本發(fā)明專利技術(shù)涉及熱敏記錄介質(zhì)和采用其的圖像處理方法。所述熱敏記錄介質(zhì)包括：支持體；形成在所述支持體表面上的含有光熱轉(zhuǎn)化材料的層；和形成在所述層的與其上形成有支持體的表面相反的表面上的氧阻擋層，其中所述層進(jìn)一步含有處于交聯(lián)狀態(tài)的樹脂并且所述光熱轉(zhuǎn)化材料吸收具有特定波長的光并將所述光轉(zhuǎn)化成熱，以及其中所述氧阻擋層在２５℃和８０％ＲＨ下的氧滲透度為０．５ｍＬ／ｍ２.２４ｈｒ.ａｔｍ或更低。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及具有優(yōu)異的耐光性的熱敏記錄介質(zhì)，以及使用該熱敏記錄介質(zhì)的圖像處理方法。
技術(shù)介紹
目前，各種圖像在熱敏記錄介質(zhì)(下文也稱為"熱可逆記錄介質(zhì)"或"記錄介質(zhì)")上的記錄和消除是通過使該記錄介質(zhì)與熱源接觸而加熱該記錄介質(zhì)的接觸法進(jìn)行的。對于熱源來說，在記錄圖像的情況下，通常使用熱頭，而在消除圖像的情況下，通常使用熱輥、陶瓷加熱器等。 這種接觸式圖像處理方法的優(yōu)點(diǎn)在于當(dāng)熱可逆記錄介質(zhì)由例如膜和紙的柔性材料構(gòu)成時(shí)，通過使用滾筒將熱源勻稱地壓向熱可逆記錄介質(zhì)，圖像可以被均勻地記錄和消除；以及，圖像記錄設(shè)備和圖像消除設(shè)備可以采用常規(guī)熱敏打印機(jī)的組件以低廉的成本制造。 但是，當(dāng)熱可逆記錄介質(zhì)結(jié)合有日本專利申請?zhí)亻_(JP-A) 2004-265247和日本專利(JP-B) 3998193中所述的RF-ID標(biāo)簽時(shí)，該熱可逆記錄介質(zhì)的厚度增加并且其柔韌性變差。因此，為了均勻地將熱源壓向該熱可逆記錄介質(zhì)，需要高的壓力。當(dāng)形成不規(guī)則的熱可逆記錄介質(zhì)表面時(shí)，難以使用熱頭等記錄和消除圖像。有鑒于RF-ID標(biāo)簽?zāi)軌蛞苑墙佑|方式距該標(biāo)簽一定距離讀取和重寫儲存信息，對熱可逆記錄介質(zhì)也產(chǎn)生了要求。所述要求為，圖像距熱可逆記錄介質(zhì)一定距離重寫到該熱可逆記錄介質(zhì)上。 由此，提出了非接觸方式的使用激光的記錄方法作為距熱可逆記錄介質(zhì)一定距離在該熱可逆記錄介質(zhì)上記錄和消除各圖像的方法，或在表面不均勻的熱可逆記錄介質(zhì)上記錄和消除圖像的方法(參見JP-A 2000-136022)。 提出了使用激光的圖像記錄和消除方法，其中使用組合包括無色染料、可逆顯色劑和各種光熱轉(zhuǎn)化材料的記錄介質(zhì)，并且使用近紅外激光在其上進(jìn)行記錄(參見JP-A05-8537和11-151856)。 但是，無色染料的問題在于，當(dāng)在室外長時(shí)間暴露于陽光時(shí)其被光和氧分解，并且熱可逆記錄介質(zhì)的背景變成褐色。而且，另一個(gè)問題在于，當(dāng)圖像記錄在熱可逆記錄介質(zhì)上，然后在氧的存在下長期暴露于陽光時(shí)，其圖像密度降低或者不管多努力圖像也不能被完全消除。而且，當(dāng)JP-A 05-8537和11-151856中所述的具有近紅外區(qū)域內(nèi)的吸收性的有機(jī)著色物質(zhì)用作光熱轉(zhuǎn)化材料時(shí)，該有機(jī)著色物質(zhì)通常具有低的耐光性，并且該有機(jī)著色物質(zhì)的分解降低了近紅外區(qū)域內(nèi)的吸收。由此，記錄靈敏度和消除靈敏度顯著降低。 為了解決這些問題，嘗試了在熱可逆記錄介質(zhì)中設(shè)置紫外線吸收層和氧阻擋層(JP-A 07-205547和09-175024)。 而且，還提出了將熱可逆記錄介質(zhì)夾在20。C和60X RH下的氧滲透度為6mL/m2 *24hr *atm的PET膜與20。C和60% RH下的氧滲透度為0. 2mL/m2 *24hr *atm的乙烯-乙烯醇共聚物樹脂膜之間(參見JP-A 2004-160806)。但是，乙烯-乙烯醇共聚物樹脂膜易于受濕度影響，并且該膜在例如夏天室外的高濕度環(huán)境中吸收水分，從而提高了其氧滲透度，并且不能充分地阻擋氧。因此，該樹脂膜的耐光性不足，并且不能進(jìn)行完全的消除。 此外，如JP-A 2004-160806中披露的，在以下情況中，即在光熱轉(zhuǎn)化材料包含于耐熱性低的樹脂如粘合劑層中的熱可逆記錄介質(zhì)上使用激光反復(fù)進(jìn)行圖像記錄和消除時(shí)，含有光熱轉(zhuǎn)化材料的層在高溫下反復(fù)加熱，并且光熱轉(zhuǎn)化材料周圍的樹脂組分以及光熱轉(zhuǎn)化材料本身會(huì)分解成氣體。由于在熱可逆記錄介質(zhì)中設(shè)置有氧阻擋層，產(chǎn)生的氣體不能從熱可逆記錄介質(zhì)逸出，并且在其表面上形成氣泡，導(dǎo)致不理想的外觀。這對實(shí)際使用來說是嚴(yán)重的問題。該問題沒有在JP-A 2004-160806中提及，并且被本專利技術(shù)的專利技術(shù)人第一次發(fā)現(xiàn)。有鑒于此，目前需要改進(jìn)熱可逆記錄介質(zhì)的耐光性和對反復(fù)使用的耐久性。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的目的在于提供一種具有優(yōu)異的耐光性的熱敏記錄介質(zhì)，其中較少發(fā)生由光照射造成的圖像密度降低，具體來說，該熱敏記錄介質(zhì)即使長時(shí)間暴露于光仍具有足夠的脫色性能，并具有優(yōu)異的耐光性以及對反復(fù)使用的耐久性，其中即使反復(fù)進(jìn)行圖像記錄和消除，該熱敏記錄介質(zhì)的表面的外觀也不會(huì)被破壞，并且本專利技術(shù)的目的還在于提供一種使用該熱敏記錄介質(zhì)的圖像處理方法。 用于解決問題的方式如下 〈1> 一種熱敏記錄介質(zhì)，其包括支持體；形成在所述支持體的表面上的含有光熱轉(zhuǎn)化材料的層；以及形成在該層的與其上形成有支持體的表面相反的表面上的氧阻擋層，其中所述層進(jìn)一步含有處于交聯(lián)狀態(tài)的樹脂，并且所述光熱轉(zhuǎn)化材料吸收具有特定波長的光并將所述光轉(zhuǎn)化成熱，以及其中所述氧阻擋層在25t:和80% RH下的氧滲透度為0. 5mL/m2 24hr atm或更低。 〈2>根據(jù)〈1>的熱敏記錄介質(zhì)，其中所述熱敏記錄介質(zhì)為熱可逆記錄介質(zhì)。 〈3>根據(jù)〈2>的熱敏記錄介質(zhì)，其中所述含有光熱轉(zhuǎn)化材料的層為熱可逆記錄層，并且所述熱可逆記錄層含有無色染料和可逆顯色劑，其中色調(diào)通過熱可逆地改變。 〈4>根據(jù)〈2>的熱敏記錄介質(zhì)，進(jìn)一步包括含有無色染料和可逆顯色劑的熱可逆記錄層，其中色調(diào)通過熱可逆地改變，其中所述含有光熱轉(zhuǎn)化材料的層為光熱轉(zhuǎn)化層。 〈5>根據(jù)〈4>的熱敏記錄介質(zhì)，進(jìn)一步含有另一熱可逆記錄層，其中所述含有光熱轉(zhuǎn)化材料的層為光熱轉(zhuǎn)化層，并且所述熱可逆記錄層形成在所述光熱轉(zhuǎn)化層的兩個(gè)表面上。 〈6>根據(jù)〈4>的熱敏記錄介質(zhì)，進(jìn)一步含有中間層，其中所述含有光熱轉(zhuǎn)化材料的層為光熱轉(zhuǎn)化層，并且所述中間層形成在所述光熱轉(zhuǎn)化層和所述熱可逆記錄層之間。 〈7>根據(jù)〈3> 〈6>中任意之一的熱敏記錄介質(zhì)，進(jìn)一步包括另一氧阻擋層，其形成在以下位置的任意之一 所述支持體和所述熱可逆記錄層之間，以及支持體的與其上形成有熱可逆記錄層的表面相反的表面上。 〈8>根據(jù)〈1> 〈7>中任意之一的熱敏記錄介質(zhì)，其中所述氧阻擋層在25t:和80% RH下的氧滲透度為0. lmL/m2 24hr atm或更低。 〈9>根據(jù)〈1> 〈8>中任意之一的熱敏記錄介質(zhì)，其中所述氧阻擋層在25t:和80% RH下的氧滲透度為0. 05mL/m2 24hr atm或更低。 〈10〉根據(jù)〈1> 〈9>中任意之一的熱敏記錄介質(zhì)，其中所述氧阻擋層為無機(jī)沉積 膜。 〈11〉根據(jù)〈10〉的熱敏記錄介質(zhì)，其中所述無機(jī)沉積膜為沉積了二氧化硅的聚對 苯二甲酸乙二醇酯膜。 〈12〉根據(jù)〈10〉 〈11〉中任意之一的熱敏記錄介質(zhì)，其中所述無機(jī)沉積膜為由兩 層以上的層組成的層疊體。 〈13〉根據(jù)〈3> 〈12〉中任意之一的熱敏記錄介質(zhì)，進(jìn)一步含有紫外線吸收層，其 中所述紫外線吸收層形成在所述熱可逆記錄層的與其上形成有支持體的表面相反的表面 上。 〈14〉根據(jù)〈13〉的熱敏記錄介質(zhì)，其中所述紫外線吸收層含有具有紫外線吸收結(jié) 構(gòu)的聚合物。 〈15〉 一種圖像處理方法，包括以下任意之一 利用激光照射加熱根據(jù)〈1> 〈14〉 中任意之一的熱敏記錄介質(zhì)從而在其上記錄圖像；以及利用激光照射加熱該熱敏記錄介質(zhì) 從而從其上消除圖像。 〈16〉權(quán)利要求〈15〉的圖像處理方法，其中所述熱敏記錄介質(zhì)為熱可逆記錄介質(zhì)。 〈17>根據(jù)〈15&本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種熱敏記錄介質(zhì)，包括：支持體；形成在所述支持體的表面上的含有光熱轉(zhuǎn)化材料的層；和形成在所述層的與其上形成有所述支持體的表面相反的表面上的氧阻擋層，其中所述層進(jìn)一步含有處于交聯(lián)狀態(tài)的樹脂并且所述光熱轉(zhuǎn)化材料吸收具有特定波長的光并將所述光轉(zhuǎn)化成熱，以及其中所述氧阻擋層在２５℃和８０％ＲＨ下的氧滲透度為０．５ｍＬ／ｍ↑［２］.２４ｈｒ.ａｔｍ或更低。
【技術(shù)特征摘要】
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【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：川原真哉，石見知三，淺井敏明，堀田吉彥，
申請(專利權(quán))人：株式會(huì)社理光，
類型：發(fā)明
國別省市：JP[日本]
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