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    一種制造技術(shù)

    技術(shù)編號:39704315 閱讀:19 留言:0更新日期:2023-12-14 20:36
    本申請公開了一種

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
    一種TFT工藝用耐腐蝕擋板及TFT工藝用設(shè)備


    [0001]本申請涉及顯示器領(lǐng)域,特別涉及一種
    TFT
    工藝用耐腐蝕擋板及
    TFT
    工藝用設(shè)備


    技術(shù)介紹

    [0002]LED、OLED
    顯示器的
    TFT
    制作中,
    TFT
    薄膜可能產(chǎn)生黑點(diǎn)

    短路等缺陷,影響
    LED、OLED
    顯示器的顯示質(zhì)量


    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

    [0003]基于上述問題,本申請?zhí)峁┮环N
    TFT
    工藝用耐腐蝕擋板,該
    TFT
    工藝用耐腐蝕擋板降低了
    TFT
    薄膜黑點(diǎn)

    短路等缺陷,提高了
    LED、OLED
    顯示器的顯示質(zhì)量

    [0004]一種
    TFT
    工藝用耐腐蝕擋板,包括擋板元件基體,該
    TFT
    工藝用耐腐蝕擋板還包括復(fù)合陶瓷層,該復(fù)合陶瓷層由等離子噴涂復(fù)合陶瓷噴霧粒子形成,所述復(fù)合陶瓷層覆蓋擋板元件基體

    [0005]可選地,所述復(fù)合陶瓷層厚度為
    100
    ?
    200
    μ
    m。
    [0006]可選地,所述復(fù)合陶瓷噴霧粒子為
    Al2O3、TiO2和粘結(jié)劑噴霧形成的噴霧粒子

    [0007]可選地,所述復(fù)合陶瓷噴霧粒子為
    Al2O3、TiO2、CeO2和粘結(jié)劑噴霧形成的噴霧粒子
    />[0008]可選地,所述
    TFT
    工藝用耐腐蝕擋板還包括梯度涂層,該梯度涂層由等離子噴涂梯度材料粉末形成

    [0009]可選地,所述梯度涂層厚度為
    50
    μ
    m。
    [0010]可選地,所述等離子噴涂梯度材料粉末為
    NiCrAlY
    粉末

    [0011]本申請還提供一種
    TFT
    工藝用設(shè)備

    [0012]一種
    TFT
    工藝用設(shè)備,包括
    TFT
    工藝用設(shè)備本體,該
    TFT
    工藝用設(shè)備本體設(shè)置有工作腔體和
    TFT
    工藝用蝕擋板,所述
    TFT
    工藝用蝕擋板為上述的
    TFT
    工藝用耐腐蝕擋板

    [0013]專利技術(shù)原理及有益效果:
    [0014]本申請專利技術(shù)人在對黑點(diǎn)

    短路等缺陷進(jìn)行分析研究中發(fā)現(xiàn),部分黑點(diǎn)

    短路等缺陷產(chǎn)生的原因在于:在
    LED、OLED
    顯示器
    TFT
    制作過程中,為了便于模組斷的軟板鍵合或降低外圍導(dǎo)引線的阻抗,在
    TFT
    薄膜中會濺射一種金屬鉬或其氧化物
    MoOx
    ,在此過程中這種材料會不斷地飛濺至腔體內(nèi)的擋板上并沉積

    當(dāng)沉積物累積到一定厚度時(shí)會導(dǎo)致沉積膜與擋板之間的粘結(jié)力降低,嚴(yán)重的會導(dǎo)致沉積膜脫落,污染腔體,進(jìn)而產(chǎn)生黑點(diǎn)

    短路等缺陷,影響
    LED、OLED
    顯示器的顯示質(zhì)量

    [0015]因此,本申請專利技術(shù)人為了提高沉積膜與擋板的附著力,減少沉積膜的脫落,提出對腔體內(nèi)裸露于工藝環(huán)境中的擋板進(jìn)行等離子噴涂涂層制備,確保工藝環(huán)境滿足顯示屏制程工藝要求,提升產(chǎn)品質(zhì)量,減少了黑點(diǎn)

    短路等缺陷的發(fā)生

    [0016]本申請專利技術(shù)人還發(fā)現(xiàn):針對金屬
    Mo
    及其氧化物
    (MoOx)
    的沉積膜通常使用
    HNO3/H2SO4/HF
    等酸液進(jìn)行浸泡清洗

    在浸泡過程中所使用的酸液易揮發(fā),危險(xiǎn)性較大,尤其是氫
    氟酸具有較強(qiáng)的腐蝕性,會對擋板造成較大的腐蝕損傷

    因此,本申請專利技術(shù)人在擋板表面制備一層氧化鋁基復(fù)合陶瓷涂層,不僅可以為沉積膜提供較為粗糙的附著表面,還能提高擋板的耐腐蝕性能,避免對部件本體造成較大損害,從而延長部件的使用壽命,降低成本

    [0017]本申請專利技術(shù)人運(yùn)用噴霧造粒機(jī)書制備的復(fù)合陶瓷粉末,具有良好的球形度,具有良好的流動(dòng)性,便于等離子噴涂設(shè)備進(jìn)行送粉

    [0018]本申請對耐腐蝕擋板元件表面涂層的制備工藝具有工藝操作簡單,可控性好,可以在短時(shí)間內(nèi)對電子元件表面進(jìn)行涂層制備,減少更換新電子元件的費(fèi)用,提高電子元件的使用壽命的特點(diǎn)

    并且制備的涂層與擋板基體結(jié)合良好,表現(xiàn)為明顯的機(jī)械結(jié)合,并且涂層中組織致密,孔隙率小,能夠明顯改善擋板元件再清洗過程中的耐腐蝕性能

    另外,本申請表面涂層
    (
    復(fù)合陶瓷層
    )
    為沉積物提供了便于附著的粗糙表面,減少沉積膜的脫落,提高腔體的使用壽命,降低投入成本

    其中氧化鈰的添加,使其成分混合均勻,球形度較好,復(fù)合粉末的流動(dòng)性好

    本專利中引入梯度涂層主要是因?yàn)閾醢寤w與陶瓷涂層間線膨脹系數(shù)相差較大,將陶瓷層直接噴涂至擋板上容易產(chǎn)生開裂

    剝落的現(xiàn)象,影響擋板元件的使用性能

    梯度涂層的引入一方面緩解了不同材料之間的熱膨脹系數(shù)差異,減少涂層因殘余應(yīng)力而導(dǎo)致的開裂和剝落;另一方面,也為陶瓷層的附著提供了粗糙表面,提高與基體之間的結(jié)合強(qiáng)度

    附圖說明
    [0019]圖1復(fù)合陶瓷噴霧粒子粉末顯微形貌圖;
    [0020]圖2為實(shí)施例1?
    3TFT
    工藝用耐腐蝕擋板的整體結(jié)構(gòu)示意圖;
    [0021]圖3為實(shí)施例1的復(fù)合陶瓷層的表面形貌圖;
    [0022]圖4為實(shí)施例2的復(fù)合陶瓷層的表面形貌圖;
    [0023]圖5為實(shí)施例3的復(fù)合陶瓷層的表面形貌圖;
    [0024]圖6為施例3的復(fù)合陶瓷層的截面形貌圖;
    [0025]圖7為實(shí)施例4?
    6TFT
    工藝用耐腐蝕擋板的整體結(jié)構(gòu)示意圖圖;
    [0026]圖8為
    TFT
    工藝用設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖

    具體實(shí)施方式
    [0027]下面將結(jié)合附圖對本申請作進(jìn)一步說明

    [0028]實(shí)施例1[0029]一種
    TFT
    工藝用耐腐蝕擋板表面涂層制備工藝,包括以下步驟:
    [0030](1)
    粉末制備:
    [0031]①
    取粉體原料
    (
    粉體原料中,
    Al2O
    3 90wt
    %;
    TiO210wt

    )
    和去離子水
    (
    去離子水作為分散劑,去離子水:粉體原料重量比=
    13:5)
    ,機(jī)械混合
    1h
    形成漿料;
    [0032]②


    ...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    【技術(shù)特征摘要】
    1.
    一種
    TFT
    工藝用耐腐蝕擋板,包括擋板元件基體,其特征在于:該
    TFT
    工藝用耐腐蝕擋板還包括復(fù)合陶瓷層,該復(fù)合陶瓷層由等離子噴涂復(fù)合陶瓷噴霧粒子形成,所述復(fù)合陶瓷層覆蓋擋板元件基體;所述
    TFT
    工藝用耐腐蝕擋板還包括梯度涂層,該梯度涂層由等離子噴涂梯度材料粉末形成,梯度涂層位于擋板元件基體與復(fù)合陶瓷層之間
    。2.
    根據(jù)權(quán)利要求1所述的
    TFT
    工藝用耐腐蝕擋板,其特征在于,所述復(fù)合陶瓷層厚度為
    100
    ?
    200
    μ
    m。3.
    根據(jù)權(quán)利要求1所述的
    TFT
    工藝用耐腐蝕擋板,其特征在于,所述梯度涂層厚度為
    50
    μ
    m。4.
    根據(jù)權(quán)利要求1所述的
    TFT
    工藝用耐腐蝕擋板,其特征在于,所述等離子噴涂梯度材料粉末為
    NiCrAlY
    粉末
    。5.
    一種
    TFT
    工藝用設(shè)備,包括
    ...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:唐思成羅雪春胡家銘萬其凱鐘慶遠(yuǎn)黎清賢
    申請(專利權(quán))人:成都拓維高科光電科技有限公司
    類型:新型
    國別省市:

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