基站以及清潔系統技術方案

本實用新型專利技術公開一種基站以及清潔系統，基站包括基站本體以及噴液件，基站本體設有清潔槽，噴液件被配置為能夠被驅動，以相對基站本體沿預設軌道運動，噴液件在沿預設軌道運動時能夠朝清潔槽內噴射清潔液。如此設置，在需要清洗清潔槽時，驅動噴液件沿預設軌道運動，噴液件一并朝清潔槽內噴射清潔液，便能對清潔槽進行清洗，進而能夠解決用戶因需手動清洗清潔槽而導致的用戶體驗較差的問題。槽而導致的用戶體驗較差的問題。槽而導致的用戶體驗較差的問題。

【技術實現步驟摘要】
基站以及清潔系統


[0001]本技術屬于基站
，具體涉及一種基站以及清潔系統。

技術介紹

[0002]基站與清潔設備配套使用，在清洗清潔設備的清潔件時，污水先落入基站的清潔槽內，再經清潔槽的排液口排出。在清潔設備的清潔件完成清洗后，清潔槽內容易殘留有污漬，需要用戶手動清洗，導致用戶體驗較差，故亟需改進。

技術實現思路

[0003]因此，本技術所要解決的技術問題是用戶需手動清洗清潔槽而導致的用戶體驗較差的問題。
[0004]為解決上述技術問題，本技術提供一種基站，所述基站包括：
[0005]基站本體，所述基站本體設有清潔槽；
[0006]噴液件，所述噴液件被配置為能夠被驅動，以相對所述基站本體沿預設軌道運動，所述噴液件在沿所述預設軌道運動時能夠朝所述清潔槽內噴射清潔液。
[0007]可選地，上述的基站，所述基站包括安裝支架，所述安裝支架活動安裝于所述基站本體并能夠沿所述預設軌道的走向滑動，所述噴液件安裝于所述安裝支架，所述安裝支架被配置為能夠被驅動相對所述基站本體運動，以帶動所述噴液件沿所述預設軌道運動。
[0008]可選地，上述的基站，所述基站本體具有側向敞口的容納腔，所述容納腔具有頂壁、與所述頂壁呈相對設置的底壁以及連接所述頂壁的和所述底壁的側壁，所述清潔槽設于所述底壁；
[0009]所述預設軌道位于所述清潔槽的側壁、所述頂壁以及所述側壁中的至少一個位置。
[0010]可選地，上述的基站，所述基站本體設有導向部，所述導向部沿所述預設軌道的走向延伸設置，所述安裝支架設有配合部，所述配合部與所述導向部配合并能夠沿所述導向部移動。
[0011]可選地，上述的基站，所述安裝支架與所述噴液件可拆卸連接。
[0012]可選地，上述的基站，所述安裝支架設有卡槽，所述噴液件設有與所述卡槽配合的卡塊。
[0013]可選地，上述的基站，所述噴液件活動安裝于所述安裝支架，所述噴液件被配置為能夠被驅動沿所述安裝支架的延伸方向運動。
[0014]可選地，上述的基站，所述預設軌道位于所述清潔槽側壁，所述基站本體的底部設有安裝腔，所述基站本體還設有連通所述安裝腔和所述清潔槽的側壁的讓位開口，所述讓位開口沿所述預設軌道的走向延伸設置，所述噴液件收容于所述安裝腔內，所述噴液件的噴液口朝向所述讓位開口。
[0015]可選地，上述的基站，所述噴液件設有噴液接頭，所述噴液接頭位于所述讓位開口
內。
[0016]可選地，上述的基站，所述安裝腔內設有限位部，所述限位部沿所述讓位開口的延伸方向延伸設置，所述限位部與所述安裝腔鄰接所述讓位開口的腔壁圍設形成滑槽，所述噴液件至少部分與所述滑槽滑動配合。
[0017]可選地，上述的基站，所述安裝支架能夠沿橫向、縱向和豎向中的至少一個方向運動。
[0018]可選地，上述的基站，所述清潔槽的槽底傾斜設置，所述槽底的最低位置設有排液口。
[0019]可選地，上述的基站，所述基站還包括驅動機構，所述噴液件能夠被所述驅動機構驅動，以相對所述基站本體沿所述預設軌道運動。
[0020]可選地，上述的基站，所述噴液件為扇形噴嘴或者直線噴嘴。
[0021]本技術還提供一種清潔系統，所述清潔系統包括如上所述的基站以及清潔設備。
[0022]本技術提供的技術方案，具有以下優點：
[0023]上述的基站通過基站本體和噴液件的設定，在需要清洗清潔槽時，驅動噴液件沿預設軌道運動，噴液件一并朝清潔槽內噴射清潔液，便能對清潔槽進行清洗，進而能夠解決用戶因需手動清洗清潔槽而導致的用戶體驗較差的問題。
附圖說明
[0024]為了更清楚地說明本技術具體實施方式或現有技術中的技術方案，下面將對具體實施方式或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見，下面描述中的附圖是本技術的一些實施方式，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0025]圖1為本技術提供的基站的第一種實施方式的結構示意圖。
[0026]圖2為圖1中局部A的放大結構示意圖。
[0027]圖3為圖1的另一視角的結構示意圖。
[0028]圖4為圖3中局部B的放大結構示意圖。
[0029]圖5為本技術提供的基站的第二種實施方式的結構示意圖。
[0030]圖6為圖5中C
?
C面的剖視結構示意圖。
[0031]圖7為圖6中局部D的放大結構示意圖。
[0032]圖8為本技術提供的基站的第三種實施方式的結構示意圖。
[0033]圖9為本技術提供的基站的第四種實施方式的結構示意圖。
[0034]附圖標記說明：
[0035]1000
?
基站；
[0036]100
?
基站本體；100a
?
清潔槽；100b
?
承載面；100c
?
排液口；100d
?
安裝腔；100e
?
讓位開口；100f
?
滑槽；100g
?
容納腔；110g
?
頂壁；120g
?
底壁；130g
?
側壁；110
?
導向桿；120
?
限位部；
[0037]200
?
噴液件；210
?
卡塊；220
?
噴液接頭；
[0038]300
?
安裝支架；300a
?
導向孔；300b
?
卡槽。
具體實施方式
[0039]下面將結合附圖對本技術的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本技術一部分實施例，而不是全部的實施例。下文中將參考附圖并結合實施例來詳細說明本技術。需要說明的是，在不沖突的情況下，本技術中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。
[0040]需要說明的是，本技術的說明書和權利要求書及上述附圖中的術語“第一”、“第二”等是用于區別類似的對象，而不必用于描述特定的順序或先后次序。
[0041]在本技術中，在未作相反說明的情況下，使用的方位詞如“上、下、頂、底”通常是針對附圖所示的方向而言的，或者是針對部件本身在豎直、垂直或重力方向上而言的；同樣地，為便于理解和描述，“內、外”是指相對于各部件本身的輪廓的內、外，但上述方位詞并不用于限制本技術。
[0042]本技術提出一種基站，其通過在基站本體設有清潔槽的基礎上增設能夠移動的噴液件，噴液件相對基站本體沿預設軌道運動，一并朝清潔槽內噴射清潔液，便能對清潔槽進行清洗，進而能夠解決用戶因需手動清洗清潔槽而導致的用戶體驗較差的問題。
[0043]基站主要用于與清本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.一種基站，其特征在于，所述基站包括：基站本體，所述基站本體設有清潔槽；噴液件，所述噴液件被配置為能夠被驅動，以相對所述基站本體沿預設軌道運動，所述噴液件在沿所述預設軌道運動時能夠朝所述清潔槽內噴射清潔液。2.根據權利要求1所述的基站，其特征在于，所述基站包括安裝支架，所述安裝支架活動安裝于所述基站本體并能夠沿所述預設軌道的走向滑動，所述噴液件安裝于所述安裝支架，所述安裝支架被配置為能夠被驅動相對所述基站本體運動，以帶動所述噴液件沿所述預設軌道運動。3.根據權利要求2所述的基站，其特征在于，所述基站本體具有側向敞口的容納腔，所述容納腔具有頂壁、與所述頂壁呈相對設置的底壁以及連接所述頂壁的和所述底壁的側壁，所述清潔槽設于所述底壁；所述預設軌道位于所述清潔槽的側壁、所述頂壁以及所述側壁中的至少一個位置。4.根據權利要求3所述的基站，其特征在于，所述基站本體設有導向部，所述導向部沿所述預設軌道的走向延伸設置，所述安裝支架設有配合部，所述配合部與所述導向部配合并能夠沿所述導向部移動。5.根據權利要求3所述的基站，其特征在于，所述安裝支架與所述噴液件可拆卸連接。6.根據權利要求5所述的基站，其特征在于，所述安裝支架設有卡槽，所述噴液件設有與所述卡槽配合的卡塊。7.根據權利要求3所述的基站，其特征在于，所述噴液件活動安裝于所述安裝支架，所述噴液件被...

【專利技術屬性】
技術研發人員：蘇媛麗，李達，
申請(專利權)人：追覓創新科技蘇州有限公司，
類型：新型
國別省市：