一種用于硅片浸蝕均勻的旋轉結構制造技術

本發明專利技術公開了一種用于硅片浸蝕均勻的旋轉結構，涉及硅片浸蝕技術領域，包括一傳輸機構、下料機構以及用于傳遞的一傳遞機構，該傳輸機構包括一連接立桿，側壁板和頂板，連接立桿的四周外圍均圍設有側壁板，側壁板的頂部豎直設有頂板，頂板的頂部設有工型支架，工型支架的內側壁分別對撐設有連接撐桿，連接撐桿的頂端中部設有框架，框架的頂端中部設有傳遞的線性傳遞軌道，線性傳遞軌道的頂端中部設有下料機構，本發明專利技術的有益效果是：通過設有的連接立桿和側壁板的板面承載，將一部分的硅片材料實現混合攪動，按照相應的電動伸縮桿的延伸升降的狀態，牽引具體的交叉支架位置上的伸縮下移。移。移。

【技術實現步驟摘要】
一種用于硅片浸蝕均勻的旋轉結構


[0001]本專利技術涉及硅片浸蝕領域，特別涉及一種用于硅片浸蝕均勻的旋轉結構，屬于硅片浸蝕


技術介紹

[0002]硅片是一種薄而平坦的圓形硅基質材料，常用于集成電路（IC）制造和其他半導體器件的制備過程中。它是半導體工業中最常見的基板材料之一。
[0003]硅片通常由高純度單晶硅材料制成，具有良好的電學性能和機械性能。它的表面通常經過精細的加工和處理，以獲得高度平坦度和純凈度，其中申請號為“CN202121774509.3”所公開的“一種硅片吸附裝置以及一種硅片加工設備”，該技術屬于硅片加工裝置
，尤其涉及一種硅片吸附裝置以及一種硅片加工設備，硅片吸附裝置，包括：真空泵；與真空泵連接的主氣體管道；多條與主氣體管道分別連接的分支氣體管道，各個分支氣體管道一端均設有吸盤結構；用于固定吸盤結構的固定板，吸盤結構貫穿設置于固定板。在吸盤結構接觸到硅片之后，真空泵抽走吸盤結構內腔的空氣，使得吸盤結構吸附硅片，并且利用吸盤結構本身的重力以及被吸附的硅片重力使得吸盤結構實現回位，該吸附過程不會對硅片造成損傷，可靠性高。經再一步檢索發現，其申請號為“CN201710816446.5”所公開的“一種硅片生產用厚度測量裝置”，該專利技術的有益效果是：本專利技術涉及一種硅片厚度測量裝置，尤其涉及一種硅片生產用厚度測量裝置。本專利技術要解決的技術問題是提供一種可對硅片進行平整度檢測、固定牢靠、操作簡單的硅片生產用厚度測量裝置。為了解決上述技術問題，本專利技術提供了這樣一種硅片生產用厚度測量裝置，包括有工作臺等；工作臺頂部左側焊接有7型板，7型板左側設有厚度檢測裝置，工作臺頂部中間設有旋轉裝置，旋轉裝置上的旋轉部件連接有圓形放置板，圓形放置板上設有固定裝置。本專利技術通過厚度檢測裝置對硅片進行厚度檢測，并通過平整度檢測裝置對硅片進行平整度檢測，從而達到了可對硅片進行平整度檢測、使用方便、操作簡單的效果，但是上述兩種硅片處理設備還存在以下缺陷：傳統的單晶硅片在制作的CPU的成品分析芯片之前普遍需要將單晶硅片進行堆疊歸納并予以輸送到指定的位置再進行收集，此階段上的硅片很難實現批量化的整理傳輸，而且在關節技術環節當中的硅片浸蝕環節當中其單晶硅片夾持處理普遍比較困難，無具體的涂抹的結構輔助硅片的均勻的旋轉的浸蝕的結構，導致后期的處理階段上比較復雜繁瑣；傳統的硅片處理環節上，還極易造成硅片成品的丟失和分批次的加工階段上不夠便利，導致后期的處理免不了人工將硅片的歸納和分批次的硅片浸蝕旋轉。

技術實現思路

[0004]本專利技術的目的在于提供一種用于硅片浸蝕均勻的旋轉結構，以解決上述
技術介紹
中提出的傳統的硅片處理環節上，還極易造成硅片成品的丟失和分批次的加工階段上不夠
便利，導致后期的處理免不了人工將硅片的歸納和分批次地硅片浸蝕旋轉的問題。
[0005]為實現上述目的，本專利技術提供如下技術方案：一種用于硅片浸蝕均勻的旋轉結構，包括一傳輸機構、下料機構以及用于傳遞的一傳遞機構；該傳輸機構包括一連接立桿，側壁板和頂板；所述連接立桿的四周外圍均圍設有側壁板，所述側壁板的頂部豎直設有頂板；頂板的頂部設有工型支架，所述工型支架的內側壁分別對撐設有連接撐桿，所述連接撐桿的頂端中部設有框架，所述框架的頂端中部設有傳遞的線性傳遞軌道，所述線性傳遞軌道的頂端中部設有下料機構；所述下料機構包括限制支架，所述限制支架的兩端頭位置鉸接有傳動桿，所述傳動桿的表面套接有傳遞履帶，其中一傳遞履帶的一端還設有用于傳動設置的履帶電機，所述履帶電機的外殼位置安裝有電機支架，所述電機支架的頂端中部設有驅動的線性滑動撐桿，所述線性滑動撐桿的表面通過線性套管與中部所設的線性傳遞軌道的表面滑動設置。
[0006]作為本專利技術一種優選方案：所述線性滑動撐桿的中部設有用于接取的凹型支架，所述凹型支架的中部設有用于放置下料的一原料硅片，所述原料硅片堆疊設置在凹型支架中部，位于凹型支架的頂端中部安裝有牽引機構，所述牽引機構包括安裝設置在工型支架中部位置的安裝板，所述安裝板的頂端中部設有用于升降的連桿，所述連桿的頂端中部設有承載框架，所述承載框架的頂端中部設有調節基座，所述調節基座的兩端設有緩沖桿。
[0007]作為本專利技術一種優選方案：所述緩沖桿的一端設有搭載平臺，所述搭載平臺的底端中部安裝有承載支架，所述承載支架的一端設有傳遞機構；其中該傳遞機構包括安裝設置在頂板頂端中部的傳遞支架，所述傳遞支架的中部設有用于傳動設置的驅動滾軸，所述驅動滾軸的中部設有聯動履帶，所述聯動履帶兩平行設置，所述頂板的頂端中部設有滑動導桿。
[0008]作為本專利技術一種優選方案：所述滑動導桿的桿體側壁設有用于伸縮牽引的電動伸縮桿，所述電動伸縮桿的伸縮端與下端還安裝有交叉支架，所述交叉支架底端中部安裝有用于升降的升降桿，所述升降桿的底端設有鉸接扣，其中該鉸接扣的桿體底端伸縮設有鉸接側板，所述鉸接側板的底端中部豎直安裝有伸縮撐桿，所述伸縮撐桿的一端設有聯動設置的收縮氣桿，所述收縮氣桿的底端設有用于吸附夾持硅晶片的負壓硅膠墊。
[0009]作為本專利技術一種優選方案：所述負壓硅膠墊的內部通過連通導管與外接的氣泵密封連通，還包括用于硅晶片加工的控制箱，其中該控制箱的箱體正中部設有用于上料放置的硅片放置機構；所述硅片放置機構包括設于控制箱前端位置的外框支架，所述外框支架的正表面設有用于聯動支撐的線性導桿，所述線性導桿的一端設有用于調動的調節撐板。
[0010]作為本專利技術一種優選方案：所述調節撐板的上端設有連接撐板，所述連接撐板的頂端邊側設有用于傳動設置的絲桿支架，所述絲桿支架的頂端中部設有用于傳動的驅動電機，所述驅動電機的一端貫穿一端的絲桿與表面所套設的安裝座的表面限位設置，所述安裝座表面設有用于聯動設置的夾持機構，所述夾持機構包括設于線性導桿的后端的放置基座，其中該放置基座頂端中部豎直安裝有用于硅片貼合放置的硅片浸蝕支架，且該硅片浸蝕支架的頂端中部設有放置框。
[0011]作為本專利技術一種優選方案：所述放置框的頂端中部設有調節墊片，所述調節墊片
的頂端中部豎直支撐有用于貼合設置的方形框，所述方形框的上端設有浸蝕板，所述浸蝕板的底端中部設有打磨的打磨器，所述打磨器的頂端中部設有支撐的放置座，所述放置座的頂端中部設有支撐的放置板。
[0012]作為本專利技術一種優選方案：所述放置板的上端位置支撐有用于吸附旋轉的吸附機構，其中該吸附機構包括與相應的調節墊片位置相對的連接墊片的之間支撐設置，所述吸附機構包括安裝在外框支架的艙內頂部四邊角位置的浸蝕桿，位于該浸蝕桿桿體中部設有用于連接的一彈簧，所述彈簧的一端設有一連接基座，所述連接基座的底端中部設有聯動設置的套接基座，其中該套接基座的頂端中部設有接入的連接套管，所述連接套管的中部設有用于調節的套接管，該套接管的兩端中部設有接入的管套限制結構，所述管套限制結構包括一環形外框，其中該環形外框的底端中部豎直安裝有一調節端聯動設置。
[0013]作為本專利技術一種優選方案：所述套接基座的兩端位置設有用于支撐的調節立桿，所述調本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.一種用于硅片浸蝕均勻的旋轉結構，包括一傳輸機構（1）、下料機構（2）以及用于傳遞的一傳遞機構（3）；其特征在于：該傳輸機構（1）包括一連接立桿（11），側壁板（12）和頂板（13）；所述連接立桿（11）的四周外圍均圍設有側壁板（12），所述側壁板（12）的頂部豎直設有頂板（13）；頂板（13）的頂部設有工型支架（14），所述工型支架（14）的內側壁分別對撐設有連接撐桿（15），所述連接撐桿（15）的頂端中部設有框架（16），所述框架（16）的頂端中部設有傳遞的線性傳遞軌道（17），所述線性傳遞軌道（17）的頂端中部設有下料機構（2）；所述下料機構（2）包括限制支架（21），所述限制支架（21）的兩端頭位置鉸接有傳動桿（22），所述傳動桿（22）的表面套接有傳遞履帶（23），其中一傳遞履帶（23）的一端還設有用于傳動設置的履帶電機（24），所述履帶電機（24）的外殼位置安裝有電機支架，所述電機支架的頂端中部設有驅動的線性滑動撐桿（25），所述線性滑動撐桿（25）的表面通過線性套管與中部所設的線性傳遞軌道（17）的表面滑動設置。2.根據權利要求1所述的一種用于硅片浸蝕均勻的旋轉結構，其特征在于：所述線性滑動撐桿（25）的中部設有用于接取的凹型支架（26），所述凹型支架（26）的中部設有用于放置下料的一原料硅片（27），所述原料硅片（27）堆疊設置在凹型支架（26）中部，位于凹型支架（26）的頂端中部安裝有牽引機構（4），所述牽引機構（4）包括安裝設置在工型支架（14）中部位置的安裝板（41），所述安裝板（41）的頂端中部設有用于升降的連桿（42），所述連桿（42）的頂端中部設有承載框架，所述承載框架的頂端中部設有調節基座（43），所述調節基座（43）的兩端設有緩沖桿（44）。3.根據權利要求2所述的一種用于硅片浸蝕均勻的旋轉結構，其特征在于：所述緩沖桿（44）的一端設有搭載平臺（45），所述搭載平臺（45）的底端中部安裝有承載支架（46），所述承載支架（46）的一端設有傳遞機構（3）；其中該傳遞機構（3）包括安裝設置在頂板（13）頂端中部的傳遞支架（31），所述傳遞支架（31）的中部設有用于傳動設置的驅動滾軸（32），所述驅動滾軸（32）的中部設有聯動履帶（33），所述聯動履帶（33）兩平行設置，所述頂板（13）的頂端中部設有滑動導桿（34）。4.根據權利要求3所述的一種用于硅片浸蝕均勻的旋轉結構，其特征在于：所述滑動導桿（34）的桿體側壁設有用于伸縮牽引的電動伸縮桿（35），所述電動伸縮桿（35）的伸縮端與下端還安裝有交叉支架（36），所述交叉支架（36）底端中部安裝有用于升降的升降桿（37），所述升降桿（37）的底端設有鉸接扣（38），其中該鉸接扣（38）的桿體底端伸縮設有鉸接側板（39），所述鉸接側板（39）的底端中部豎直安裝有伸縮撐桿（391），所述伸縮撐桿（391）的一端設有聯動設置的收縮氣桿（392），所述收縮氣桿（392）的底端設有用于吸附夾持硅晶片的負壓硅膠墊（393）。5.根據權利要求4所述的一種用于硅片浸蝕均勻的旋轉結構，其特征在于：所述負壓硅膠墊（393）的內部通過連通導管與外接的氣泵密封連通，還包括用于硅晶片加工的控制箱（394），其中該控制箱（394）的箱體正中部設有用于上料放置的硅片放置機構（5）；所述硅片...

【專利技術屬性】
技術研發人員：馬勝南，馬勝北，陳永春，任玉飛，張強，
申請(專利權)人：南軒天津科技有限公司，
類型：發明
國別省市：