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    一種瑞美吉泮中間體的合成工藝制造技術(shù)

    技術(shù)編號(hào):37295588 閱讀:28 留言:0更新日期:2023-04-21 22:42
    本發(fā)明專利技術(shù)公開一種瑞美吉泮(Rimegepant)中間體,式VI所示化合物的合成工藝,該合成工藝涉及兩步疊縮(telescope)反應(yīng),未對(duì)中間體進(jìn)行純化,手性羥基通過酮還原酶催化的方法引入,合成式V所示化合物,所述酮還原酶的氨基酸序列如SEQ ID No.1所示。三步收率高達(dá)90.1%,并對(duì)式VI所示化合物的雜質(zhì)進(jìn)行了研究和控制,得到的產(chǎn)品純度高,無大于0.10%的未知雜質(zhì),手性雜質(zhì)控制在0.15%以內(nèi),符合注冊法規(guī)對(duì)起始物料的要求,操作簡便,適合工業(yè)化生產(chǎn)。適合工業(yè)化生產(chǎn)。適合工業(yè)化生產(chǎn)。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
    一種瑞美吉泮中間體的合成工藝


    [0001]本專利技術(shù)屬于藥物化學(xué)
    ,具體涉及瑞美吉泮中間體的合成工藝。

    技術(shù)介紹

    [0002]瑞美吉泮(英文名Rimegepant)是一種有效的、選擇性的、競爭性的、口服活性的降鈣素基因相關(guān)肽(CGRP)拮抗劑,用于成人偏頭痛的急性治療。其結(jié)構(gòu)如下式所示:
    [0003][0004](R)
    ?9?
    三異丙基硅氧基
    ?
    6,7,8,9
    ?
    四氫
    ?
    5H
    ?
    環(huán)庚[b]吡啶
    ?5?
    酮(化合物VI)是瑞美吉泮分子的核心骨架,有一個(gè)手性中心,其制備過程的產(chǎn)率、純度、成本等對(duì)瑞美吉泮的制備有重要影響,其核心部分是引入手性羥基的式V化合物。
    [0005][0006]WO2009126530報(bào)道了化合物VI的合成,利用酶還原環(huán)庚烷[b]吡啶
    ?
    5,9
    ?
    二酮得到核心式V化合物,反應(yīng)式如下:
    [0007][0008]該現(xiàn)有技術(shù)沒有披露酶還原得到的產(chǎn)物中(9S)
    ?
    6,7,8,9
    ?
    四氫
    ?9?
    羥基
    ?
    5H
    ?
    環(huán)庚烷并[b]吡啶
    ?5?
    酮的比例。
    [0009]2012年,David K.Lealy等人(Organic Letters,2012,14,4938
    ?
    4941報(bào)道了式VI化合物的合成,其報(bào)道的核心步驟:式V所示化合物的手性羥基的引入,分別使用了Rh
    ?
    (R
    ?
    Binapine)(COD)BF4和酮基還原酶催化劑ES
    ?
    KRED
    ?
    119。反應(yīng)產(chǎn)物ee值分別為99.9%和98%以上。
    [0010][0011]酮基還原酶ES
    ?
    KRED
    ?
    119得到的產(chǎn)品含有7%的雜質(zhì)VII,得到式V化合物的單步收率只有81%,ee值99.2%。作者最終選擇了使用金屬催化劑Rh
    ?
    (RBinapine)(COD)BF4,價(jià)格昂貴,該催化劑市面沒有銷售,合成Rh
    ?
    (R
    ?
    Binapine)(COD)BF4所用的配體R
    ?
    Binapine也難以制備,其合成工藝反應(yīng)條件非常苛刻(如需要高達(dá)100psi的氫氣壓力),其中用到危險(xiǎn)的試劑六氯二硅烷,見Angew.Chem.Int.Ed.2003,42,3509。
    [0012]奧銳特藥業(yè)(天津)有限公司2021年申請的專利申請?zhí)?02110116340.0報(bào)道了利用Rh
    ?
    (S
    ?
    Binap)(COD)BF4催化不對(duì)稱還原環(huán)庚烷并[b]吡啶
    ?
    5,9
    ?
    二酮得到的產(chǎn)物與L
    ?
    樟腦磺酸或D
    ?
    樟腦磺酸成鹽后,拆分得到高純度手性化合物,(9R)
    ?
    6,7,8,9
    ?
    四氫
    ?9?
    羥基
    ?
    5H
    ?
    環(huán)庚烷并[b]吡啶
    ?5?
    酮。另外,CN 113717103A公開了在甲酸存在下利用特定金屬催化制備(9R)
    ?
    6,7,8,9
    ?
    四氫
    ?9?
    羥基
    ?
    5H
    ?
    環(huán)庚烷并[b]吡啶
    ?5?
    酮,該方法同樣用到價(jià)格昂貴且不穩(wěn)定的金屬催化劑。
    [0013]現(xiàn)有技術(shù)普遍存在反應(yīng)過程操作復(fù)雜,收率低,不適合工業(yè)化生產(chǎn),因此,本領(lǐng)域迫切需要開發(fā)一種成本、操作簡便、收率高且適合工業(yè)化生產(chǎn)的制備高純度化合物VI的方法,且產(chǎn)品符合藥品注冊法規(guī)要求的雜質(zhì)研究和控制。

    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

    [0014]本專利技術(shù)提供了一種式VI所示化合物的合成工藝,該合成工藝包括以下步驟:
    [0015](1)式III所示化合物在酸性溶液中反應(yīng),形成式IV所示化合物;
    [0016](2)利用酮還原酶催化式IV所示化合物還原為式V所示化合物,
    [0017]其中所述酮還原酶的氨基酸序列如SEQ ID No.1所示;
    [0018](3)式V所示化合物進(jìn)行羥基保護(hù)生成式VI所示化合物,
    [0019]反應(yīng)式如下:
    [0020][0021]反應(yīng)式1,
    [0022]其中式IV所示化合物和式V所示化合物均為未經(jīng)純化(例如,未經(jīng)柱色譜純化或未
    經(jīng)重結(jié)晶純化)的粗品,直接用于下一步反應(yīng)。
    [0023]在本專利技術(shù)的一些優(yōu)選實(shí)施例中,式VI所示化合物以L樟腦磺酸或D樟腦磺酸為成鹽純化試劑,游離后得到高純度化合物VI。
    [0024]在本專利技術(shù)的一些優(yōu)選實(shí)施例中,步驟(2)的酮還原酶催化還原是在輔酶存在下進(jìn)行的,所述輔酶選自NADP+、NADP鹽或NADPH。在本專利技術(shù)的一些更優(yōu)選實(shí)施例中,所述輔酶選自NADP鹽,例如NADP鈉。
    [0025]在本專利技術(shù)的一些優(yōu)選實(shí)施例中,酮還原酶催化還原體系中還包括葡萄糖和葡萄糖脫氫酶。
    [0026]在本專利技術(shù)的一些優(yōu)選實(shí)施例中,酮還原酶催化還原的反應(yīng)溫度為4~40℃。在本專利技術(shù)的一些優(yōu)選實(shí)施例中,酮還原酶催化還原的反應(yīng)溫度為20~30℃。
    [0027]在本專利技術(shù)的一些優(yōu)選實(shí)施例中,酮還原酶催化還原反應(yīng)是在pH=6.0~8.0的緩沖液體系中進(jìn)行的。
    [0028]在本專利技術(shù)的一些優(yōu)選實(shí)施例中,所述緩沖液選自PBS緩沖液、Tris
    ?
    HCl緩沖液或乙酸鈉緩沖液。
    [0029]在本專利技術(shù)的一些優(yōu)選實(shí)施例中,步驟(3)中,羥基保護(hù)反應(yīng)包括以下步驟:
    [0030]在堿存在下,將式V所示化合物與TIPSCl或TIPSOTf在溶劑中進(jìn)行反應(yīng)得到(R)
    ?9?
    三異丙基硅氧基
    ?
    6,7,8,9
    ?
    四氫
    ?
    5H
    ?
    環(huán)庚[b]吡啶
    ?5?
    酮。
    [0031]在本專利技術(shù)的一些優(yōu)選實(shí)施例中,步驟(3)中,提供三異丙基硅烷基的硅試劑選自TIPSCl。
    [0032]在本專利技術(shù)的一些優(yōu)選實(shí)施例中,步驟(3)中,所述溶劑選自DMF,DMSO,DMAc,THF,1,4
    ?
    二氧六環(huán),乙腈,甲苯,或其組合。在本專利技術(shù)的一些更優(yōu)選實(shí)施例中,步驟(3)中,所述溶劑選自乙腈。
    [0033]在本專利技術(shù)的一些優(yōu)選實(shí)施例中,步驟(3)中,所述堿選自DMAP,吡啶,咪唑,DIPEA,DBU,或其組合。在本專利技術(shù)的一些更優(yōu)選實(shí)施例中,步驟(3)中,所述堿選自DBU。
    [0034]在本專利技術(shù)的一些優(yōu)選實(shí)施例中,步驟(3)中,羥基保護(hù)反應(yīng)的溫度為40~80℃。在本專利技術(shù)的一些更優(yōu)選實(shí)施例中,步驟(3)中,羥基保護(hù)反應(yīng)的溫度為60~70℃。<本文檔來自技高網(wǎng)
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    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    【技術(shù)特征摘要】
    1.一種式VI所示化合物的合成工藝,其特征在于,所述合成工藝包括以下步驟:(1)式III所示化合物在酸性溶液中反應(yīng),形成式IV所示化合物;(2)利用酮還原酶催化式IV所示化合物還原為式V所示化合物,其中所述酮還原酶的氨基酸序列如SEQ ID No.1所示;(3)式V所示化合物進(jìn)行羥基保護(hù)生成式VI所示化合物,反應(yīng)式如下:其中式IV所示化合物和式V所示化合物均為未經(jīng)純化的粗品,直接用于下一步反應(yīng)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的式VI所示化合物的合成工藝,其特征在于,式VI所示化合物以L
    ?
    樟腦磺酸或D
    ?
    樟腦磺酸為成鹽純化試劑,游離后得到高純度化合物VI。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的式VI所示化合物的合成工藝,其特征在于,步驟(2)的酮還原酶催化還原是在輔酶存在下進(jìn)行的,所述輔酶選自NADP+、NADP鹽或NADPH,更優(yōu)選NADP鹽。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的式VI所示化合物的合成工藝,其特征在于,酮還原酶催化還原體系中還包括葡萄糖和葡萄糖脫氫酶。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的式VI所示化合物的合成工藝,其特征在于,酮還原酶催化還原的反應(yīng)溫度為4~40℃,更優(yōu)選20~30℃,和/或酮還原酶催化還原反應(yīng)是在pH=6.0~8.0的緩沖液體系中進(jìn)行的,優(yōu)選地,所述緩沖液選自PBS緩沖液、Tris
    ?
    HCl緩沖液或乙酸鈉緩沖液。6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的式VI所示化合物的合成工藝,其特征在于,步驟(3)中,羥基保護(hù)反應(yīng)包括以下步驟:在堿存在下,將式V所示化合物與TIPSCl或TIPSOTf在溶劑中進(jìn)行反應(yīng)得到(R)
    ?9?
    三異丙基硅氧基...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:房杰郭萬成吳玉卓方武宏萬會(huì)玲于振鵬王國平
    申請(專利權(quán))人:奧銳特藥業(yè)天津有限公司
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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