本實用新型專利技術涉及一種輪式點鍍機模具，包括環形輪式主體、設置于輪式主體外周面的定位針，輪式主體外周面設有平面遮蔽膠塊和側面遮蔽膠塊，側面遮蔽膠塊位于平面遮蔽膠塊中心位置且凸出平面遮蔽膠塊表面，側面遮蔽膠塊設有遮蔽槽，遮蔽槽的側面包括與電鍍件遮蔽側面貼合的遮蔽面、與電鍍件被電鍍側面相對的圍擋面，輪式主體以及平面遮蔽膠塊上設有與遮蔽槽連通的電鍍液過孔，圍擋面與電鍍件的電鍍面之間留有與電鍍液過孔連通的間隙。本實用新型專利技術通過平面遮蔽膠塊和側面遮蔽膠塊使得對電鍍件非電鍍區域進行貼合遮蔽，能夠實現費電鍍區域的完全遮蔽，遮蔽效果好，有效降低電鍍液中貴金屬消耗量；同時可以選用更高硬度的皮帶，降低皮帶的損耗。低皮帶的損耗。低皮帶的損耗。
【技術實現步驟摘要】
一種輪式點鍍機模具
[0001]本技術涉及電鍍設備，特別涉及一種輪式點鍍機模具。
技術介紹
[0002]電鍍是利用電解原理在金屬表面上鍍上一層其它金屬或者合金的過程。在電鍍時，通常采用電鍍設備對產品電鍍。部分電鍍設備為點鍍機，在點鍍機上采用模具實現對電鍍件的定位，實現對電鍍件部分區域的屏蔽，但是現有電鍍機采用彈性皮帶實現遮蔽，由于工作時皮帶難以壓入到位，因此導致非電鍍區域部分也被電鍍部分鍍層，進而使得電鍍液中貴金屬消耗量增加。同時為了減少非電鍍區域的電鍍范圍，通常選用硬度較軟的皮帶，此種方式又會導致皮帶磨損量較大，皮帶損耗過大。
技術實現思路
[0003]針對現有技術的不足，本技術的目的是提供一種輪式點鍍機模具。
[0004]本技術解決其技術問題所采用的技術方案是：一種輪式點鍍機模具，包括環形輪式主體、設置于所述輪式主體外周面的定位針，所述輪式主體外周面設有平面遮蔽膠塊和側面遮蔽膠塊，所述側面遮蔽膠塊位于所述平面遮蔽膠塊中心位置且凸出所述平面遮蔽膠塊表面，所述側面遮蔽膠塊設有遮蔽槽，所述遮蔽槽的側面包括與電鍍件遮蔽側面貼合的遮蔽面、與電鍍件被電鍍側面相對的圍擋面，所述輪式主體以及所述平面遮蔽膠塊上設有與所述遮蔽槽連通的電鍍液過孔，所述圍擋面與所述電鍍件的電鍍面之間留有與所述電鍍液過孔連通的間隙。
[0005]上述設計中通過平面遮蔽膠塊和側面遮蔽膠塊使得對電鍍件非電鍍區域進行貼合遮蔽，能夠實現費電鍍區域的完全遮蔽，遮蔽效果好，有效降低電鍍液中貴金屬消耗量；同時可以選用更高硬度的皮帶，降低皮帶的損耗。
[0006]作為本設計的進一步改進，所述輪式主體外周面上設有防呆凸臺，所述防呆凸臺伸入所述電鍍件的防呆孔中。防呆孔便于防止料帶位置放錯。
[0007]作為本設計的進一步改進，所述遮蔽面為斜面，所述遮蔽面自遮蔽槽底部向遮蔽槽開口遠離遮蔽槽中心延伸，即所述遮蔽槽底部寬度小于所述遮蔽槽頂部開口寬度。遮蔽面采用斜面便于將電鍍件的導入遮蔽槽，便于非電鍍區域與遮蔽面貼合。
[0008]作為本設計的進一步改進，所述輪式主體兩側的外周面上設有沿所述輪式主體邊緣延伸的引導棱。引導棱便于對電鍍件的料帶進行導向，防止電鍍件的料帶跑偏。
[0009]作為本設計的進一步改進，所述輪式主體和所述引導棱為一體成型的PEEK材質，具有良好的耐腐蝕性，尺寸精度穩定性好，便于加工成型。
[0010]作為本設計的進一步改進，所述引導棱相對一側自所述輪式主體中心向外一側為引導面、導向面，所述引導面垂直于所述輪式主體的轉動軸線，兩個所述導向面遠離所述輪式主體中心一側間距大于所述導向面朝向所述輪式主體一側間距。引導面和導向面便于對電鍍件的料帶導入。
[0011]作為本設計的進一步改進，所述輪式主體上的定位針成對設置且沿分布于所述輪式主體的外周面同一母線上，對電鍍件的料帶定位更加精準。
[0012]作為本設計的進一步改進，所述定位針為氧化鋯陶瓷定位針，具有良好的耐磨性。
[0013]作為本設計的進一步改進，所述側面遮蔽膠塊和平面遮蔽膠塊一體成型。成型加工方便，精度高。
[0014]本技術的有益效果是：本技術通過平面遮蔽膠塊和側面遮蔽膠塊使得對電鍍件非電鍍區域進行貼合遮蔽，能夠實現費電鍍區域的完全遮蔽，遮蔽效果好，有效降低電鍍液中貴金屬消耗量；同時可以選用更高硬度的皮帶，降低皮帶的損耗。
附圖說明
[0015]下面結合附圖和實施例對本技術進一步說明。
[0016]圖1是本技術的整體立體結構示意圖。
[0017]圖2是本技術的局部立體結構示意圖。
[0018]圖3是本技術的輪式主體局部截面示意圖。
[0019]圖4是本技術的平面遮蔽塊和側面遮蔽塊截面示意圖。
[0020]在圖中1.輪式主體，2.平面遮蔽膠塊，3.定位針，4.側面遮蔽膠塊，5.電鍍件，6.引導棱，7.防呆凸臺，8.電鍍液過孔，9.遮蔽面，10.遮蔽槽，11.圍擋面，12.導向面，13.引導面。
具體實施方式
[0021]下面將結合附圖以及具體實施例來詳細說明本技術，其中的示意性實施例以及說明僅用來解釋本技術，但并不作為對本技術的限定。
[0022]實施例：一種輪式點鍍機模具，包括環形輪式主體1、設置于所述輪式主體1外周面的定位針3，所述輪式主體1外周面設有平面遮蔽膠塊2和側面遮蔽膠塊4，所述側面遮蔽膠塊4位于所述平面遮蔽膠塊2中心位置且凸出所述平面遮蔽膠塊2表面，所述側面遮蔽膠塊4設有遮蔽槽10，所述遮蔽槽10的側面包括與電鍍件5遮蔽側面貼合的遮蔽面9、與電鍍件5被電鍍側面相對的圍擋面11，所述輪式主體1以及所述平面遮蔽膠塊2上設有與所述遮蔽槽10連通的電鍍液過孔8，所述圍擋面11與所述電鍍件5的電鍍面之間留有與所述電鍍液過孔8連通的間隙。
[0023]上述設計中通過平面遮蔽膠塊2和側面遮蔽膠塊4使得對電鍍件5非電鍍區域進行貼合遮蔽，能夠實現費電鍍區域的完全遮蔽，遮蔽效果好，有效降低電鍍液中貴金屬消耗量；同時可以選用更高硬度的皮帶，降低皮帶的損耗。
[0024]作為本設計的進一步改進，所述輪式主體1外周面上設有防呆凸臺7，所述防呆凸臺7伸入所述電鍍件5的防呆孔中。防呆孔便于防止料帶位置放錯。
[0025]作為本設計的進一步改進，所述遮蔽面9為斜面，所述遮蔽面9自遮蔽槽10底部向遮蔽槽10開口遠離遮蔽槽10中心延伸，即所述遮蔽槽10底部寬度小于所述遮蔽槽10頂部開口寬度。遮蔽面9采用斜面便于將電鍍件5的導入遮蔽槽10，便于非電鍍區域與遮蔽面9貼合。
[0026]作為本設計的進一步改進，所述輪式主體1兩側的外周面上設有沿所述輪式主體1
邊緣延伸的引導棱6。引導棱6便于對電鍍件5的料帶進行導向，防止電鍍件5的料帶跑偏。
[0027]作為本設計的進一步改進，所述輪式主體1和所述引導棱6為一體成型的PEEK材質，具有良好的耐腐蝕性，尺寸精度穩定性好，便于加工成型。
[0028]作為本設計的進一步改進，所述引導棱6相對一側自所述輪式主體1中心向外一側為引導面13、導向面12，所述引導面13垂直于所述輪式主體1的轉動軸線，兩個所述導向面12遠離所述輪式主體1中心一側間距大于所述導向面12朝向所述輪式主體1一側間距。引導面13和導向面12便于對電鍍件5的料帶導入。
[0029]作為本設計的進一步改進，所述輪式主體1上的定位針3成對設置且沿分布于所述輪式主體1的外周面同一母線上，對電鍍件5的料帶定位更加精準。
[0030]作為本設計的進一步改進，所述定位針3為氧化鋯陶瓷定位針3，具有良好的耐磨性。
[0031]作為本設計的進一步改進，所述側面遮蔽膠塊4和平面遮蔽膠塊2一體成型。成型加工方便，精度高。
[0032]以上所述僅為本技術的實施例，并非因此限制本技術的專利范圍，凡是利用本技術說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
1.一種輪式點鍍機模具，包括環形輪式主體、設置于所述輪式主體外周面的定位針，其特征在于，所述輪式主體外周面設有平面遮蔽膠塊和側面遮蔽膠塊，所述側面遮蔽膠塊位于所述平面遮蔽膠塊中心位置且凸出所述平面遮蔽膠塊表面，所述側面遮蔽膠塊設有遮蔽槽，所述遮蔽槽的側面包括與電鍍件遮蔽側面貼合的遮蔽面、與電鍍件被電鍍側面相對的圍擋面，所述輪式主體以及所述平面遮蔽膠塊上設有與所述遮蔽槽連通的電鍍液過孔，所述圍擋面與所述電鍍件的電鍍面之間留有與所述電鍍液過孔連通的間隙。2.根據權利要求1所述的一種輪式點鍍機模具，其特征是，所述輪式主體外周面上設有防呆凸臺，所述防呆凸臺伸入所述電鍍件的防呆孔中。3.根據權利要求1所述的一種輪式點鍍機模具，其特征是，所述遮蔽面為斜面，所述遮蔽面自遮蔽槽底部向遮蔽槽開口遠離遮蔽槽中心延伸，即所述遮蔽槽底部寬度小于所述遮蔽槽頂部開口寬度。4.根據權...
【專利技術屬性】
技術研發人員：袁永立，汪慶成，
申請(專利權)人：昆山培雷特成套機電設備有限公司，
類型：新型
國別省市：
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