一種細長管內(nèi)孔流動鍍鉻工藝方法及裝置制造方法及圖紙

本發(fā)明專利技術(shù)涉及電鍍技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了一種細長管內(nèi)孔流動鍍鉻工藝方法及裝置，包括液槽、水泵、第一多通電磁球閥、第二多通電磁球閥、電磁流量計、上模工裝、下模工裝、陽極鋼絲、溶液管道、純水注入管和回收槽，液槽設置于回收槽的一側(cè)，水泵的輸入端與液槽連通，水泵的輸出端與第一多通電磁球閥的輸入端連通，第一多通電磁球閥的輸出端與電磁流量計的輸入端連通，下模工裝與電磁流量計的輸出端連通，溶液管道的輸入端與上模工裝連通。采用流動的方式進行電鍍，具有高效率、低能耗、清潔、環(huán)保的優(yōu)點，提高了鍍后尺寸厚度的均勻度，提升內(nèi)孔鉻層結(jié)合力和外觀質(zhì)量，降低鍍后廢水排放量，降低了制造成本。降低了制造成本。降低了制造成本。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
一種細長管內(nèi)孔流動鍍鉻工藝方法及裝置


[0001]本專利技術(shù)涉及電鍍
，尤其涉及一種細長管內(nèi)孔流動鍍鉻工藝方法及裝置。

技術(shù)介紹

[0002]一種細長管內(nèi)孔直徑約5
?
9mm，孔的長度與孔的直徑之比大于10，工作環(huán)境為高溫、高壓以及強摩擦，單純依靠基體材料本身性能無法滿足使用壽命長、安全可靠性好等綜合性能的要求，因此，常利用鍍鉻工藝手段，在其內(nèi)孔表面鍍一定厚度的鉻層，以此達到抗腐蝕、耐磨損、低摩擦的目的。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)中，常利用“浸泡鍍”的鍍鉻工藝手段，在其內(nèi)孔表面鍍一定厚度的鉻層，以此達到抗腐蝕、耐磨損、低摩擦的目的，使之與自動武器綜合性能要求相匹配。
[0004]但現(xiàn)有技術(shù)中，由于細長管本身內(nèi)部空間狹窄，導致陰陽極反應產(chǎn)生氣體僅靠自身浮力作用呈自下而上不規(guī)則運動，整個氣泡在細長管內(nèi)部分布并不均勻，易在細長管中上部聚集，增大中上部電阻，最終引起中部或上端鉻層較薄，下端鉻層較厚，即兩端錐差大或中部空心缺陷；利用現(xiàn)有的鍍鉻技術(shù)(浸泡式)對細長管進行鍍厚鉻(≥60um)作業(yè)時，內(nèi)孔鉻層錐差、“腰鼓狀”、粗結(jié)晶以及光潔度差等缺陷將被成倍放大，一次性鍍鉻合格率較低，只能通過大量反復返工返修，嚴重增加了企業(yè)的制造成本；此外，浸泡鍍鉻后需對整個電鍍裝置(工裝架、模具、產(chǎn)品及電極等)表面的電鍍液進行清洗，槽液廢水排放量大，加劇廢水處理成本。

技術(shù)實現(xiàn)思路

[0005]本專利技術(shù)的目的在于提供一種細長管內(nèi)孔流動鍍鉻工藝方法及裝置，旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中的氣泡在細長管內(nèi)部分布不僅要，兩端錐差大、中部空心缺陷，以此鍍鉻合格率低，廢水排量大，加劇廢水處理成本的技術(shù)問題。
[0006]為實現(xiàn)上述目的，本專利技術(shù)采用的一種細長管內(nèi)孔流動鍍鉻裝置，包括液槽、水泵、第一多通電磁球閥、第二多通電磁球閥、電磁流量計、上模工裝、下模工裝、陽極鋼絲、溶液管道、純水注入管和回收槽，所述液槽設置于所述回收槽的一側(cè)，所述水泵的輸入端與所述液槽連通，并位于所述液槽的一側(cè)，所述水泵的輸出端與所述第一多通電磁球閥的輸入端連通，所述第一多通電磁球閥的輸出端與所述電磁流量計的輸入端連通，所述下模工裝與所述電磁流量計的輸出端連通，所述上模工裝設置于所述下模工裝的上端，所述溶液管道的輸入端與所述上模工裝連通，所述第二多通電磁球閥的輸入端與所述溶液管道的輸出端連通，所述第二多通電磁球閥的輸出端分別設置于所述液槽和所述回收槽的上端，所述陽極鋼絲貫穿所述上模工裝和所述下模工裝，所述純水注入管與所述第一多通電磁球閥連通。
[0007]其中，所述細長管內(nèi)孔流動鍍鉻裝置還包括第一絕緣層和第二絕緣層，所述第一絕緣層設置于所述上模工裝的上端，所述第二絕緣層設置于所述下模工裝的下端。
[0008]其中，所述細長管內(nèi)孔流動鍍鉻裝置還包括第一密封圈和第二密封圈，所述第一
密封圈設置于所述上模工裝的內(nèi)部，所述第二密封圈設置于所述下模工裝的內(nèi)部。
[0009]本專利技術(shù)還提供一種細長管內(nèi)孔流動鍍鉻工藝方法，應用于如上述所述的細長管內(nèi)孔流動鍍鉻裝置，包括如下步驟：
[0010]對細長管進行除油清洗；
[0011]使用堿性溶液對細長管進行去鉛清洗，去除內(nèi)膛附著的鉛層；
[0012]使用酸洗溶液對細長管進行酸洗，去除內(nèi)膛的氧化皮；
[0013]使用堿性溶液對細長管進行二次去鉛清洗，完全消除內(nèi)膛的鉛層和氧化皮；
[0014]對細長管的內(nèi)孔使用磨料拋光清洗，提高內(nèi)膛光潔度；
[0015]將細長管放置于所述上模工裝和所述下模工裝之間，使用電鍍液進行電鍍；
[0016]以此細長管鍍鉻完成。
[0017]其中，在去鉛清洗步驟中具體工藝為：濃度為280～360g/L的氫氧化鈉溶液、濃度為80～150g/L的鉻酸鈉溶液，溫度為80～100℃，清洗20～30min。
[0018]其中，在拋光步驟中：使用600～1000目的碳化硅磨料，拋光3～9min。
[0019]其中，所述電鍍液配比為：CrO3：220～230g/L，Cr
3+
：4～5g/L，H2SO4：2～3g/L。
[0020]其中，乳白鉻電流密度25A/dm2～30A/dm2，18min鉻層厚度可達5um；硬鉻電流密度35A/dm2～40A/dm2，9min鉻層厚度可達5um；鉻層結(jié)構(gòu)要求乳白鉻和硬鉻復合鉻層時，電鍍完乳白鉻后可不斷電降溫，電流密度逐漸升高至硬鉻電流密度。
[0021]其中，電鍍過程中電流均分法是利用二個單獨陽極輸出，各自輸出給定電流，獨立控制；并可根據(jù)細長管鍍件內(nèi)孔尺寸公差進行上下端電流補償，實現(xiàn)錐差細長管無錐差電鍍。
[0022]本專利技術(shù)的一種細長管內(nèi)孔流動鍍鉻工藝方法及裝置的有益效果為：本專利技術(shù)采用流動的方式進行電鍍，具有高效率、低能耗、清潔、環(huán)保的優(yōu)點，解決了因氣泡聚集、所述陽極鋼絲因素產(chǎn)生電位降帶來的影響，保證了電流分布的穩(wěn)定性與均勻性，實現(xiàn)錐差細長管無錐差電鍍控制，提高了鍍后尺寸厚度的均勻度，提升內(nèi)孔鉻層結(jié)合力和外觀質(zhì)量，降低鍍后廢水排放量，降低了制造成本。
附圖說明
[0023]為了更清楚地說明本專利技術(shù)實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本專利技術(shù)的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0024]圖1是本專利技術(shù)的一種細長管內(nèi)孔流動鍍鉻裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0025]圖2是本專利技術(shù)的一種細長管內(nèi)孔流動鍍鉻工藝方法的工藝步驟流程圖。
[0026]1?
液槽、2
?
水泵、3
?
第一多通電磁球閥、4
?
第二多通電磁球閥、5
?
電磁流量計、7
?
上模工裝、6
?
下模工裝、8
?
陽極鋼絲、9
?
溶液管道、10
?
純水注入管、11
?
回收槽、12
?
第一絕緣層、13
?
第二絕緣層、14
?
第一密封圈、15
?
第二密封圈。
具體實施方式
[0027]請參閱圖1，本專利技術(shù)提供了一種細長管內(nèi)孔流動鍍鉻裝置，包括液槽1、水泵2、第一
多通電磁球閥3、第二多通電磁球閥4、電磁流量計5、上模工裝7、下模工裝6、陽極鋼絲8、溶液管道、純水注入管10和回收槽11，所述液槽1設置于所述回收槽11的一側(cè)，所述水泵2的輸入端與所述液槽1連通，并位于所述液槽1的一側(cè)，所述水泵2的輸出端與所述第一多通電磁球閥3的輸入端連通，所述第一多通電磁球閥3的輸出端與所述電磁流量計5的輸入端連通，所述下模工裝6與所述電磁流量計5的輸出端連通，所述上模工裝7設置于所述下模工裝6的上端，所述溶液管道的輸入端與所述上模工裝7連通，所述第二多通電磁球閥4的輸入端與所本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】

【技術(shù)特征摘要】
1.一種細長管內(nèi)孔流動鍍鉻裝置，其特征在于，包括液槽、水泵、第一多通電磁球閥、第二多通電磁球閥、電磁流量計、上模工裝、下模工裝、陽極鋼絲、溶液管道、純水注入管和回收槽，所述液槽設置于所述回收槽的一側(cè)，所述水泵的輸入端與所述液槽連通，并位于所述液槽的一側(cè)，所述水泵的輸出端與所述第一多通電磁球閥的輸入端連通，所述第一多通電磁球閥的輸出端與所述電磁流量計的輸入端連通，所述下模工裝與所述電磁流量計的輸出端連通，所述上模工裝設置于所述下模工裝的上端，所述溶液管道的輸入端與所述上模工裝連通，所述第二多通電磁球閥的輸入端與所述溶液管道的輸出端連通，所述第二多通電磁球閥的輸出端分別設置于所述液槽和所述回收槽的上端，所述陽極鋼絲貫穿所述上模工裝和所述下模工裝，所述純水注入管與所述第一多通電磁球閥連通。2.如權(quán)利要求1所述的一種細長管內(nèi)孔流動鍍鉻裝置，其特征在于，所述細長管內(nèi)孔流動鍍鉻裝置還包括第一絕緣層和第二絕緣層，所述第一絕緣層設置于所述上模工裝的上端，所述第二絕緣層設置于所述下模工裝的下端。3.如權(quán)利要求2所述的一種細長管內(nèi)孔流動鍍鉻裝置，其特征在于，所述細長管內(nèi)孔流動鍍鉻裝置還包括第一密封圈和第二密封圈，所述第一密封圈設置于所述上模工裝的內(nèi)部，所述第二密封圈設置于所述下模工裝的內(nèi)部。4.一種細長管內(nèi)孔流動鍍鉻工藝方法，應用于如權(quán)利要求3所述的細長管內(nèi)孔流動鍍鉻裝置，其特征在于，包括如下步驟：對細長管進行除油清洗；使用堿性溶液對細長管進行去鉛清洗，去除內(nèi)膛附著的鉛層；使用酸洗溶液對細長管進行酸洗...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：李洪，王憲升，姜黎明，劉科言，李曉寅，吉永東，張必良，王建，何俊，張民，
申請(專利權(quán))人：重慶建設工業(yè)集團有限責任公司，
類型：發(fā)明
國別省市：