本發明專利技術提供一種掩膜版手動移出裝置及其手動取出方法,包括定位驅動桿、第一輔助桿、第二輔助桿及移出桿,定位驅動桿包括定位桿、第一驅動桿及第二驅動桿,第一、第二驅動桿分別與定位桿的左右端滑動連接以沿Y方向運動,且均設有凹槽;第一、第二輔助桿分別與第一、第二驅動桿滑動連接,且均設有凸起部,凸起部與凹槽相配合以驅動其沿X方向作相向運動;移出桿包括水平桿、第一垂直桿及第二垂直桿,第一、第二垂直桿分別與第一、第二輔助桿滑動連接,以推動移出桿向上運動以抬升掩膜版。本發明專利技術的裝置能夠方便、快速且穩定地從掩膜版儲存柜中移出掩膜版,避免掩膜版在移出過程中與支撐件或儲存柜內壁發生碰撞,提高生產效率及產品良率,降低成本。降低成本。降低成本。
【技術實現步驟摘要】
一種掩膜版手動移出裝置及其手動取出方法
[0001]本專利技術屬于半導體生產裝置領域,涉及一種掩膜版手動移出裝置及其手動取出方法。
技術介紹
[0002]光刻技術是集成電路制造、印刷電路板制造以及微機電元件制造等微納加工領域的核心技術之一。在光刻過程中,光刻掩膜版(又稱“光罩”)是微電子制造過程中的圖形轉移裝置或母版,通過光刻,將光刻掩膜版上的設計圖形轉移到光刻膠上,再經過刻蝕,將圖形刻到襯底上,從而實現圖形到硅片的轉移。因此,掩膜版是光刻工藝不可缺少的重要部件。
[0003]由于在芯片制造過程中需要經過十幾次甚至幾十次的光刻工藝,每次光刻都要一塊光刻掩膜版,每塊掩膜版的質量都會直接影響光刻的質量,掩膜版上的細微誤差或缺陷將會直接影響芯片的良率和穩定性。掩膜版通常由基板及遮光膜構成,基板的常用材料包括玻璃、樹脂等,其中玻璃基板由于化學性能穩定,熱膨脹率低而備受青睞。現在常用的光刻機的機臺內部設置的掩膜版儲存柜至多可存放12片掩模板,請參閱圖1及圖2,其中,圖1顯示為光刻機掩膜版儲存柜101的前視示意圖,圖2為圖1中局部區域放大圖,掩膜版102(背面設置有防塵膜103)通過支撐件104支撐并放置在掩膜版儲存柜101中,若是機臺長時間當機(如斷電/待料等超過6h),工作人員需手動移出掩模板102轉機臺運貨避免產品斷線,但由于儲存柜的每一個儲存盒的頂面與掩膜版上表面之間的間距極窄(約幾毫米),直接用手將掩膜版從儲存柜移出時容易造成掩模版102的玻璃面刮傷(會造成產品缺陷)或防塵薄膜103破損(廠外修復需兩周,可能導致生產斷線),請參閱圖3,顯示為直接用手移出掩膜版時掩膜版易發生碰撞處(圖中虛線框所示區域)的示意圖,根據產線記錄數據可知,通常手取掩模板損傷率約30%以上。若不通過手取掩膜版的方法轉運掩膜版,目前只能采取長時間當機待復機后自動傳出掩模板的方法移出掩膜版,這樣會嚴重影響生產效率。
[0004]因此,如何提供一種掩膜版手動移出裝置及其手動取出方法,以實現能夠方便、快速且穩定地從掩膜版儲存柜中移出掩膜版,避免掩膜版在移出過程中與支撐件或儲存柜內壁發生碰撞造成的玻璃基板面刮傷、真空吸附區磨損或防塵膜損壞等狀況,從而提高生產效率及產品良率,有效降低生產成本,成為本領域技術人員亟待解決的一個重要技術問題。
[0005]應該注意,上面對技術背景的介紹只是為了方便對本申請的技術方案進行清楚、完整的說明,并方便本領域技術人員的理解而闡述的。不能僅僅因為這些方案在本申請的
技術介紹
部分進行了闡述而認為上述技術方案為本領域技術人員所公知。
技術實現思路
[0006]鑒于以上所述現有技術的缺點,本專利技術的目的在于提供一種掩膜版的手動移出裝置,用于解決現有技術中因掩膜版手動移出過程中導致掩膜版與儲存柜或支撐件發生碰撞或者防塵膜與支撐件發生碰撞,嚴重影響產品良率及生產效率,增加生產成本的問題。
[0007]為實現上述目的及其他相關目的,本專利技術提供一種掩膜版手動移出裝置,包括:
[0008]定位驅動桿,包括定位桿、第一驅動桿及第二驅動桿,所述定位桿沿X方向延伸,所述第一驅動桿及第二驅動桿均沿Y方向延伸,X方向垂直于Y方向,所述第一驅動桿與所述定位桿的左端滑動連接以沿Y方向運動,所述第二驅動桿與所述定位桿的右端滑動連接以沿Y方向運動,所述第一驅動桿與所述第二驅動桿相向的一面均設有凹槽;
[0009]第一輔助桿及第二輔助桿,所述第一輔助桿位于所述第一驅動桿的右側并與所述第一驅動桿滑動連接,所述第二輔助桿位于所述第二驅動桿的左側并與所述第二驅動桿滑動連接,所述第一輔助桿朝向所述第一驅動桿的一面及所述第二輔助桿朝向所述第二驅動桿的一面均設有凸起部,所述凸起部與所述凹槽相配合,當所述第一驅動桿及所述第二驅動桿沿Y方向移動時,驅動所述第一輔助桿及所述第二輔助桿沿X方向作相向運動;
[0010]移出桿,包括水平桿、第一垂直桿及第二垂直桿,所述第一垂直桿與所述水平桿的左端連接,所述第二垂直桿與所述水平桿的右端連接,所述第一垂直桿還與所述第一輔助桿滑動連接,所述第二垂直桿還與所述第二輔助桿滑動連接,當所述第一輔助桿及所述第二輔助桿沿X方向作相向運動時,所述第一輔助桿及所述第二輔助桿推動所述移出桿向上運動以抬升掩膜版。
[0011]可選的,所述第一驅動桿具有所述凹槽的一面與所述第二驅動桿具有所述凹槽的一面均設有滑軌,所述凸起部沿所述滑軌滑動。
[0012]可選的,所述凹槽接近所述定位桿的一側面為傾斜平面,所述凹槽遠離所述定位桿的一側面為曲面。
[0013]可選的,所述凸起部的頂端呈弧面。
[0014]可選的,所述凸起部的頂端設有滾珠。
[0015]可選的,所述第一輔助桿與所述第一垂直桿之間的連接面包括傾斜平面及曲面中的至少一種,所述第二輔助桿與所述第二垂直桿之間的連接面包括傾斜平面及曲面中的至少一種。
[0016]可選的,所述傾斜平面與X
?
Y平面之間的夾角的角度范圍是10
°
~30
°
。
[0017]可選的,所述第一驅動桿具有的所述凹槽的數量范圍是1~5個,所述第一驅動桿具有的所述凹槽的數量范圍是1~5個。
[0018]可選的,所述定位驅動桿還包括定位驅動桿手柄,所述定位驅動桿手柄與所述定位桿連接,所述移出桿還包括移出桿手柄,所述移出桿手柄與所述水平桿連接。
[0019]本專利技術還提供一種掩膜版手動取出方法,包括以下步驟:
[0020]提供一如上所述的掩膜版手動移出裝置;
[0021]將所述掩膜版手動移出裝置伸入掩膜版儲存柜的儲存格中并使所述移出桿位于掩膜版的下方;
[0022]沿Y方向向外拉動所述第一驅動桿及所述第二驅動桿以驅動所述第一輔助桿及所述第二輔助桿沿X方向作相向運動,所述第一輔助桿及所述第二輔助桿在沿X方向作相向運動的過程中推動所述移出桿向上運動以抬升掩膜版;
[0023]沿Y方向向外拉出所述移出桿以移出所述掩膜版。
[0024]如上所述,本專利技術的掩膜版手動移出裝置及其手動取出方法,能夠在從掩膜版儲存柜中手動移出掩膜版時,避免因掩膜版在移出過程中由于手的穩定性差導致掩膜版與支
撐件或掩膜版儲存柜的內壁發生碰撞造成的掩膜版玻璃基板面刮傷磨損進一步造成產品缺陷,或者掩膜版真空吸附區刮傷造成的光刻機掩膜版工作平臺真空吸附不良導致無法生產的問題。此外,還能夠避免因掩膜版移出過程造成掩膜版防塵膜損壞而造成的生產斷線情況,提高生產效率、產品良率及降低生產成本。
附圖說明
[0025]圖1顯示為掩膜版儲存柜的整體結構前視示意圖。
[0026]圖2顯示為圖1中單個儲存格儲存掩膜版時的前視示意圖。
[0027]圖3顯示為手動移出掩膜版時易發生碰撞處的示意圖。
[0028]圖4顯示為本專利技術的掩膜版手動移出裝置的整體結構俯視示意圖。
[0029]圖5顯示為第一驅動桿及第一輔助桿的局部結構俯視示意圖。
[0030]本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
1.一種掩膜版手動移出裝置,其特征在于,包括:定位驅動桿,包括定位桿、第一驅動桿及第二驅動桿,所述定位桿沿X方向延伸,所述第一驅動桿及第二驅動桿均沿Y方向延伸,X方向垂直于Y方向,所述第一驅動桿與所述定位桿的左端滑動連接以沿Y方向運動,所述第二驅動桿與所述定位桿的右端滑動連接以沿Y方向運動,所述第一驅動桿與所述第二驅動桿相向的一面均設有凹槽;第一輔助桿及第二輔助桿,所述第一輔助桿位于所述第一驅動桿的右側并與所述第一驅動桿滑動連接,所述第二輔助桿位于所述第二驅動桿的左側并與所述第二驅動桿滑動連接,所述第一輔助桿朝向所述第一驅動桿的一面及所述第二輔助桿朝向所述第二驅動桿的一面均設有凸起部,所述凸起部與所述凹槽相配合,當所述第一驅動桿及所述第二驅動桿沿Y方向移動時,驅動所述第一輔助桿及所述第二輔助桿沿X方向作相向運動;移出桿,包括水平桿、第一垂直桿及第二垂直桿,所述第一垂直桿與所述水平桿的左端連接,所述第二垂直桿與所述水平桿的右端連接,所述第一垂直桿還與所述第一輔助桿滑動連接,所述第二垂直桿還與所述第二輔助桿滑動連接,當所述第一輔助桿及所述第二輔助桿沿X方向作相向運動時,所述第一輔助桿及所述第二輔助桿推動所述移出桿向上運動以抬升掩膜版。2.根據權利要求1所述的掩膜版手動移出裝置,其特征在于:所述第一驅動桿具有所述凹槽的一面與所述第二驅動桿具有所述凹槽的一面均設有滑軌,所述凸起部沿所述滑軌滑動。3.根據權利要求1所述的掩膜版手動移出裝置,其特征在于:所述凹槽接近所述定位桿的一側面為傾斜平面,所述凹槽遠離所述定位桿的一側面為曲面。4.根據權利要求1所述的掩膜版...
【專利技術屬性】
技術研發人員:賴強,韋清峰,彭攀,文曉東,
申請(專利權)人:聯合微電子中心有限責任公司,
類型:發明
國別省市:
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