一種新型的鏈式雙獨立槽體結構及鏈式濕法清洗設備制造技術

本實用新型專利技術屬于鏈式濕法刻蝕清洗設備技術領域，具體涉及一種新型的鏈式雙獨立槽體結構及鏈式濕法清洗設備，通過兩組獨立并排設置的槽體，任一槽體包括：主槽，以及與主槽對應的副槽，所述副槽設置在對應主槽的下方；第一循環管路組，包括第一泵體和第一管路，所述第一泵體通過所述第一管路與所述主槽和對應的所述副槽連通；補液管路組，位于兩組所述槽體之間，分別向兩個所述主槽補充溶液，實現了在硅片運輸方向上并排獨立設置兩個主槽，將傳統的單一槽體劃分為獨立的兩個槽體，減小了槽體的跨度，使得槽體的焊接簡化，保證焊接的尺寸。保證焊接的尺寸。保證焊接的尺寸。

【技術實現步驟摘要】
一種新型的鏈式雙獨立槽體結構及鏈式濕法清洗設備


[0001]本技術屬于鏈式濕法刻蝕清洗設備
，具體涉及一種新型的鏈式雙獨立槽體結構及鏈式濕法清洗設備。

技術介紹

[0002]目前鏈式單面去PSG和BSG清洗設備產能要求大，采用的雙軌道傳動，共用一個槽體的結構，槽體跨度大，焊接難度大且容易變形，焊接尺寸很難保證。

技術實現思路

[0003]本技術的目的是提供一種新型的鏈式雙獨立槽體結構及鏈式濕法清洗設備，以解決槽體跨度大焊接難度大且容易變形的技術問題。
[0004]為了解決上述技術問題，本技術提供了一種新型的鏈式雙獨立槽體結構，包括：兩組獨立并排設置的槽體，任一槽體包括：主槽，以及與主槽對應的副槽，所述副槽設置在對應主槽的下方；第一循環管路組，包括第一泵體和第一管路，所述泵體通過所述第一管路與所述主槽和對應的所述副槽連通；補液管路組，位于兩組所述槽體之間，分別向兩個所述主槽補充溶液。
[0005]具體地，兩個主槽，并排設置，任一主槽下方設置有一個副槽，在一個槽體中，第一循環管路組，包括第一泵體和第一管路，所述第一泵體通過所述第一管路與所述主槽和所述副槽連通，主槽和副槽中的溶液可以實現循環，利于硅片清洗，其中的第一管路泛指多個連接管，以在主槽和副槽之間形成溶液的循環；補液管路組，位于兩組所述槽體之間，可獨立控制，即可向其中一個槽體中的主槽補充溶液，也可以向其中另一個槽體中的主槽補充溶液，也可同時向兩個槽體中的主槽補充溶液。
[0006]進一步地，補液管路組包括：主管、第一支管、第二支管，所述第一支管與所述主管連接，用于向一槽體中的主槽補充溶液，第二支管與所述主管連接，用于向另一槽體中的主槽補充溶液，所述第一支管和第二支管上分別設有流量計和控制閥。
[0007]具體的，上述中，主槽中溶液是從副槽利用泵體的動力進入到主槽中，隨著溶液的消耗，可通過補液管路組分別向主槽中補充溶液，以使所述主槽中的溶液高度高于溢流板，實現主槽和副槽的循環。
[0008]進一步地，第二循環管路組，包括所述第二泵體、降溫裝置和第二管路，所述第二泵體一端通過所述第二管路與所述副槽連接，所述降溫裝置通過所述第二管路與所述第二泵體另一端和所述副槽連接。
[0009]具體地，第二循環管路組僅用于對副槽內的溶液進行循環，第二循環管路組和第一循環管路組可共用一個泵體，通過多頭連通件及控制閥來實現循環管路的通斷；副槽中的溶液是混合溶液，是由多個不同藥液的管路通入到副槽中的，副槽中的溶液進行化學反應融合，會放出大量的熱，為實現良好的硅片處理效果，需要對副槽中的溶液進行冷卻降溫，達到工藝需求的溫度，因此第二循環管路組用于實現副槽的自循環，便于副槽中的混合
溶液快速降溫。其中的第二管路泛指多個連接管，以在副槽與降溫裝置之間形成溶液的循環。
[0010]進一步地，第二循環管路組，包括所述第一泵體、降溫裝置和第二管路，所述降溫裝置通過第二管路與所述第一泵體和所述副槽連接。
[0011]進一步地，所述主槽的兩側設有溢流槽，所述主槽中的溶液處于滿液狀態時，通過在主槽和溢流槽之間設置的溢流板，所述主槽中的溶液溢流至所述溢流槽中，溢流槽的底部或側壁設有接口，通過所述第一管路連接所述副槽的接口，所述溢流槽中的溶液排至所述副槽中。
[0012]具體地，以垂直于硅片傳送方向為軸線，溢流槽位于主槽的兩側。
[0013]進一步地，所述主槽內設有墊塊和噴淋管，所述噴淋管靠近所述主槽底部設置，所述墊塊蓋設在所述噴淋管上方，所述墊塊與所述主槽底部具有間隙。
[0014]主槽的體積變大，具體指主槽的長或寬增加，或者是長和寬均增加，副槽由于空間有限，兩個副槽獨立設置后，副槽的空間相對較小，為了副槽中的溶液與主槽中的溶液能夠實現循環，需要使主槽的盛液體積相關變小，因此在主槽中設置墊塊，主槽中設有噴淋管，第一循環管路組中，副槽中的溶液通過泵體的動力進入主槽中，即通過主槽中的噴淋管進入主槽，在噴淋管上罩設墊塊，可以減少溶液的占用體積，同時墊塊與所述主槽底部具有間隙，滿足噴淋管中的溶液能夠充浸主槽；墊塊的形狀可為空心的長方體，可以為空心的正方體等其他形狀，空心的作用是為噴淋管的設置留有空間，墊塊也可以是實心的結構，能滿足噴淋管中的溶液可以充浸主槽即可。充浸主槽指溶液可以達到溢流板的高度。進一步地，所述主槽上分別架設有一獨立運行的傳動系統。
[0015]具體地，硅片平鋪在傳動系統上，通過傳動系統的傳動，硅片從主槽中的一端運動至另一端，具體地，傳動系統為多個并排設置的多個傳動輥，傳動輥部分浸入主槽中，隨著傳動輥的自傳，將主槽中的溶液潤濕硅片接觸傳動輥的一表面，實現硅片表面的工藝處理。一個主槽上設置有一個傳動系統，兩個傳動系統分別獨立控制。
[0016]溶液可以是兩種或多種藥液配合而成，也可以是純水溶液。
[0017]第二方面，本技術還提供一種鏈式濕法清洗設備，包括：
[0018]封板框架，設置在所述封板框架內的上述任一技術方案中的的鏈式雙獨立槽體結構。
[0019]進一步地，沿硅片傳送方向，多個所述鏈式雙獨立槽體結構并排設置，形成兩個加工通道，任一加工通道包括多個共線排列的槽體，和至少一個烘干槽；所述烘干槽設置在所述槽體后方，在所述槽體對硅片均進行清洗后，通過所述烘干槽對清洗的硅片進行烘干。
[0020]進一步地，設有多個抽風裝置，抽風裝置位于所述兩個并排設置的加工通道中部，所述抽風裝置適于將硅片清洗時產生的腐蝕氣體排出；包括多個所述補液管路組，任一所述補液管路組位于相鄰的所述抽風裝置之間。
[0021]所述封板框架設置有觀察窗，所述觀察窗與加工通道中主槽對應，并且該主槽上設置有主槽蓋板。
[0022]本技術的有益效果是，本技術通過兩組獨立并排設置的槽體，任一槽體包括：主槽，以及與主槽對應的副槽，所述副槽設置在對應主槽的下方；第一循環管路組，包括第一泵體和第一管路，所述第一泵體通過所述第一管路與所述主槽和所述副槽連通；補
液管路組，位于兩組所述槽體之間，分別向兩個所述主槽補充溶液，實現了在硅片運輸方向上并排獨立設置兩個主槽，將傳統的單一槽體劃分為獨立的兩個槽體，減小了槽體的跨度，使得槽體的焊接簡化，保證焊接的尺寸。
[0023]本技術的其他特征和優點將在隨后的說明書中闡述，并且，部分地從說明書中變得顯而易見，或者通過實施本技術而了解。本技術的目的和其他優點在說明書以及附圖中所特別指出的結構來實現和獲得。
[0024]為使本技術的上述目的、特征和優點能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，并配合所附附圖，作詳細說明如下。
附圖說明
[0025]為了更清楚地說明本技術具體實施方式或現有技術中的技術方案，下面將對具體實施方式或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本技術的一些實施方式，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.一種新型的鏈式雙獨立槽體結構，其特征在于，包括：兩組獨立并排設置的槽體，任一槽體包括：主槽，以及與主槽對應的副槽，所述副槽設置在對應主槽的下方；第一循環管路組，包括第一泵體和第一管路，所述第一泵體通過所述第一管路與所述主槽和對應的所述副槽連通；補液管路組，位于兩組所述槽體之間，分別向兩個所述主槽補充溶液。2.如權利要求1所述的新型的鏈式雙獨立槽體結構，其特征在于，所述補液管路組包括：主管、第一支管、第二支管，所述第一支管與所述主管連接，用于向一槽體中的主槽補充溶液，所述第二支管與所述主管連接，用于向另一槽體中的主槽補充溶液，所述第一支管和第二支管上分別設有流量計和控制閥。3.如權利要求1所述的新型的鏈式雙獨立槽體結構，其特征在于，還包括：第二循環管路組，包括第二泵體、降溫裝置和第二管路，所述第二泵體一端通過所述第二管路與所述副槽連接，所述降溫裝置通過所述第二管路與所述第二泵體另一端和所述副槽連接。4.如權利要求1所述的新型的鏈式雙獨立槽體結構，其特征在于，還包括：第二循環管路組，包括所述第一泵體、降溫裝置和第二管路，所述降溫裝置通過第二管路與所述第一泵體和所述副槽連接。5.如權利要求1所述的新型的鏈式雙獨立槽體結構，其特征在于，所述主槽的兩側設有溢流槽，所述主槽中的溶液處于滿液狀態時，通過在所述主槽和所述溢流槽之間設置的溢流板，所述主槽中的溶液溢流至所...

【專利技術屬性】
技術研發人員：左國軍，劉洪勇，陳強，滕彬，
申請(專利權)人：常州捷佳創精密機械有限公司，
類型：新型
國別省市：