模框架。
[0019]在本實(shí)施例中，所述裝置還可以包括：冷卻板，以所述基板為中心布置在所述掩模組件的對(duì)面。
[0020]在本實(shí)施例中，所述裝置還可以包括：磁力部，以所述基板為中心布置在所述掩模組件的對(duì)面。
[0021]除前述內(nèi)容以外的其它方面、特征和優(yōu)點(diǎn)將從以下的附圖、本技術(shù)的詳細(xì)說(shuō)明中變得清楚。
[0022]可以使用系統(tǒng)、方法、計(jì)算機(jī)程序或系統(tǒng)、方法、計(jì)算機(jī)程序的某種組合來(lái)實(shí)施這些一般的和具體的方面。
[0023]有益效果
[0024]本技術(shù)的實(shí)施例所涉及的掩模組件、包括掩模組件的顯示裝置的制造裝置以及顯示裝置的制造方法可以在制造顯示裝置時(shí)減少基板的損壞。另外，本技術(shù)的實(shí)施例所涉及的掩模組件、包括掩模組件的顯示裝置的制造裝置以及顯示裝置的制造方法可以在制造顯示裝置時(shí)降低缺陷率。
附圖說(shuō)明
[0025]圖1是示出根據(jù)本技術(shù)一實(shí)施例的掩模組件的透視圖。
[0026]圖2是沿圖1中所示的掩模組件的線II
?
II截取的剖視圖。
[0027]圖3和圖4是示出圖2中所示的掩模片的末端和第一支承框架的末端的剖視圖。
[0028]圖5是示出根據(jù)本技術(shù)一實(shí)施例的顯示裝置的制造裝置的剖視圖。
[0029]圖6是示出根據(jù)本技術(shù)一實(shí)施例的顯示裝置的平面圖。
[0030]圖7是沿圖6中所示的顯示裝置的線VII
?
VII截取的剖視圖。
[0031]附圖標(biāo)記的說(shuō)明
[0032]100：顯示裝置的制造裝置
[0033]110：腔室
[0034]121：磁力部
[0035]122：冷卻板
[0036]130：支承部
[0037]140：視覺(jué)部
[0038]150：掩模組件
[0039]151：掩模框架
[0040]152：掩模片
[0041]153：第一支承框架
[0042]154：第二支承框架
[0043]160：沉積源
[0044]170：壓力調(diào)節(jié)部
[0045]20：顯示裝置
[0046]21：基板
具體實(shí)施方式
[0047]本技術(shù)可以進(jìn)行各種轉(zhuǎn)換并且可以具有各種實(shí)施例，將在附圖中例示特定的實(shí)施例并且進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。本技術(shù)的效果和特征以及實(shí)現(xiàn)效果和特征的方法將通過(guò)參照后面與附圖一起詳細(xì)描述的實(shí)施例而變得清楚。然而，本技術(shù)并不限于以下公開(kāi)的實(shí)施例，而是可以以各種形態(tài)實(shí)現(xiàn)。
[0048]以下，將參照附圖對(duì)本技術(shù)的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，且在參照附圖說(shuō)明時(shí)，與附圖標(biāo)記無(wú)關(guān)地，相同或?qū)?yīng)的構(gòu)成要素被賦予相同的參照符號(hào)，并省略對(duì)其的重復(fù)說(shuō)明。
[0049]在以下實(shí)施例中，“第一”、“第二”等術(shù)語(yǔ)以將一個(gè)構(gòu)成要素與另一個(gè)構(gòu)成要素區(qū)分開(kāi)的目的所使用，而不是以限定性的意義所使用。
[0050]在以下實(shí)施例中，除非在上下文中另外明確地指出，否則單數(shù)的表達(dá)包括復(fù)數(shù)的表達(dá)。
[0051]在以下實(shí)施例中，“包括”或“具有”等術(shù)語(yǔ)意味著存在說(shuō)明書(shū)中所記載的特征或構(gòu)成要素，并且不事先排除添加一個(gè)以上的其它特征或構(gòu)成要素的可能性。
[0052]在以下實(shí)施例中，當(dāng)膜、區(qū)域、構(gòu)成要素等的部分被稱為在另一部分“上面”或“上”時(shí)，不僅包括直接在另一部分上面的情況，而且也包括其它膜、區(qū)域、構(gòu)成要素等介于中間的情況。
[0053]在附圖中，為了便于說(shuō)明，可能夸大或縮小了構(gòu)成要素的大小本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
【技術(shù)特征摘要】
1.一種掩模組件，其特征在于，包括：掩模框架，具有開(kāi)口區(qū)域并且具有槽；多個(gè)掩模片，布置于所述開(kāi)口區(qū)域；以及第一支承框架，所述掩模片布置在所述第一支承框架的上部，且所述第一支承框架布置成穿過(guò)所述開(kāi)口區(qū)域，并且支承所述多個(gè)掩模片中的彼此相鄰的所述掩模片，其中，當(dāng)在平面上觀察時(shí)，所述掩模片的末端和所述第一支承框架的末端布置于所述槽的內(nèi)部。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件，其特征在于，所述槽在所述多個(gè)掩模片所排列的第一方向上延伸。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件，其特征在于，所述槽的側(cè)表面中的至少一個(gè)是傾斜的。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩模組件，其特征在于，所述槽的所述側(cè)表面中的傾斜的側(cè)表面從所述槽的邊沿越往所述槽的中央部分越低。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件，其特征在于，所述掩模片的所述末端和所述第一支承框架的所述末端中的至少一個(gè)在遠(yuǎn)離所述掩模框架的方向上突出。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模組件，其特征在于，還包括：第二支承框架，穿過(guò)所述開(kāi)口區(qū)域，并且以與所...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：李鍾大，張?jiān)瓨s，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：三星顯示有限公司，
類(lèi)型：新型
國(guó)別省市：
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