一種自動避障的布線方法技術

本專利申請公開一種自動避障的布線方法，其包括：初始化待處理版圖的布線資源，包括：獲取所述待處理版圖中L型區域對應的版圖數據、布線設置及工藝約束；確定連接關系，包括：基于指定的連接關系對L型區域中框選的兩組Bus端口進行排序并一一對應；確定布線層，包括：根據所述版圖數據，獲得在實施布線端口對應的L型布線時規避障礙物的可用布線層，并從所述可用布線層中選擇用于L型布線的兩層布線層；創建及調整通孔，包括：根據確定的所述布線層，在需要跨層的兩個子區域的連接處創建通孔，并限定通孔的最低通孔個數為2，同時調整所述通孔的位置；輸出布線及通孔對應的幾何圖形至所述待處理版圖。處理版圖。處理版圖。

【技術實現步驟摘要】
一種自動避障的布線方法


[0001]本專利申請屬于電路設計
，尤其涉及一種自動避障的布線方法。

技術介紹

[0002]集成電路版圖的數據規模隨著工藝節點的提升和設計復雜度的增加愈發龐大，若版圖仍然依賴純手工進行設計，則會使得集成電路研發周期過于漫長。為了進一步提升版圖設計的效率，計算機輔助設計技術不可或缺。
[0003]模擬集成電路版圖設計過程中存在許多總線(后稱Bus)布線的局部場景，對于這些局部場景，大量使用L型路徑完成Bus連接。在完成Bus端口之間連接時，通常要滿足一定的約束，如連接關系、設計規則約束等。具體如布線時創建通孔時需要滿足Cut數量最少為2，以及在布線過程遇到障礙物需要采取繞過或者打孔跳層跨過的方式完成障礙物規避。
[0004]現階段模擬集成電路版圖仍然高度依賴手工進行設計的問題，由此導致在集成電路版圖局部場景下進行Bus布線時未考慮障礙物情況，且容易因通孔的創建與相鄰布線產生短路(后稱Short)的問題，布線器的易用性、可制造性較差。

技術實現思路

[0005]本專利申請提供一種自動避障的布線方法，以克服或者緩解現有技術的缺陷。
[0006]一種自動避障的布線方法，其包括：
[0007]步驟S101、初始化待處理版圖的布線資源，包括：獲取所述待處理版圖中L型區域對應的版圖數據、布線設置及工藝約束；
[0008]步驟S102、確定連接關系，包括：基于指定的連接關系對L型區域中框選的兩組Bus端口進行排序并一一對應；
[0009]步驟S103、確定布線層，包括：根據所述版圖數據，獲得在實施布線端口對應的L型布線時規避障礙物的可用布線層，并從所述可用布線層中選擇用于L型布線的兩層布線層；
[0010]步驟S104、創建及調整通孔，包括：根據確定的所述布線層，在需要跨層的兩個子區域的連接處創建通孔，并限定通孔的最低通孔個數為2，同時調整所述通孔的位置；
[0011]步驟S105、輸出布線及通孔等幾何圖形至所述待處理版圖。
[0012]可選地，所述版圖數據包括版圖中的障礙物圖形，以及框選的兩組Bus端口；所述布線設置包括連接關系設置，連接關系包括順序連接、逆序連接、按照端口名連接中的至少一種；所述工藝約束包括待處理版圖所使用的加工工藝約束，其包括可用金屬層、可用通孔定義以及最低通孔個數。
[0013]可選地，所述基于指定的連接關系對框選的兩組Bus端口進行排序并一一對應，包括：對框選的兩組Bus端口進行排序以及對框選的兩組Bus端口之間進行布線預連接檢查以實施一一對應。
[0014]可選地，所述對框選的兩組Bus端口進行排序，包括：
[0015]S112、將Bus布線端口分為第一組(GroupA)和第二組(GroupB)；
[0016]S122、分別設置第一組(GroupA)和第二組(GroupB)的布線方向，并針對第一組、第二組中任一組作為目標組執行如下步驟：
[0017]S1221、取目標組內相同方向數量最多的方向為所述目標組的布線方向；
[0018]S1222、確定目標組的端口方向的垂直方向的坐標值；
[0019]S1223、將所述坐標值作為所述目標組內Bus布線端口的排序參考值；
[0020]S1224、基于所述排序參考值進行目標組內Bus布線端口的排序。
[0021]可選地，執行步驟S1221，確定第一組(GroupA)的布線方向為水平，第二組(GroupB)的布線方向則為豎直，進一步針對第一組和第二組分別執行上述步驟S1222
?
S1224，以對第一組(GroupA)和第二組(GroupB)內Bus布線端口進行排序。
[0022]可選地，將任一Bus布線端口作為目標布線端口，以執行上述布線預連接檢查，包括如下步驟：
[0023]取目標布線端口的布線方向的中心延長線的交點作為預布線拐點，檢查目標布線端口的預布線線段是否與其他目標布線端口的預布線線段相交；
[0024]若無，則判定目標布線端口的預連接關系為順序連接。
[0025]若針對所述目標布線端口，所述指定的連接關系為逆序連接，則將該目標布線端口所在的組中排序后的布線端口進行逆序重排。
[0026]若針對所述目標布線端口，所述指定的連接關系為通過端口名連接，則跳過排序步驟，通過端口名匹配進行一一對應。
[0027]可選地，所述獲得在實施布線端口對應的L型布線時規避障礙物的可用布線層，包括：
[0028]S113、將所述L型區域分割為若干個子區域。
[0029]S123、分別在每個子區域內進行幾何圖形的空間索引，獲得連續的可用布線層區間；
[0030]S133、在所述可用層區間內選擇產生通孔個數最少的兩層金屬作為布線層。
[0031]可選地，所述在所述可用層區間內選擇產生通孔個數最少的兩層金屬作為布線層，包括：
[0032]計算將L型區域內的若干個子區域連通的選層代價，以選擇產生通孔個數最少的兩層金屬作為布線層。
[0033]可選地，所述計算將L型區域內的若干個子區域連通的選層代價，包括：計算L型區域中位于橫向方向的每個兩個子區域之間的層序號差值，縱向方向的相鄰兩個子區域之間的層序號差值，以計算將L型區域內的若干個子區域連通的選層代價。
[0034]可選地，所述根據確定的所述布線層，在需要跨層的兩個子區域的連接處創建通孔，包括：
[0035]根據確定的所述布線層，檢查子區域是否跨層，若跨層則進行通孔的創建，通孔的創建包括最小通孔數設置、通孔方向選取以及通孔位置調節中至少其一。
[0036]本專利技術中提供的方案中，其包括：步驟S101、初始化待處理版圖的布線資源，包括：獲取所述待處理版圖中L型區域對應的版圖數據、布線設置及工藝約束；步驟S102、確定連接關系，包括：基于指定的連接關系對L型區域中框選的兩組Bus端口進行排序并一一對應；步驟S103、確定布線層，包括：根據所述版圖數據，獲得在實施布線端口對應的L型布線時規
避障礙物的可用布線層，并從所述可用布線層中選擇用于L型布線的兩層布線層；步驟S104、創建及調整通孔，包括：根據確定的所述布線層，在需要跨層的兩個子區域的連接處創建通孔，并限定通孔的最低通孔個數為2，同時調整所述通孔的位置；步驟S105、輸出布線及通孔對應的幾何圖形至所述待處理版圖，在集成電路版圖局部場景下進行Bus布線時考慮障礙物情況，且避免了因通孔的創建與相鄰布線產生短路(后稱Short)的問題，提高了布線的易用性、可制造性。
附圖說明
[0037]圖1為本專利技術的總體流程圖。
[0038]圖2為本專利技術的L型布線區域劃分圖。
[0039]圖3為本專利技術的通孔可用方向圖。
[0040]圖4為本專利技術的雙孔位置調節圖。
[0041]圖5為本專利技術的多孔圖。
[0042]圖6為本專利技術的示例性應用圖。
具體本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.一種自動避障的布線方法，其特征在于，包括：步驟S101、初始化待處理版圖的布線資源，包括：獲取所述待處理版圖中L型區域對應的版圖數據、布線設置及工藝約束；步驟S102、確定連接關系，包括：基于指定的連接關系對L型區域中框選的兩組Bus端口進行排序并一一對應；步驟S103、確定布線層，包括：根據所述版圖數據，獲得在實施布線端口對應的L型布線時規避障礙物的可用布線層，并從所述可用布線層中選擇用于L型布線的兩層布線層；步驟S104、創建及調整通孔，包括：根據確定的所述布線層，在需要跨層的兩個子區域的連接處創建通孔，并限定通孔的最低通孔個數為2，同時調整所述通孔的位置；步驟S105、輸出布線及通孔對應的幾何圖形至所述待處理版圖。2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述版圖數據包括版圖中的障礙物圖形，以及框選的兩組Bus端口；所述布線設置包括連接關系設置，連接關系包括順序連接、逆序連接、按照端口名連接中的至少一種；所述工藝約束包括待處理版圖所使用的加工工藝約束，其包括可用金屬層、可用通孔定義以及最低通孔個數。3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于指定的連接關系對框選的兩組Bus端口進行排序并一一對應，包括：對框選的兩組Bus端口進行排序以及對框選的兩組Bus端口之間進行布線預連接檢查以實施一一對應。4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述對框選的兩組Bus端口進行排序，包括：S112、將Bus布線端口分為第一組(GroupA)和第二組(GroupB)；S122、分別設置第一組(GroupA)和第二組(GroupB)的布線方向，并針對第一組、第二組中任一組作為目標組執行如下步驟：S1221、取目標組內相同方向數量最多的方向為所述目標組的布線方向；S1222、確定目標組的端口方向的垂直方向的坐標值；S1223、將所述坐標值作為所述目標組內Bus布線端口的排序參考值；S1224、基于所述排序參考值進行目標組內Bus布線端口的排序。5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，執行步驟S1221，確定第一組(GroupA)的布線...

【專利技術屬性】
技術研發人員：曾洵，張亞東，李起宏，陸濤濤，
申請(專利權)人：成都華大九天科技有限公司，
類型：發明
國別省市：