本發明專利技術提供偏振元件及其制造方法、投射型顯示裝置、液晶裝置、電子設備。其中，該偏振元件是線柵型偏振元件且具備：基板、平面視大致條紋狀地設置于基板的一面側上的多個凸條部、設置于各凸條部上并同時沿凸條部的延伸方向延伸的金屬細線，多個金屬細線各自包含設置于凸條部的短邊方向的兩側面中的一側面的第一細線、設置于另一側面的第二細線，同時，第一細線和第二細線在凸條部的上端部重疊，設置于各個凸條部的第一細線的體積在遠離基板的一端側的方向上連續減少，設置于各凸條部的第二細線的體積在遠離基板的一端側的方向上連續增加，金屬細線的體積的離散偏差是在規定范圍內。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及偏振元件及偏振元件的制造方法、投射型顯示裝置、液晶裝置、電子設 備。
技術介紹
作為各種電氣光學裝置的光調制裝置，使用有液晶裝置。作為液晶裝置的構造，在 對向設置的一對基板間夾持有液晶層的液晶裝置是眾所周知的，并且通常是具備了用于將 規定的所偏振的光入射至液晶層的偏振元件、及在無施加電壓時控制液晶分子的排列的定 向膜的結構。作為偏振元件所公知的有膜型偏振元件及線柵型偏振元件，其中，上述膜型偏振 元件是通過使包含碘及二色性染料的樹脂膜沿一方向延伸，而使碘及二色性染料在延伸方 向定向而制造的偏振元件；上述線柵型偏振元件是通過在透明的基板上鋪滿納米量級的金 屬細線而形成的偏振元件。線柵型偏振元件由無機材料構成，因此，具有耐熱性優異的優點，尤其適合用于特 別要求耐熱性的部位。例如，適合用作液晶投影儀的光閥用的偏振元件。作為這樣的線柵 型偏振元件，公開有如在專利文獻1 3上所舉例的技術。專利文獻1中，替代將金屬膜蝕刻并進行構圖而形成金屬細線的目前的方法，采 用對在基板上形成的凹凸部從斜方向通過蒸鍍及濺射等方法堆積金屬材料，并將堆積的金 屬微粒子層制成金屬細線的方法。根據該方法，能夠消除蝕刻時的金屬材料腐蝕、及由所蝕 刻的粒子的再附著所引起的形狀的錯亂等不良情況，能夠形成合適的金屬細線。另外，專利文獻2、3中，采用對基板凸部從兩方向蒸鍍金屬等的導電性物質，并將 堆積的金屬粒子制成金屬細線的方法。專利文獻1 (日本)特開2007-148344號公報專利文獻2 (日本)特開昭60-230102號公報專利文獻3 (日本)特開2006-3447號公報但是，上述專利文獻中記載的技術中存在下述問題。S卩，專利文獻1中，從形成金屬細線的基板的斜方向，通過使用斜蒸鍍法、或優選 使用離子束濺射法而使金屬材料堆積，形成金屬細線。但是，專利文獻1公開的方法中，在 基板的表面上，由于距金屬材料的材料源的距離不同，因此，所形成的各金屬細線的大小產 生不均。當金屬材料的大小產生不均時，相鄰的金屬細線間的距離、及金屬細線的寬 高等 即與偏振元件的光學物性有緊密關系的參數就發生改變，因此，偏振元件整體不能呈現出 均勻的光學物性。專利文獻2、3中也同樣，沒有關于成膜的金屬細線的成膜量的記載，且完全沒有 預測有關所形成的各金屬細線的大小會產生不均時的不良情況。
技術實現思路
本專利技術是鑒于上述情況而創立的，其目的在于，提供良好的線柵型偏振元件及其 制造方法，上述線柵型偏振元件能夠至少抑制光學特性的降低且在形成有金屬細線的面整 體上具有均勻的光學物性。另外，其目的在于，提供通過具備這樣的偏振元件而使顯示品質 高且可靠性優異的液晶裝置及電子設備，為了解決上述課題，本專利技術提供一種偏振元件，其特征在于，具備基板、在所述基 板的一面側以平面視成大致條紋狀所設置的多個凸條部、在各所述凸條部沿著所述凸條部 的延伸方向所設置的金屬細線；另外，多個所述金屬細線各自包含在所述凸條部的短邊方 向的兩側面中的一側面所設置的第一細線、在另一側面所設置的第二細線，并且所述第一 細線和所述第二細線在所述凸條部的上端部重疊；各所述凸條部所設置的所述第一細線的 體積在從所述基板的一端側遠離的方向上連續減少，各所述凸條部所設置的所述第二細線 的體積在從所述基板的一端側遠離的方向上連續增加；所述第一細線的體積和所述第二細 線的體積之和即所述金屬細線的體積的離散偏差是在規定范圍內。根據該構成，通過將以體積連續變化的方式形成的第一細線及第二細線相互所具 有的分布抵消，可以制成為形成不均小的金屬細線。另外，在多個金屬細線的每一個中，通 過將形成的金屬細線的體積管理在規定的離散偏差的范圍內，就可以制成在偏振元件整體 中具有均勻的光學物性的良好的偏振元件。在此，本專利技術中，“金屬細線”是指以金屬材料或半導體材料作為形成材料而設置 的。本專利技術中，優選的是，所述離散偏差按以所述金屬細線的體積的平均值為基準計 是在士4%的范圍內。根據該構成，可以將透過的光的亮度不均降低至觀察者不能辨認的程度，因此，能 夠制成具有良好的光學物性的偏振元件。本專利技術中，優選的是，所述第一細線的體積在從所述基板的一端側遠離的方向上 線性減少，所述第二細線的體積在從所述基板的一端側遠離的方向上線性增加。根據該構成，能夠在形成有第一細線和第二細線的面內，使相互所具有的分布良 好地疊加而使其抵消，因此，能夠制成為形成不均小的金屬細線，能夠制成具有良好的光學 物性的偏振元件。本專利技術中，優選的是，具備覆蓋所述凸條部和所述金屬細線的保護膜；在相鄰的所 述凸條部及所述金屬細線之間的區域，形成有沒有充填所述保護膜的空隙部。根據該構成，在相鄰的凸條部及金屬細線之間的區域，形成有空隙部，因此，能夠 制成金屬細線間沒有被保護膜埋沒、而具備優異光學特性的偏振元件。本專利技術中，優選的是，覆蓋相鄰的所述凸條部及所述金屬細線的所述保護膜，在所 述空隙部的上部接觸并覆蓋所述空隙部。根據該構成，在金屬細線間形成可封入空氣及成形加工時的環境氣體(或真空) 的空隙部。因此，可以制成具備優異光學特性的偏振元件。本專利技術中，優選的是，所述保護膜由透光性的絕緣性材料形成。根據該構成，由于金屬細線與周圍被絕緣，因此，能夠提供一種電子器件，其在例 如將偏振元件裝入裝置的情況下，沒有裝置的配線和金屬細線意外通電，而能夠實現穩定的動作。本專利技術中，優選的是，所述金屬細線使用選自硅、鍺、鉻、鉬中的形成材料而形成。這些材料難以氧化，因此能夠制成難以劣化且可靠性高的偏振元件。尤其是，在 偏振元件用于高溫的用途的情況下，雖然高溫環境下促進氧化反應，但是，通過使用這些材 料，能夠制成耐久性高的偏振元件。本專利技術提供一種偏振元件的形成方法，對在基板的一面側以平面視大致成條紋狀 所設置的多個凸條部、從相對于所述一面斜方向堆積金屬材料，由所述凸條部的表面所堆 積的細線狀的金屬膜形成多個金屬細線，其特征在于，包括從與所述凸條部的延伸方向相 交的第一方向，對所述凸條部的一側面堆積金屬材料，形成多個第一細線的工序；從與所述 第一方向在被投影到所述基板表面的方位正相反的第二方向，對所述凸條部的另一側面堆 積金屬材料而形成多個第二細線，由此形成具有所述第一細線和所述第二細線的所述金屬 細線的工序。該方法中，由于將第一細線及第二細線從相反方向形成，因此，將形成的第一細線 及第二細線相互所具有的分布抵消。因此，能夠減小所形成的各金屬細線的形成不均，能夠 制成具有良好的光學物性的偏振元件。本專利技術中，優選的是，具備形成對所述多個金屬細線的周圍進行覆蓋的保護膜的 工序，在形成所述保護膜的工序中，使用CVD法，在相鄰的所述凸條部及所述金屬細線之間 的區域形成沒有充填所述保護膜的空隙部。因為CVD法具有形成的膜的成長速度(成膜速度)大的特點，因此，能夠以快的成 膜速度進行膜形成。保護膜形成進行時，以保護膜的厚度量使相鄰的金屬細線間變窄，在相 鄰的金屬細線及凸條部之間而使原料氣體難以遍布。于是，在原料氣體難以遍布的凸條部 及金屬細線之間難以引起反應，在被暴露于原料氣體的金屬細線的上端部容易進行保護膜 的形成反應。因此，按照在金屬細線的上端部優先進行保護膜形成的反應、并使鄰接的金屬 細線間的上部的間隙變窄的方本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種偏振元件，其特征在于，具備，基板、在所述基板的一面側以平面視成大致條紋狀所設置的多個凸條部、在各所述凸條部沿著所述凸條部的延伸方向所設置的金屬細線，多個所述金屬細線各自包含在所述凸條部的短邊方向的兩側面中的一側面所設置的第一細線、和在另一側面所設置的第二細線，并且所述第一細線和所述第二細線在所述凸條部的上端部重疊，各所述凸條部所設置的所述第一細線的體積在從所述基板的一端側遠離的方向上連續減少，各所述凸條部所設置的所述第二細線的體積在從所述基板的一端側遠離的方向上連續增加，所述第一細線的體積和所述第二細線的體積之和即所述金屬細線的體積的離散偏差是在規定范圍內。
【技術特征摘要】
...
【專利技術屬性】
技術研發人員：熊井啟友，
申請(專利權)人：精工愛普生株式會社，
類型：發明
國別省市：JP
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