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    一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別方法技術

    技術編號:39503701 閱讀:29 留言:0更新日期:2023-11-24 11:34
    本發明專利技術公開了一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別方法,涉及光刻標記相關領域,包括光刻機

    【技術實現步驟摘要】
    一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別方法


    [0001]本專利技術涉及光刻標記相關領域,具體是一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別方法


    技術介紹

    [0002]在對準較厚的光刻膠層與之前光刻膠層時,會出現因厚度過高而超過量測機臺的測量范圍,導致較厚的光刻膠層與之前光刻膠層無法清楚成像在同一個平面上,進而使得各層電路層之間出現較大偏差,不便于各層電路層之間的連接,嚴重影響器件性能,為此設置一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別方法
    。
    [0003]現有一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別在使用時較難對光源進行增強,進而導致光源光線較弱,影響標記效果,現有一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別方法在使用時,較難對部分涂層進行自動化噴涂,通過人工噴涂較為麻煩,且部分設備在使用時,當光源透過藍膠時,由于藍膠吸光特性,可能導致最后識別標記時的反饋光強不夠,且被藍膠吸收后的光,無法形成有效的信號,現有一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別方法在通過氣相沉淀進行自動化噴涂時,較難對投影透鏡形成保護,進而導致投影透鏡受高溫影響發生損壞


    技術實現思路

    [0004]因此,為了解決上述不足,本專利技術在此提供一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別方法
    。
    [0005]本專利技術是這樣實現的,構造一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別方法,該裝置包括以下步驟:
    [0006]步驟一:當需對光源進行增強時,通過增透膜減小光在入射時的反射光線,增加入射光線的強度,再通過反蛋白石結構光子晶體增強對光的發射,最后通過偏光濾光鏡抑制反射光,防止光照強度較弱,影響后期標記識別;
    [0007]步驟二:當需進行自動化噴涂時,通過霧化噴頭對信號增強機構底部進行噴涂,再通過加熱棒和照射燈的配合使噴涂液體最終形成涂層附著在信號增強機構底部,減少人工噴涂的時間和精力,提高噴涂效率;
    [0008]步驟三:當需進行標記時,通過綠膠增強反射信號反饋,再通過金屬層涂膠增強反射光源,進而提高標記識別效果,然后通過多層防護層增加綠膠和金屬層涂膠的使用壽命;
    [0009]步驟四:在進行標記過程中,通過第二硼硅酸鹽玻璃隔絕熱量,防止加熱棒在使用時對投影透鏡造成破壞,再通過冷卻件冷卻氣體對對第二安裝箱進行降溫,防止高溫對投影透鏡造成破壞;
    [0010]基于上述識別方法,還提出一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別裝置,包括光刻機,所述光刻機內固定連接有光增強機構,所述光刻機右端固定連接有氣相沉淀機構,所述光刻機右端固定連接有防護機構,且防護機構設于氣相沉淀機構下方,所述氣相沉淀機構內固定連接有第二聚焦透鏡,所述氣相沉淀機構內固定連接有掩模板,所述氣相沉淀機構
    內固定連接有投影透鏡,所述氣相沉淀機構內固定連接有硅片掃描平臺,其中,所述第二聚焦透鏡

    掩模板
    、
    投影透鏡和硅片掃描平臺呈自上而下分布;
    [0011]所述光增強機構包括第一安裝箱,所述光刻機內固定連接有第一安裝箱;激光燈,所述第一安裝箱內左端固定連接有激光燈;濾光片,所述第一安裝箱內固定連接有濾光片;第一聚焦透鏡,所述第一安裝箱內固定連接有第一聚焦透鏡;增透膜,所述第一安裝箱內固定連接有增透膜;反蛋白石結構光子晶體,所述第一安裝箱內固定連接有反蛋白石結構光子晶體;偏光濾光鏡,所述第一安裝箱內固定連接有偏光濾光鏡;日照強度計,所述第一安裝箱內頂部右端固定連接有日照強度計;反射鏡,所述第一安裝箱內右端傾斜設置有反射鏡

    [0012]優選的,所述氣相沉淀機構包括儲存箱,所述光刻機右端固定連接有儲存箱;氣泵,所述儲存箱頂部固定連接有氣泵,且氣泵左端設有與儲存箱相連的氣管;霧化噴頭,所述儲存箱左端通過伸縮管固定連接有霧化噴頭;第二安裝箱,所述第一安裝箱底部右端固定連接有第二安裝箱;氣缸,所述第二安裝箱內右端固定連接有氣缸,且氣缸左端推動桿固定連接有霧化噴頭

    [0013]優選的,所述氣相沉淀機構還包括加熱棒,所述第二安裝箱內右端通過連接板等距設有三組加熱棒;照射燈,所述第二安裝箱內右端通過連接板傾斜設置有照射燈
    。
    [0014]優選的,所述氣相沉淀機構還包括氣管,所述第二安裝箱左端固定連接有氣管,且氣管出氣孔處固定連接有單向閥;信號增強機構,所述第二安裝箱內固定連接有信號增強機構
    。
    [0015]優選的,所述信號增強機構包括光致抗蝕劑層,所述第二安裝箱內固定連接有光致抗蝕劑層;塑料薄膜,所述光致抗蝕劑層底部固定連接有塑料薄膜;第一硼硅酸鹽玻璃,所述塑料薄膜底部固定連接有第一硼硅酸鹽玻璃;綠膠,所述第一硼硅酸鹽玻璃底部固定連接有綠膠;聚四氟乙烯,所述綠膠底部固定連接有聚四氟乙烯
    。
    [0016]優選的,所述信號增強機構還包括藍膠,所述聚四氟乙烯底部固定連接有藍膠;金屬層涂膠,所述藍膠底部噴涂有金屬層涂膠
    。
    [0017]優選的,所述防護機構包括第二硼硅酸鹽玻璃,所述第二安裝箱內固定連接有第二硼硅酸鹽玻璃,且第二硼硅酸鹽玻璃設于掩模板下方;溫度檢測儀,所述第二安裝箱內左下端固定連接有溫度檢測儀;冷卻箱,所述光刻機右端固定連接有冷卻箱;風機,所述冷卻箱內左端固定連接有風機

    [0018]優選的,所述防護機構還包括冷卻件,所述風機右端通過梯形罩固定連接有冷卻件;活性炭層,所述冷卻箱內左端固定連接有活性炭層
    。
    [0019]優選的,所述信號增強機構設于第二聚焦透鏡和掩模板之間

    [0020]優選的,所述激光燈
    、
    濾光片
    、
    第一聚焦透鏡

    增透膜
    、
    反蛋白石結構光子晶體

    偏光濾光鏡

    日照強度計和反射鏡呈自左向右分布

    [0021]本專利技術具有如下優點:本專利技術通過改進在此提供一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別方法,與同類型設備相比,具有如下改進:
    [0022]本專利技術所述一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別方法,通過設置光增強機構,通過增透膜減小光在入射時的反射光線,增加入射光線的強度,再通過反蛋白石結構光子晶體增強對光的發射,最后通過偏光濾光鏡抑制反射光,防止光照強度較弱,影響后期標記識


    [0023]本專利技術所述一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別方法,通過設置氣相沉淀機構,通過霧化噴頭對信號增強機構底部進行噴涂,再通過加熱棒和照射燈的配合使噴涂液體最終形成涂層附著在信號增強機構底部,減少人工噴涂的時間和精力,提高噴涂效率
    。
    [0024]本專利技術所述一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別方法,通過設置信號增強機構,通過綠膠增強反射信號反饋,再通過金屬層涂膠增強反射光源,再通過多層防護層增加綠膠和金屬層涂膠的使用壽命
    。
    [0025]本專利技術所述一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別方法,通過設置防護機構,通過第二硼硅酸鹽玻璃隔絕熱量,防止加熱棒在使用時對投影透鏡造本文檔來自技高網
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    【技術保護點】

    【技術特征摘要】
    1.
    一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別方法,包括以下步驟:步驟一:當需對光源進行增強時,通過增透膜
    (25)
    減小光在入射時的反射光線,增加入射光線的強度,再通過反蛋白石結構光子晶體
    (26)
    增強對光的發射,最后通過偏光濾光鏡
    (27)
    抑制反射光,防止光照強度較弱,影響后期標記識別;步驟二:當需進行自動化噴涂時,通過霧化噴頭
    (33)
    對信號增強機構
    (39)
    底部進行噴涂,再通過加熱棒
    (36)
    和照射燈
    (37)
    的配合使噴涂液體最終形成涂層附著在信號增強機構
    (39)
    底部,減少人工噴涂的時間和精力,提高噴涂效率;步驟三:當需進行標記時,通過綠膠
    (394)
    增強反射信號反饋,再通過金屬層涂膠
    (397)
    增強反射光源,進而提高標記識別效果,然后通過多層防護層增加綠膠
    (394)
    和金屬層涂膠
    (397)
    的使用壽命;步驟四:在進行標記過程中,通過第二硼硅酸鹽玻璃
    (41)
    隔絕熱量,防止加熱棒
    (36)
    在使用時對投影透鏡
    (7)
    造成破壞,再通過冷卻件
    (45)
    冷卻氣體對對第二安裝箱
    (34)
    進行降溫,防止高溫對投影透鏡
    (7)
    造成破壞;基于上述一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別方法,還提出一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別裝置,包括光刻機
    (1)
    ,所述光刻機
    (1)
    內固定連接有光增強機構
    (2)
    ,所述光刻機
    (1)
    右端固定連接有氣相沉淀機構
    (3)
    ,所述光刻機
    (1)
    右端固定連接有防護機構
    (4)
    ,且防護機構
    (4)
    設于氣相沉淀機構
    (3)
    下方,所述氣相沉淀機構
    (3)
    內固定連接有第二聚焦透鏡
    (5)
    ,所述氣相沉淀機構
    (3)
    內固定連接有掩模板
    (6)
    ,所述氣相沉淀機構
    (3)
    內固定連接有投影透鏡
    (7)
    ,所述氣相沉淀機構
    (3)
    內固定連接有硅片掃描平臺
    (8)
    ,其中,所述第二聚焦透鏡
    (5)、
    掩模板
    (6)、
    投影透鏡
    (7)
    和硅片掃描平臺
    (8)
    呈自上而下分布;所述光增強機構
    (2)
    包括:第一安裝箱
    (21)
    ,所述光刻機
    (1)
    內固定連接有第一安裝箱
    (21)
    ;激光燈
    (22)
    ,所述第一安裝箱
    (21)
    內左端固定連接有激光燈
    (22)
    ;濾光片
    (23)
    ,所述第一安裝箱
    (21)
    內固定連接有濾光片
    (23)
    ;第一聚焦透鏡
    (24)
    ,所述第一安裝箱
    (21)
    內固定連接有第一聚焦透鏡
    (24)
    ;增透膜
    (25)
    ,所述第一安裝箱
    (21)
    內固定連接有增透膜
    (25)
    ;反蛋白石結構光子晶體
    (26)
    ,所述第一安裝箱
    (21)
    內固定連接有反蛋白石結構光子晶體
    (26)
    ;偏光濾光鏡
    (27)
    ,所述第一安裝箱
    (21)
    內固定連接有偏光濾光鏡
    (27)
    ;日照強度計
    (28)
    ,所述第一安裝箱
    (21)
    內頂部右端固定連接有日照強度計
    (28)
    ;反射鏡
    (29)
    ,所述第一安裝箱
    (21)
    內右端傾斜設置有反射鏡
    (29)。2.
    根據權利要求1所述一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別方法,其特征在于:所述氣相沉淀機構
    (3)
    包括:儲存箱
    (31)
    ,所述光刻機
    (1)
    右端固定連接有儲存箱
    (31)
    ;氣泵
    (32)
    ,所述儲存箱
    (31)
    頂部固定連接有氣泵
    (32)
    ,且氣泵
    (32)
    左端設有與儲存箱
    (31)
    相連的氣管;霧化噴頭
    (33)
    ,所述儲存箱
    (31)
    左端通過伸縮管固定連接有霧化噴頭
    (33)
    ;第二安裝箱
    (34)...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:朱曉峰,毛靜海包昊軼,
    申請(專利權)人:上海圖雙精密裝備有限公司
    類型:發明
    國別省市:

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