一種石材加工拋光設備及方法技術

本發明專利技術公開了一種石材加工拋光設備及方法，設備結構包括機架

【技術實現步驟摘要】
一種石材加工拋光設備及方法


[0001]本專利技術涉及石材加工領域，具體的是一種石材加工拋光設備及方法
。

技術介紹

[0002]石材是建筑中常用的材料，根據用途不同通常有石柱
、
石墩
、
石板等形制，一些墻面裝飾上或者景觀造型上通常會采用浮雕石板來呈現浮雕圖案，浮雕石板往常采用人工雕刻的形式，隨著時代的發展雕刻機逐漸取代了人工，接管了大部分的浮雕石板的加工生產操作，在雕刻加工完成后，需要對浮雕石板進行拋光以便其呈現較好的展示效果
。
[0003]現有的拋光操作通常由人工和機器輔助進行，但是很多浮雕表面具有凹凸落差較大且凹陷范圍較小的結構，這使得不論是統一石材拋光流水線還是手扶拋光機臺，甚至手持拋光機，其盤狀拋光片都無法在水平旋轉的工作形式下有效地對凹陷處進行打磨，通常需要后續人工用拋光塊等小型的拋光工具進行單獨打磨
。

技術實現思路

[0004]針對上述問題，本專利技術提供一種石材加工拋光設備，其結構包括在機體上移動的機架和裝設在機架下方的加工臺，所述機架上裝設有主軸，其中，所述加工臺用于裝夾具有浮雕圖案或具有凹凸落差較大圖案的石材，所述主軸上通過切換組件安裝有用于對石材進行拋光的拋光盤，所述切換組件包括基座和活動座，以及復數個與活動座進行鉸鏈連接的擺臂和分別和擺臂與基座進行鉸鏈連接的啟閉連桿，所述基座底端設有感應器，復數個所述擺臂環繞裝設在活動座上，所述拋光盤嵌套在環繞成組的擺臂上，所述基座內設有推動件，所述推動件的推臂與活動座相連接，所述切換組件還包括具有彈性的端撐件，所述端撐件裝設在擺臂末端且與拋光盤側端相抵，所述切換組件通過可壓縮伸縮的適應器安裝在主軸上，所述適應器包括填充有氣體或者彈性件的缸體和活動裝設在缸體內的活動臂，所述活動臂通過調節組件與切換組件相連接，所述活動臂隨著活動座位置的固定而與基座之間進行相對固定
。
[0005]進一步地，所述拋光盤主體為紡織物且至少具有大于端撐件豎向長度的厚度，所述拋光盤外端面設有刷毛層或磨礫層，所述拋光盤結構內設有中空的套部，所述擺臂和端撐件嵌套在套部內，所述套部之間連接有密度小于套部的伸縮部
。
[0006]進一步地，所述拋光盤主體紡織線呈由底面中部向四周延伸經過側面延伸至頂面中部匯集的結構，所述拋光盤在該紡織線延伸方向上具有彈性，所述套部在豎向上的形變長度不超過原厚度的三分之一
。
[0007]進一步地，所述端撐件主體在擺臂的長度方向上延伸，所述端撐件包括外撐部和中壓部，所述外撐部和中壓部均呈平條結構經單次彎曲回折狀且具有趨向平直復位的彈性，單個所述端撐件內設有兩條外撐部且外撐部向內彎曲回折的一端設有中壓部，所述外撐部設在水平狀的擺臂的上下端
。
[0008]進一步地，所述外撐部和中壓部的彎曲端為端撐件的末端且末端具有向外撐部兩
側外撐開和內擠壓的空間，所述外撐部末端相對中壓部末端呈向外伸出狀
。
[0009]進一步地，所述活動座上設有復數根豎直的傳動桿，所述傳動桿活動卡合在基座上且由基座底端延伸至基座內，所述基座內的傳動桿頂端安裝有定位環，所述定位環通過傳動桿與活動座進行同步移動，所述調節組件包括定位套和兩根鉸鏈連接在定位套上下兩端的調距連桿，頂端的所述調距連桿與活動臂進行鉸鏈連接，底端的所述調距連桿與定位環進行鉸鏈連接
。
[0010]進一步地，所述基座上固定設有水平的定位軸，所述定位套滑動嵌套在定位軸上，兩根所述調距連桿外端的鉸鏈連接點之間的連線到基座側壁的距離，大于調距連桿的長度
。
[0011]進一步地，所述定位套設有四個且調距連桿與定位套配合設有四組，所述定位軸設有一根且穿過兩個相對側的定位套
。
[0012]進一步地，所述切換組件和適應器進行同步旋轉且切換組件和適應器之間不發生軸向上的相對旋轉，所述基座上設有限位柱，所述缸體與限位柱在豎向上嵌套配合
。
[0013]一種石材加工拋光方法：首先，將具有浮雕圖案或具有凹凸落差較大圖案的石材裝夾到加工臺上，將高和深兩種狀態的石材表面處理圖錄入拋光設備的控制系統中；隨后，手動控制設備驅動推動件收縮，帶動擺臂向下擺動，隨后將外端面設有刷毛層或磨礫層的拋光盤通過套部對準端撐件向上嵌套進擺臂上并通過環形的鐵絲或扎帶固定
。
隨后啟動推動件帶動擺臂展開使擺臂和端撐件配合將拋光盤撐開；最后，啟動設備，機架帶動主軸在平面上進行
XY
軸運動和
Z
軸運動，通過
XY
軸層進方式對石材進行平移掃過，主軸與拋光盤下壓到石材表面后進一步下降并壓縮適應器，主軸驅動適應器
、
切換組件帶動拋光盤進行旋轉對石材進行拋光，在移動過程中感應器感受到落差變化后與控制系統的表面處理圖進行配合，判斷當前是否進入凹凸落差較大的浮雕邊界，從而控制推動件帶動切換組件使拋光盤切換狀態，讓拋光盤折疊成豎柱狀同時切換組件整體上升一段距離，讓豎柱狀拋光盤底端接觸石材，端撐件末端帶動拋光盤對石材進行打磨，利用外撐部將拋光盤向側向撐開，從而更能適應浮雕根部的拋光，而外撐部也可適應窄縫環境進行向內擠壓，從而伸入窄的凹陷部內進行拋光，而在凹陷部底面平面拋光時則由中壓部來對拋光盤進行主要的擠壓，從而對凹凸落差較大的浮雕的凹陷部進行打磨
。
[0014]與現有技術相比，本專利技術具有如下有益效果：
1、
本專利技術采用可展開和收縮的切換組件裝夾著拋光盤對石材進行打磨，在進入浮雕邊界凹凸落差較大的區域時，推動件帶動活動座上升從而驅動擺臂向下擺動，使拋光盤折疊成豎柱狀，讓豎柱狀拋光盤底端接觸石材，端撐件末端帶動拋光盤對石材進行打磨，端撐件用外撐部將拋光盤向側向撐開，從而更能適應浮雕根部的拋光，而面對窄的凹陷部時外撐部也可適應窄縫環境進行向內擠壓，從而伸入窄的凹陷部內進行拋光，從而利用自動設備來對凹凸落差較大的浮雕的凹陷部進行打磨
。
[0015]2、
本專利技術切換組件通過可壓縮伸縮的適應器安裝在主軸上，從而適應一些平面上起伏落差不大的浮雕結構，不用驅動機架單獨進行高度控制，并讓切換組件通過調節組件與適應器相連接，當推動件收縮帶動活動座上升時定位環同步上升，并向上擠壓調距連桿，由于頂端方向的自由度被定位軸阻擋，因此受擠壓的調距連桿帶動定位套沿著定位軸向外側運動，定位套同時也拉動頂端的調距連桿，從而使活動臂相對基座向下運動，以活動臂為
靜止參照物的話便是讓基座向上運動從而縮短整體高度，由于切換組件在帶動拋光盤折疊成豎柱狀后豎向長度會增加，通過調節組件可以使切換組件整體向上運動一段距離，避免適應器給端撐件施加太大壓力從而影響石材凹陷部的適應效果和拋光效果
。
[0016]3、
本專利技術活動臂
、
活動座與基座均是通過定位軸進行連桿滑塊連接，因此裝設在基座內的推動件帶動活動座運動時才會讓活動臂相對基座移動，并且在推動件帶本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.
一種石材加工拋光設備，其結構包括在機體上移動的機架和裝設在機架下方的加工臺，所述機架上裝設有主軸，其特征在于：所述加工臺用于裝夾具有浮雕圖案或具有凹凸落差較大圖案的石材，所述主軸上通過切換組件安裝有用于對石材進行拋光的拋光盤；所述切換組件包括基座和活動座，以及復數個與活動座進行鉸鏈連接的擺臂和分別和擺臂與基座進行鉸鏈連接的啟閉連桿，所述基座底端設有感應器，復數個所述擺臂環繞裝設在活動座上，所述拋光盤嵌套在環繞成組的擺臂上，所述基座內設有推動件，所述推動件的推臂與活動座相連接；所述切換組件還包括具有彈性的端撐件，所述端撐件裝設在擺臂末端且與拋光盤側端相抵；所述切換組件通過可壓縮伸縮的適應器安裝在主軸上，所述適應器包括填充有氣體或者彈性件的缸體和活動裝設在缸體內的活動臂，所述活動臂通過調節組件與切換組件相連接，所述活動臂隨著活動座位置的固定而與基座之間進行相對固定；所述端撐件主體在擺臂的長度方向上延伸，所述端撐件包括外撐部和中壓部，所述外撐部和中壓部均呈平條結構經單次彎曲回折狀且具有趨向平直復位的彈性；單個所述端撐件內設有兩條外撐部且外撐部向內彎曲回折的一端設有中壓部，所述外撐部設在水平狀的擺臂的上下端
。2.
根據權利要求1所述的一種石材加工拋光設備，其特征在于：所述拋光盤主體為紡織物且至少具有大于端撐件豎向長度的厚度，所述拋光盤外端面設有刷毛層或磨礫層；所述拋光盤結構內設有中空的套部，所述擺臂和端撐件嵌套在套部內，所述套部之間連接有密度小于套部的伸縮部
。3.
根據權利要求2所述的一種石材加工拋光設備，其特征在于：所述拋光盤主體紡織線呈由底面中部向四周延伸經過側面延伸至頂面中部匯集的結構，所述拋光盤在該紡織線延伸方向上具有彈性；所述套部在豎向上的形變長度不超過原厚度的三分之一
。4.
根據權利要求1所述的一種石材加工拋光設備，其特征在于：所述外撐部和中壓部的彎曲端為端撐件的末端且末端具有向外撐部兩側外撐開和內擠壓的空間，所述外撐部末端相對中壓部末端呈向外伸出狀
。5.
根據權利要求1所述的一種石材加工拋光設備，其特征在于：所述活動座上設有復數根豎直的傳動桿，所述傳動桿活動卡合在基座上且由基座底端延伸至基座內，所述基座內的傳動桿頂端安裝有定位環，所述定位環通過傳動桿與活動座進行同步移動；所述調節組件包括定位套和兩根鉸鏈...

【專利技術屬性】
技術研發人員：王輝，管祖文，鐘騰輝，
申請(專利權)人：福建海絲石業有限公司，
類型：發明
國別省市：