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    具有慢光效應(yīng)的柔性超材料及其加工方法技術(shù)

    技術(shù)編號:39306325 閱讀:23 留言:0更新日期:2023-11-12 15:54
    本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種具有慢光效應(yīng)的柔性超材料及其加工方法,具體涉及太赫茲超材料技術(shù)領(lǐng)域,包括以下步驟:S1、制備氧化石墨烯膜;S2、對激光直寫加工儀器進(jìn)行相關(guān)的內(nèi)容以及參數(shù)設(shè)置,并用激光直寫加工儀器在S1制備的石墨烯薄膜上加工所需要的樣品圖形;S3、將S2加工得到的樣品圖形轉(zhuǎn)移到PDMS上。本發(fā)明專利技術(shù)設(shè)計的模型結(jié)構(gòu)在y和x偏振下都出現(xiàn)電磁誘導(dǎo)透明現(xiàn)象,其具有慢光效應(yīng),可以減慢光速,作為慢光器件使用,且本發(fā)明專利技術(shù)將加工后吸附在PET上的石墨烯薄膜快速轉(zhuǎn)移到PDMS上,此方法相對于其他方式操作步驟簡單,不需要像類似于光刻那樣繁瑣的步驟,只需要將PDMS旋涂在石墨烯薄膜上并烘干撕下即可,耗時短,操作簡易,整體的轉(zhuǎn)移質(zhì)量也高。高。高。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
    具有慢光效應(yīng)的柔性超材料及其加工方法


    [0001]本專利技術(shù)涉及太赫茲超材料
    ,具體涉及太赫茲波段下具有慢光效應(yīng)的柔性超材料及其加工方法。

    技術(shù)介紹

    [0002]一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序。工藝流程復(fù)雜且繁瑣,現(xiàn)有工藝中,在基底上制備圖案化薄膜的方法一般有兩種:一種是先在基底上制備薄膜,再制備掩膜,通過腐蝕、刻蝕等方法制作出薄膜圖案;另外一種是先在基底上制備圖案,再沉積薄膜,通過剝離等方法將圖案轉(zhuǎn)移到基底上。兩種方法基本上都會用到2
    ?
    3個工藝步驟,流程繁瑣。上述兩種制備方法中都會用到鍍膜和光刻兩種工藝。其中鍍膜的方法有電子束蒸發(fā)、磁控濺射、熱蒸發(fā)、電鍍等。這些鍍膜設(shè)備都比較昂貴,并且鍍膜源和待鍍膜基底的距離大多比較大,蒸發(fā)源的利用率比較低;而電鍍的方法會產(chǎn)生大量污染環(huán)境的廢液,需要做進(jìn)一步環(huán)保處理。因此傳統(tǒng)鍍膜方法成本都比較高。另外,傳統(tǒng)的鍍膜以及光刻工藝都會受到尺寸的限制,特別是光刻設(shè)備,一般最大能容納的基底尺寸為6
    ?
    8英寸,同時對于小于1cm的基底在操作上也存在很大的難度,因此采用傳統(tǒng)方案制作圖案化薄膜的基底會有尺寸上的限制。

    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

    [0003]為此,本專利技術(shù)提供太赫茲波段下具有慢光效應(yīng)的柔性超材料及其加工方法,以解決
    技術(shù)介紹
    中提出的問題。
    [0004]為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本專利技術(shù)提供如下技術(shù)方案:一種具有慢光效應(yīng)的柔性超材料的加工方法,包括以下步驟:r/>[0005]S1、制備氧化石墨烯膜;
    [0006]S2、對激光直寫加工儀器進(jìn)行相關(guān)的內(nèi)容以及參數(shù)設(shè)置,并用激光直寫加工儀器在S1制備的石墨烯薄膜上加工所需要的樣品圖形;
    [0007]S3、將S2加工得到的樣品圖形轉(zhuǎn)移到PDMS上。
    [0008]作為本申請優(yōu)選的技術(shù)方案,所述S1中,氧化石墨烯膜制備方法的步驟如下:
    [0009]S11、將4
    ?
    15質(zhì)量份的氧化石墨烯摻入85
    ?
    96質(zhì)量份的去離子水中混合通過行星式攪拌機(jī)以100
    ?
    500r/min攪拌速度攪拌15
    ?
    85min,直到混合物初步攪拌黏度上升至10
    ?
    25Pa
    ·
    s,接著采用高壓均質(zhì)機(jī)以50
    ?
    100MPa的壓力、10
    ?
    30L/h的流速進(jìn)一步攪拌分散,循環(huán)2
    ?
    5次后攪拌至漿料黏度升至30
    ?
    50Pa
    ·
    s,得到氧化石墨烯漿料;
    [0010]S12、將S11制備得到的氧化石墨烯漿料刮涂或輥涂在PET基材上,以0.1
    ?
    5mg/cm2的涂布量、50
    ?
    150℃的溫度涂布烘干0.7
    ?
    1.3h后,制成厚度為1000
    ?
    10000μm的氧化石墨烯膜。
    [0011]S13、將S12制備得到的氧化石墨烯膜在惰性氣體環(huán)境下,以1000
    ?
    1300℃高溫還原1
    ?
    3h,再以2300
    ?
    2600℃高溫還原0.3
    ?
    0.6h,待冷卻后將還原后的石墨烯預(yù)處理膜轉(zhuǎn)移到
    PET基材上,以150
    ?
    350MPa壓延1h,得到厚度為10
    ?
    100μm的致密柔性石墨烯膜。
    [0012]作為本申請優(yōu)選的技術(shù)方案,獲得的樣品圖形通過激光直寫儀器進(jìn)行加工可得到具有慢光效應(yīng)的柔性超材料,激光直寫儀器相關(guān)的內(nèi)容以及參數(shù)設(shè)置如下:
    [0013]①
    樣品結(jié)構(gòu)周期p為500μm*300μm;
    [0014]②
    石墨烯薄膜厚度為20μm,襯底的厚度在60μm;
    [0015]③
    上下結(jié)構(gòu)與中心結(jié)構(gòu)的間距為20μm;
    [0016]④
    左右結(jié)構(gòu)與中心結(jié)構(gòu)的間距為20
    ?
    40μm;
    [0017]⑤
    上下的開口環(huán)
    ①②
    是對稱的,左右的開口環(huán)
    ③④
    也是對稱的;
    [0018]⑥①?④
    開口環(huán)的開口間隙都為20μm,

    結(jié)構(gòu)的開口間隙為20
    ?
    40μm;
    [0019]⑦
    所有結(jié)構(gòu)的寬度w都相同為20μm。
    [0020]作為本申請優(yōu)選的技術(shù)方案,左右結(jié)構(gòu)與中心結(jié)構(gòu)的間距為20μm;
    [0021]作為本申請優(yōu)選的技術(shù)方案,左右結(jié)構(gòu)與中心結(jié)構(gòu)的間距為30μm;
    [0022]作為本申請優(yōu)選的技術(shù)方案,左右結(jié)構(gòu)與中心結(jié)構(gòu)的間距為40μm;
    [0023]作為本申請優(yōu)選的技術(shù)方案,中心結(jié)構(gòu)的開口間隙為20μm;
    [0024]作為本申請優(yōu)選的技術(shù)方案,中心結(jié)構(gòu)的開口間隙為30μm;
    [0025]作為本申請優(yōu)選的技術(shù)方案,中心結(jié)構(gòu)的開口間隙為40μm;
    [0026]作為本申請優(yōu)選的技術(shù)方案,所述S3中,將加工后吸附在PET上的石墨烯薄膜轉(zhuǎn)移到PDMS上,其步驟如下:使用勻膠機(jī)將PDMS(基本組分與固化劑按10:1質(zhì)量比完全混合)滴注到石墨烯薄膜表面,高速旋轉(zhuǎn)(1100r/min)使其鋪展到石墨烯薄膜上形成薄層,先將PDMS旋涂在石墨烯薄膜上,旋涂完畢后在80℃下再烘干60min,得到固化好的PDMS,固化完成后最后將PDMS輕輕撕下,石墨烯薄膜自然就會脫離原來的介質(zhì)層從而轉(zhuǎn)移到PDMS上。
    [0027]本專利技術(shù)公開的具有慢光效應(yīng)的柔性超材料的加工方法制備得到簡易高效且轉(zhuǎn)移質(zhì)量高且具有慢光效應(yīng)的柔性超材料。
    [0028]本專利技術(shù)公開了具有慢光效應(yīng)的柔性超材料的應(yīng)用,上述的具有慢光效應(yīng)的柔性超材料用于構(gòu)造光纖延時器、光緩存器件一系列能夠解決全光光纖通信系統(tǒng)和網(wǎng)絡(luò)中路由和交換問題的核心器件。
    [0029]本專利技術(shù)公開了具有慢光效應(yīng)的柔性超材料的應(yīng)用,上述器材在y偏振下的工作頻段是0.2
    ?
    0.5THz,在x偏振下的工作頻段在0.5
    ?
    0.8THz。
    [0030]本專利技術(shù)還公開了具有慢光效應(yīng)的柔性超材料的應(yīng)用,上述器材用于高靈敏度的傳感。
    [0031]有益效果
    [0032]1、本專利技術(shù)是將加工后吸附在PET上的石墨烯薄膜快速轉(zhuǎn)移到PDMS上,此方法相對于其他方式操作步驟簡單,不需要像類似于光刻那樣繁瑣的步驟,只需要將PDMS旋涂在石墨烯薄膜上并烘干撕下即可,耗時短,操作簡易,整體的轉(zhuǎn)移質(zhì)量也高。
    [0033]2、自組裝多層石墨烯厚度、電導(dǎo)率可控,柔性襯底厚度靈活可控,能夠根據(jù)集成需要定制器件的厚度及功能,且PDMS是具有柔性的材料,可以進(jìn)行拉伸,這也拓展了樣品實(shí)物的使用領(lǐng)域,使得其具有更好的適用性。
    [0034]3、左右
    ①②
    開口環(huán)與中心的雙開口環(huán)

    的距離為2本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    【技術(shù)特征摘要】
    1.一種具有慢光效應(yīng)的柔性超材料的加工方法,其特征在于:包括以下步驟:S1、制備石墨烯膜;S2、對激光直寫加工儀器進(jìn)行相關(guān)的內(nèi)容以及參數(shù)設(shè)置,并用激光直寫加工儀器在S1制備的石墨烯膜上加工所設(shè)計的具有慢光效應(yīng)的超材料圖形;S3、將S2加工得到的石墨烯膜超材料轉(zhuǎn)移到柔性PDMS上。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有慢光效應(yīng)的柔性超材料的加工方法,其特征在于:所述S1中,石墨烯膜制備方法的步驟如下:S11、將4
    ?
    15質(zhì)量份的氧化石墨烯摻入85
    ?
    96質(zhì)量份的去離子水中混合通過行星式攪拌機(jī)以100
    ?
    500r/min攪拌速度攪拌15
    ?
    85min,直到混合物初步攪拌黏度上升至10
    ?
    25Pa
    ·
    s,接著采用高壓均質(zhì)機(jī)以50
    ?
    100MPa的壓力、10
    ?
    30L/h的流速進(jìn)一步攪拌分散,循環(huán)2
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    5次后攪拌至漿料黏度升至30
    ?
    50Pa
    ·
    s,得到氧化石墨烯漿料;S12、將S11制備得到的氧化石墨烯漿料刮涂或輥涂在PET基材上,以0.1
    ?
    5mg/cm2的涂布量、50
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    150℃的溫度涂布烘干0.7
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    1.3h后,制成厚度為1000
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    10000μm的氧化石墨烯膜。S13、將S12制備得到的氧化石墨烯膜在惰性氣體環(huán)境下,以1000
    ?
    1300℃高溫還原1
    ?
    3h,再以2300
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    2600℃高溫還原0.3
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    0.6h,待冷卻后將還原后的石墨烯預(yù)處理膜轉(zhuǎn)移到PET基材上,以150
    ?
    350MPa壓延1h,得到厚度為10
    ?
    100μm的致密柔性石墨烯膜。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種具有慢光效應(yīng)的柔性超材料的加工方法,其特征在于:權(quán)利要求1
    ?
    2任...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:朱維張博涵鮑麒汪勝祥
    申請(專利權(quán))人:武漢紡織大學(xué)
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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