用于接觸檢驗對象的裝置及方法制造方法及圖紙

本發明專利技術涉及定位基底（１４０）以及為了用具有光軸或相應設備的檢驗裝置檢驗而接觸檢驗對象（３０１）的方法。從而，基底被放置在支撐臺（１３０）上。相對于光軸定位基底。接觸單元（１５０）也相對于光軸被定位，其中接觸單元的定位與基底的定位操作無關。因此可以實現基底上檢驗對象的靈活接觸。（*該技術在2023年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及檢驗大的面積。因此，使用采用粒子束的特別檢驗作 為檢驗方法。本專利技術尤其涉及接觸檢驗對象。具體地，本專利技術涉及定 位與接觸基底的方法、用于檢驗基底的方法、以及用于接觸至少一個 用于檢驗的檢驗對象的裝置和檢驗系統。
技術介紹
隨著對沒有顯像管的顯示器元件需求的增加，液晶顯示器(LCD) 和其他顯示器元件(其中使用控制元件，例如薄膜晶體管(TFT))的 標準也越來越多地被使用。這些顯示器元件的像素排列成矩陣。而且，在其他一些領域中也必須檢驗越來越多的元件。舉例來說， 這可能是例如微電子的或微觀結構的元件。這些元件是例如薄膜晶體 管、芯片的連接網絡、晶體管、射極陣列的電子發射極、顯示器像素 的電極、陣列的微觀結構鏡面以及其他元件，這些元件區別于其它組件 的獨特之處在于被表示為多個單元(100.000a到幾個1.000.000)，由 此每一元件是電可控的。為了獲得例如顯示器元件的良好畫面品質，只允許幾百萬個像素 中的少部分有缺陷。為保證成本有效的生產，因此提供高性能現場檢 驗方法很重要，尤其是對于大小持續增長的顯示器元件。例如在文獻 EP523594中公開了這樣一種檢驗方法。這種檢驗方法中，采用粒子束 檢驗單個像素。粒子束能夠用于檢測經過電源線施加的電荷和/或用于對于這樣的檢驗方法，使用接觸單元，接觸單元一方面允許到外 部設備的信號傳送，另一方面允許電子束掃描。因此，根據現有技術， 存在著不同的解決方案。如果顯示器被檢驗，則可能在顯示器區域周圍安放框架，其提供 與顯示器的電接觸。 一個基底上通常安放著多個顯示器。由于考慮到 電子束系統有限的測量范圍，每次只能檢驗一個顯示器，為了檢驗另 外一個顯示器，接觸單元被提升，然后基底被移動，接觸單元置于下 一個顯示器上。然而，使用這樣的裝置，只有能夠通過粒子束掃描到 達到其整個表面的顯示器能夠被檢驗。此外，存在這祥的基礎框架，其同時接觸玻璃基底上的所有顯示 器。如果要檢驗其他顯示器，則這樣的接觸框架與基底一起移動。這種用于整個基底的接觸框架的一個缺點是，在顯示器大小變化 的情況下必須更換整個接觸框架。因此，在不同批次的情況下系統必 須被開口，這就降低了生產效率。此外，必須為不同的顯示器類型和 顯示器大小存儲接觸框架，以備需要的時候使用。
技術實現思路
本專利技術的目標是至少部分地解決現有技術中的問題。特別地，應 該提供這樣的可能性，即在檢驗過程中，用一個裝置檢驗具有不同檢 驗對象尺寸的不同檢驗對象。因此，本專利技術的上下文中的檢驗對象是例如顯示器、顯示器組、 其他微電子或微觀結構元件陣列、以及例如檢驗短路及電路區域間斷 開接觸的單個電路。現有技術中的上述問題由根據權利要求17， 19, 21, 35， 40以 及42所述的裝置以及根據權利要求1， 6和36所述的方法至少得到 部分的解決。本專利技術的優選實施例以及特殊方面在從屬權利要求中表示。 根據一個方面，本專利技術的目標是通過在使用具有光軸的檢驗裝置檢驗的過程中定位接觸單元的方法來解決的。因此，具有多個檢驗對 象的基底被定位在樣品支架，即基底支撐臺上。基底相對于光軸移動， 使得檢驗對象的區域位于檢驗裝置的測量范圍之內。定位一個用于接 觸檢驗對象的接觸單元，由此，接觸單元的定位至少部分地不和基底 的定位耦合。接觸單元的定位適用于使接觸單元同檢驗對象的一個連 接裝置或幾個連接裝置接觸。根據本專利技術的另一個方面，通過用檢驗裝置檢驗帶多個檢驗對象 的基底的方法，進一步解決目標。基底放置于樣品支架上。基底上檢 驗對象中第一檢驗對象的接觸裝置與接觸單元接觸。定位支撐臺，并 因此定位基底，以便能夠在檢驗裝置的檢驗范圍內測量第 一檢驗對象 的第一區域。于是，第一檢驗對象的第一區域被檢驗。重新定位支撐 臺，并因此定位基底，以便在檢驗裝置的檢驗范圍內至少檢驗檢驗對 象的另外一個區域。定位接觸單元，使得相對于基底的位置基本不變。 檢驗對象的所述至少另外一個區域被檢驗。基底再次被重新定位，以 檢驗第二檢驗對象的一個區域。為了檢驗第二檢驗對象的該區域，接觸單元相對于基底移動。用本專利技術的上述方面可能接觸不同形式的檢驗對象，而不是必需 更換接觸單元。另外，可能用檢驗裝置檢驗大小超過檢驗裝置檢驗范圍的檢驗對象。在上文中，用于產生測量信號的部件被理解為檢驗裝置。這些部件是用于產生基本粒子束的源、用于將粒子束定向到表 面上的束整形及束偏轉部件(這個表面用于獲得檢驗信號)、用于定 向及/或成像測量信號到檢測單元上的部件、以及檢測單元。與以下事實無關地，即在與現有技術比較時，應該避免更換接觸 單元，但是，偶然的更換可能會有利于維護等。接觸單元典型地為可 更換單元。在上述方面的范圍內，特別優選的是如果接觸單元的定位是通過 對應于接觸單元的驅動器來進行。因此，接觸單元可以快速靈活地從 一個位置移動到下一個位置。這提高了整個基底的檢驗速度，并且因 此提高了檢驗系統的吞吐量。根據另外一個方面，專利技術目標通過用于接觸的裝置(該裝置用于 檢驗系統)來解決。這個系統包括帶有定位單元的樣品支架。定位單 元在與檢驗裝置的光軸垂直的兩個方向上都有移動范圍。接觸單元在 與檢驗裝置的光軸垂直的兩個方向上都有移動范圍。因此，接觸單元 發至少一個移動范圍小于樣品支架相應的移動范圍。根據本專利技術的一個方面，揭示了一種用于接觸的裝置。這個裝置 包括基底的支撐臺和相應的移動單元。此外，還存在可移動的接觸單 元，這個可移動的接觸單元在至少一個與粒子束檢驗器的光軸垂直的 方向上的尺寸小于支撐臺在這個方向上的尺寸。本專利技術的主要方面是用于接觸的裝置。這個裝置包括基底的支架 和相應的移動單元。此外，還存在可移動的接觸單元，這個可移動的 接觸單元在至少一個與粒子束檢驗器的光軸垂直的方向上的尺寸最大 為支撐臺在這個方向上尺寸的一半。因此，支撐臺可以是輥子裝置上的基底面，基底安放在這個基底 面上。支撐臺是基底支撐單元。也就是說，基底位于支撐臺上或者說 支撐臺支撐著基底。根據本專利技術的另外一個方面，揭示了一種用于接觸的裝置。這個 裝置包括基底的支撐臺和相應的移動單元。此外，還存在可移動的接 觸單元，這個可移動的接觸單元在至少一個與粒子束檢驗器的光軸垂 直的方向上比基底小或者最大為基底在這個方向上尺寸的一半。通過本專利技術能夠改進的裝置通常都有大于基底的支撐臺。在基底 應該大于支撐臺的情況下，接觸單元和支架之間的上述相對大小至少 參考待檢驗的基底。這就表示，相對于基底提供接觸單元的相對尺寸。因此，特別優選的是如果接觸單元在垂直于粒子束檢驗器光軸的 兩個方向上最大是支架在這個方向上尺寸的一半。本專利技術也可以做如下簡短表述。根據本專利技術的一個方面，通過檢 驗系統中用于接觸的裝置解決本專利技術的目標。這個檢驗系統包括支撐 臺(其可相對于檢驗裝置的光軸移動)以及接觸單元(其也可以相對 于光軸移動)。接觸單元在檢驗基底期間也可以相對于基底移動。根據這個方面，優選的是如果接觸單元在檢驗基底的檢驗對象期間可移動至少10cm,尤其優選的是移動至少25cm。根據另外一個方面，本專利技術的目標通過檢驗系統來解決。這個檢 驗系統包括粒子束管、檢驗室以及根據上述方面之一的用于接觸基底 上至少一個檢驗對象的裝置。因此，優選的是如果檢驗室能夠被抽氣。而且，優本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種用于接觸位于基底上的電子設備的裝置，包括：　位于基底和具有光軸的光學檢驗設備之間的接觸單元，所述接觸單元包括具有第一尺寸的框架以及用于在垂直于所述光軸的方向上相對于所述基底和所述光學檢驗設備移動所述框架的電機，其中所述第一尺寸為所 述基底的長度的一半或者更小。

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：馬蒂亞斯布倫納，
申請(專利權)人：應用材料有限公司，
類型：發明
國別省市：DE[德國]