本發明專利技術公開了一種高精度拼接角錐的調節裝置及方法,屬于拼接角錐技術領域,包括干涉儀,所述干涉儀包括干涉儀主體與干涉平面鏡頭,所述干涉平面鏡頭安裝于所述干涉儀主體上,所述干涉平面鏡頭使出射光自準回所述干涉儀主體;調節工裝,所述調節工裝包括底塊、第一調節組以及第二調節組,所述底塊、第一調節組以及第二調節組相互呈90度設置,所述第一調節組對第二平面反射鏡進行方位調整,所述第二調節組對第三平面反射鏡進行方位調整。本發明專利技術采用干涉儀來測量回轉精度,測試精度高,適用于大口徑、高精度拼接角錐的生產及檢測。高精度拼接角錐的生產及檢測。高精度拼接角錐的生產及檢測。
【技術實現步驟摘要】
一種高精度拼接角錐的調節裝置及方法
[0001]本專利技術屬于拼接角錐
,尤其涉及一種高精度拼接角錐的調節裝置及方法。
技術介紹
[0002]角錐棱鏡是一種高精度的光學元件,廣泛應用于光電測距、高精度光軸測量及標定等領域。角錐棱鏡不受入射角大小的影響,將任意進入通光孔徑內的入射光線高效的按方向返回。角錐棱鏡的光學原理:進入角錐體的平行光,經過三個直角面的多次反射后,將分成不同反射次序的六束光線,當角錐棱鏡的棱角嚴格垂直,則六束反射光線將沿原入射光路返回。
[0003]目前常用的角錐棱鏡包括實心的角錐棱鏡及拼接的空心角錐棱鏡。
[0004]實心角錐棱鏡是一種依據臨界角原理制造的內部全反射棱鏡,實心角錐棱鏡的使用波段由所使用的玻璃材料決定,可見光波段的實心角錐不一定適用于紅外波段,同時生產大尺寸的實心角錐棱鏡加工困難,同時價格昂貴;
[0005]空心角錐棱鏡是采用三面平面反射鏡拼接成互相垂直的三個面而成,反射面可以鍍制金屬膜,從而保證很寬譜段都可以適用,同時可以根據不同的尺寸要求進行定制,但是由于采用三面反射鏡拼接而成,因此該角錐棱鏡的回轉精度難以達高,需要采用高精度的調節裝置對其進行調節,獲取較高的回轉精度,滿足空心角錐棱鏡的精度要求。
技術實現思路
[0006]本專利技術克服了現有技術的不足,提供一種高精度拼接角錐的調節裝置及方法,以解決現有技術中存在的問題。
[0007]為達到上述目的,本專利技術采用的技術方案為:一種高精度拼接角錐的調節裝置,對待調平面反射鏡進行調節,所述待調平面反射鏡包括第一平面反射鏡、第二平面反射鏡以及第三平面反射鏡,所述調節裝置包括
[0008]干涉儀,所述干涉儀包括干涉儀主體與干涉平面鏡頭,所述干涉平面鏡頭安裝于所述干涉儀主體上,所述干涉平面鏡頭使出射光自準回所述干涉儀主體;
[0009]調節工裝,所述調節工裝包括底塊、第一調節組以及第二調節組,所述底塊、第一調節組以及第二調節組相互呈90度設置,所述第一調節組對第二平面反射鏡進行方位調整,所述第二調節組對第三平面反射鏡進行方位調整。
[0010]本專利技術一個較佳實施例中,所述底塊、第一調節組以及第二調節組與所述第一平面反射鏡、第二平面反射鏡以及第三平面反射鏡分別一一對應。
[0011]本專利技術一個較佳實施例中,所述調節工裝還包括固定支架,所述底塊位于所述固定支架上。
[0012]本專利技術一個較佳實施例中,所述干涉儀產生的平行光波形精度RMS值優于1/100λ@632.8nm,能夠被待調平面反射鏡反射。
[0013]本專利技術一個較佳實施例中,所述第一平面反射鏡、第二平面反射鏡以及第三平面反射鏡的面型精度RMS值優于1/50λ@632.8nm。
[0014]本專利技術一個較佳實施例中,所述第一調節組與所述第二調節組均為調節螺釘。
[0015]本專利技術還公開了一種高精度拼接角錐的調節方法,包括以下步驟:
[0016]S1、干涉儀主體開啟,調節干涉平面鏡頭,使出射光自準回干涉儀主體,此時干涉儀本體出射平行光;
[0017]S2、將底塊安裝在固定支架上,將第一平面反射鏡、第二平面反射鏡以及第三平面反射鏡安裝在相應位置,其中第一平面反射鏡位于底塊上,第二平面反射鏡安裝于第一調節組所處平面內,第二平面反射鏡安裝于第二調節組所處平面內,實現拼接角錐的初裝;
[0018]S3、將初裝后的角錐對準干涉儀產生的平行光,由第一調節組、第二調節組對第二平面反射鏡、第三平面反射鏡分別進行方位調整,通過干涉儀的回轉精度,將角錐的回轉誤差調節至所需精度;
[0019]S4、調節完成之后,將第一平面反射鏡、第二平面反射鏡以及第三平面反射鏡點膠固化,完成拼接角錐的終裝;
[0020]S5、對拼接角錐進行回轉精度復測,滿足回轉精度要求,即完成對拼接角錐的調節。
[0021]本專利技術一個較佳實施例中,所述底塊與所述固定支架呈90度設置。
[0022]本專利技術解決了
技術介紹
中存在的缺陷,本專利技術具備以下有益效果:
[0023](1)本專利技術提供一種高精度拼接角錐的調節裝置及方法,該方法采用干涉儀測量拼接角錐的回轉精度,測量精度高,利用干涉儀產生的平行光經過三片互成90度的平面反射鏡反射,光線回轉180度后,返回光束與干涉儀內部參考光進行干涉,利用干涉條紋來獲得該角錐的回轉精度,通過調節三片平面反射鏡之間的角度關系,可以將角錐的回轉誤差調節至所需精度,再通過點膠固化,該專利技術特別適用于拼接光楔相關的加工、測量與檢測領域;
[0024](2)本專利技術采用干涉儀來測量回轉精度,測試精度高,適用于大口徑、高精度拼接角錐的生產及檢測。
附圖說明
[0025]下面結合附圖和實施例對本專利技術進一步說明;
[0026]圖1為本專利技術優選實施例的整體結構示意圖;
[0027]圖2為本專利技術優選實施例的流程圖;
[0028]1、干涉儀;1
?
1、干涉儀主體;1
?
2、干涉平面鏡頭;
[0029]2、待調平面反射鏡;2
?
1、第一平面反射鏡;2
?
2、第二平面反射鏡;2
?
3、第三平面反射鏡;
[0030]3、調節工裝;3
?
1、底塊;3
?
2、第一調節組;3
?
3、第二調節組;3
?
4、固定支架。
具體實施方式
[0031]以下將以圖式揭露本專利技術的多個實施方式,為明確說明起見,許多實務上的細節將在以下敘述中一并說明。然而,應了解到,這些實務上的細節不應用以限制本專利技術。也就
是說,在本專利技術的部分實施方式中,這些實務上的細節是非必要的。此外,為簡化圖式起見,一些習知慣用的結構與組件在圖式中將以簡單的示意的方式繪示之。
[0032]另外,在本專利技術中如涉及“第一”、“第二”等的描述僅用于描述目的,并非特別指稱次序或順位的意思,亦非用以限定本專利技術,其僅僅是為了區別以相同技術用語描述的組件或操作而已,而不能理解為指示或暗示其相對重要性或者隱含指明所指示的技術特征的數量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個該特征。另外,各個實施例之間的技術方案可以相互結合,但是必須是以本領域普通技術人員能夠實現為基礎,當技術方案的結合出現相互矛盾或無法實現時應當認為這種技術方案的結合不存在,也不在本專利技術要求的保護范圍之內。
[0033]本專利技術所采用的主要器件如下:
[0034]干涉儀主體1
?
1選用ZYGO公司的型號為DynaFiz的動態測量激光干涉儀1,干涉平面鏡頭1
?
2選用ZYGO公司的標準平面鏡頭;
[0035]第一平面反射鏡2
?
1、第二平面反射鏡2
?
2以及第三平面反射鏡2
?
3采用蘇州華帝生產的高精度平面鏡,反射鏡材本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
1.一種高精度拼接角錐的調節裝置,對待調平面反射鏡(2)進行調節,所述待調平面反射鏡(2)包括第一平面反射鏡(2
?
1)、第二平面反射鏡(2
?
2)以及第三平面反射鏡(2
?
3),其特征在于,所述調節裝置包括干涉儀(1),所述干涉儀(1)包括干涉儀(1
?
1)主體與干涉平面鏡頭(1
?
2),所述干涉平面鏡頭(1
?
2)安裝于所述干涉儀(1
?
1)主體上,所述干涉平面鏡頭(1
?
2)使出射光自準回所述干涉儀(1
?
1)主體;調節工裝(3),所述調節工裝(3)包括底塊(3
?
1)、第一調節組(3
?
2)以及第二調節組(3
?
3),所述底塊(3
?
1)、第一調節組(3
?
2)以及第二調節組(3
?
3)相互呈90度設置,所述第一調節組(3
?
2)對第二平面反射鏡(2
?
2)進行方位調整,所述第二調節組(3
?
3)對第三平面反射鏡(2
?
3)進行方位調整。2.根據權利要求1所述的一種高精度拼接角錐的調節裝置,其特征在于,所述底塊(3
?
1)、第一調節組(3
?
2)以及第二調節組(3
?
3)與所述第一平面反射鏡(2
?
1)、第二平面反射鏡(2
?
2)以及第三平面反射鏡(2
?
3)分別一一對應。3.根據權利要求1所述的一種高精度拼接角錐的調節裝置,其特征在于,所述調節工裝(3)還包括固定支架(3
?
4),所述底塊(3
?
1)位于所述固定支架(3
?
4)上。4.根據權利要求1所述的一種高精度拼接角錐的調節裝置,其特征在于,所述干涉儀(1)產生的平行光波形精度RMS值優于1/100λ@632.8nm,能夠被待調平面反射鏡(2)反射。5.根據權利要求1或4所述的一種高精度拼接角錐的調節裝置,其特征在于,所述第一平面反射鏡(2
?
【專利技術屬性】
技術研發人員:吳愛華,彭永民,吳文龍,
申請(專利權)人:蘇州沛斯仁光電科技有限公司,
類型:發明
國別省市:
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