本實用新型專利技術公開了一種單晶硅片表面清洗裝置，涉及單晶硅片清洗技術領域，包括清洗槽，所述清洗槽的外表面設有加強框架，所述清洗槽的前表面中間位置的所述加強框架上設有安裝板，所述安裝板的前表面左側設有過濾箱，所述過濾箱的下端設有進水管，所述安裝板的前表面且在所述過濾箱的右側設有加壓箱，所述加壓箱的內部設有加壓泵，所述加壓泵的輸入端與所述過濾箱上端之間連通連接有連接管，所述加壓泵的輸出端設有出水管，所述清洗槽的前后壁內表面上端設有噴淋器，所述出水管與所述噴淋器連通連接，對從溶液中取出的單晶硅片進行沖洗，降低多次清洗作業后，對清洗槽內部的溶液產生的污染，保證清洗槽內清洗液清潔。保證清洗槽內清洗液清潔。保證清洗槽內清洗液清潔。
【技術實現步驟摘要】
一種單晶硅片表面清洗裝置
[0001]本技術涉及單晶硅片清洗
，具體涉及一種單晶硅片表面清洗裝置。
技術介紹
[0002]單晶硅片是一種具有基本完整的點陣結構的晶體，不同的方向具有不同的性質，是一種良好的半導材料，廣泛用于制造半導體器件、太陽能電池等，單晶硅是一種比較活潑的非金屬元素，是晶體材料的重要組成部分，處于新材料發展的前沿。在單晶硅片加工過程中，需要將成型的單晶硅片進行清洗，去除單晶硅片上的污染物，單晶硅片清洗流程包括超聲波清洗、超聲波堿洗、超聲波漂洗、超聲波藥洗、慢拉脫水及烘干等流程。常規的清洗設備，需要將單晶硅片整體浸泡到清洗槽的溶液內，但是進過多次清洗作業后，清洗槽內部的溶液會產生污染，單晶硅片會攜帶著被污染的溶液進入到下一清洗槽內部，導致清洗槽依次被污染。
技術實現思路
[0003]本技術的目的在于提供一種單晶硅片表面清洗裝置，以解決上述
技術介紹
中提出的常規的清洗設備，需要將單晶硅片整體浸泡到清洗槽的溶液內，但是進過多次清洗作業后，清洗槽內部的溶液會產生污染，單晶硅片會攜帶著被污染的溶液進入到下一清洗槽內部，導致清洗槽依次被污染的問題。
[0004]為實現上述目的，本技術提供如下技術方案：一種單晶硅片表面清洗裝置，包括清洗槽，所述清洗槽的外表面設有加強框架，所述清洗槽的前表面中間位置的所述加強框架上設有安裝板，所述安裝板的前表面左側設有過濾箱，所述過濾箱的下端設有進水管，所述安裝板的前表面且在所述過濾箱的右側設有加壓箱，所述加壓箱的內部設有加壓泵，所述加壓泵的輸入端與所述過濾箱上端之間連通連接有連接管，所述加壓泵的輸出端設有出水管，所述清洗槽的前后壁內表面上端設有噴淋器，所述出水管與所述噴淋器連通連接。
[0005]優選的，所述過濾箱的內部從上至下依次設有多層濾芯，所述濾芯濾網直徑從上至下依次變大，所述進水管的上端貫穿所述過濾箱的下壁與所述過濾箱的內腔連通連接，所述進水管的下端貫穿所述清洗槽的前壁與所述清洗槽的下端連通連接。
[0006]優選的，所述出水管的一端與所述加壓泵連通連接，所述出水管的另一端貫穿所述清洗槽的側壁與所述噴淋器連通連接，所述出水管上設有固定卡，所述固定卡通過螺栓與所述清洗槽的右壁內表面固定連接。
[0007]優選的，所述加壓箱的內部下端與所述加壓泵對應的位置設有安裝支架，所述加壓泵通過螺栓與所述安裝支架固定連接，所述加壓箱的前壁與所述加壓泵對應的位置貫穿設有散熱孔。
[0008]優選的，所述加強框架的下端且在所述清洗槽的下壁四角處設有支腿。
[0009]與現有技術相比，本技術的有益效果是：在常規的清洗槽基礎上設置過濾箱及加壓箱，通過加壓箱將清洗槽內部的溶液抽取到過濾箱內部進行過濾，再經過加壓后通
過噴淋器噴出，對從溶液中取出的單晶硅片進行沖洗，并通過過濾功能，降低多次清洗作業后，對清洗槽內部的溶液產生的污染，避免單晶硅片攜帶著被污染的溶液進入到下一清洗槽內部，保證清洗槽內清洗液清潔。
附圖說明
[0010]圖1為本技術的主體結構軸測圖；
[0011]圖2為本技術的主體結構主視剖視圖；
[0012]圖3為本技術的過濾箱結構主視剖視圖；
[0013]圖4為本技術的主體結構主視示意圖；
[0014]圖5為本技術的主體結構俯視示意圖。
[0015]圖中：1
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清洗槽、2
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加強框架、3
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安裝板、4
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過濾箱、5
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進水管、6
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加壓箱、7
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加壓泵、8
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連接管、9
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出水管、10
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噴淋器、11
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濾芯、12
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固定卡、13
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安裝支架、14
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散熱孔、15
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支腿。
具體實施方式
[0016]下面將結合本技術實施例中的附圖，對本技術實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本技術一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本技術中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本技術保護的范圍。
[0017]請參閱圖1
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5，本技術提供一種單晶硅片表面清洗裝置，包括清洗槽1，所述清洗槽1的外表面設有加強框架2，所述清洗槽1的前表面中間位置的所述加強框架2上設有安裝板3，所述安裝板3的前表面左側設有過濾箱4，所述過濾箱4的下端設有進水管5，所述安裝板3的前表面且在所述過濾箱4的右側設有加壓箱6，所述加壓箱6的內部設有加壓泵7，所述加壓泵7的輸入端與所述過濾箱4上端之間連通連接有連接管8，所述加壓泵7的輸出端設有出水管9，所述清洗槽1的前后壁內表面上端設有噴淋器10，所述出水管9與所述噴淋器10連通連接。
[0018]使用時，清洗槽1的內部承裝清洗液，將單晶硅片在花籃的攜帶下浸入到清晰液內進行清洗，通過在清洗槽1外表面上設置加強框架2，提升整體清洗槽1的強度，在加強框架2外表面設置安裝板3，在安裝板3上設置過濾箱4及加壓箱6，在加壓箱6內設置加壓泵7，通過加壓泵7將清洗槽1內部的清洗液通過進水管5抽取到過濾箱4的內部，通過過濾箱4對清洗液進行過濾作業，過濾后的清洗液通過連接管8進入到加壓泵7，加壓后通過出水管9輸入到噴淋器10的內部，通過噴淋器10噴淋到清洗槽1內部，當單晶硅片從清洗液中取出時，噴淋器10一直對單晶硅片進行噴淋清潔。
[0019]所述過濾箱4的內部從上至下依次設有多層濾芯11，所述濾芯11濾網直徑從上至下依次變大，所述進水管5的上端貫穿所述過濾箱4的下壁與所述過濾箱4的內腔連通連接，所述進水管5的下端貫穿所述清洗槽1的前壁與所述清洗槽1的下端連通連接，通過在過濾箱4的內部依次設置濾芯11，通過多層濾芯11對清洗液進行過濾作業。
[0020]所述出水管9的一端與所述加壓泵7連通連接，所述出水管9的另一端貫穿所述清洗槽1的側壁與所述噴淋器10連通連接，所述出水管9上設有固定卡12，所述固定卡12通過
螺栓與所述清洗槽1的右壁內表面固定連接，通過固定卡12，將出水管9固定設置在清洗槽1的側壁內表面上端。
[0021]所述加壓箱6的內部下端與所述加壓泵7對應的位置設有安裝支架13，所述加壓泵7通過螺栓與所述安裝支架13固定連接，所述加壓箱6的前壁與所述加壓泵7對應的位置貫穿設有散熱孔14，通過在加壓箱6的內部設置安裝支架13，加壓泵7通過螺栓固定在安裝支架13上，設置在加壓箱6的內部，通過在加壓箱6的前壁設置散熱孔14，對加壓泵7工作時產生的熱量進行散熱作業。
[0022]所述加強框架2的下端且在所述清洗槽1的下壁四角處設有支腿15，通過在加強框架2的下端設置支腿15，使得清洗槽1的下壁脫離地面，避免清洗槽1本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
1.一種單晶硅片表面清洗裝置，其特征在于：包括清洗槽(1)，所述清洗槽(1)的外表面設有加強框架(2)，所述清洗槽(1)的前表面中間位置的所述加強框架(2)上設有安裝板(3)，所述安裝板(3)的前表面左側設有過濾箱(4)，所述過濾箱(4)的下端設有進水管(5)，所述安裝板(3)的前表面且在所述過濾箱(4)的右側設有加壓箱(6)，所述加壓箱(6)的內部設有加壓泵(7)，所述加壓泵(7)的輸入端與所述過濾箱(4)上端之間連通連接有連接管(8)，所述加壓泵(7)的輸出端設有出水管(9)，所述清洗槽(1)的前后壁內表面上端設有噴淋器(10)，所述出水管(9)與所述噴淋器(10)連通連接。2.根據權利要求1所述的一種單晶硅片表面清洗裝置，其特征在于：所述過濾箱(4)的內部從上至下依次設有多層濾芯(11)，所述濾芯(11)濾網直徑從上至下依次變大，所述進水管(5)的上端貫穿所述過濾箱(4)的下壁與所述過濾箱(4)...
【專利技術屬性】
技術研發人員：李淼，劉哲，鄭志，
申請(專利權)人：錦州佑華硅材料有限公司，
類型：新型
國別省市：
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