一種多晶硅生產中往復式氫氣壓縮機密封氣結構制造技術

本發明專利技術公開了一種多晶硅生產中往復式氫氣壓縮機密封氣結構，密封填料組件上分別開設有密封氫氣進入通道

【技術實現步驟摘要】
一種多晶硅生產中往復式氫氣壓縮機密封氣結構


[0001]本專利技術涉及多晶硅生產
，更具體的說是涉及一種多晶硅生產中往復式氫氣壓縮機密封氣結構
。

技術介紹

[0002]多晶硅生產中參與反應的氫氣及氯硅烷
、
三氯氫硅
、
四氯化硅的混合氣體在循環壓縮等環節，需要往復式氫氣壓縮機進行壓縮，以能使多晶硅生產可持續
、
循環進行
。
[0003]在往復式氫氣壓縮機中，曲柄搖桿機構
4(
曲軸
、
連桿
、
十字頭
)
，氣缸側隔室
3、
密封填料組件1，氣缸
、
接筒6以及機身側隔室7都是屬于往復式氫氣壓縮機的本體部分
。
具體的：機身側隔室7相對的兩端均通過接筒6連接有氣缸側隔室3，且每個氣缸側隔室3遠離對應接筒6的一端連接在對應氣缸的缸體
21
的有桿端，同時需要在每個氣缸的有桿端連接有密封填料組件1，且使每個密封填料組件1遠離氣缸的一端延伸在對應氣缸側隔室3中，并使每個氣缸的活塞桿
22
遠離其活塞
21
的一端依次穿過對應的密封填料組件
1、
對應的氣缸側隔室
3、
對應的接筒6延伸至機身側隔室7內，并與位于機身側隔室7內的曲柄搖桿機構4連接，以通過曲柄搖桿機構4驅動每個氣缸的活塞桿
22
在對應的缸體
21
中做直線往復移動，從而帶動連接在對應活塞桿
22
上的活塞
23
做直線往復移動，以能實現壓縮工藝氣體
(
每個缸體
21
上均分別開設有工藝氣體進口
210
和排氣口
220
，以在活塞桿往復移動過程中可以壓縮工藝氣體
)
的作用，且在往復式氫氣壓縮機壓縮過程中，每個氣缸的活塞桿
22
與對應的密封填料組件1之間形成有密封間隙
10。
[0004]然而，由于現有往復式氫氣壓縮機中的密封填料組件1在靠近低壓
(
往復式氫氣壓縮機中的密封填料組件1靠近對應氣缸側隔室3的方向為低壓方向，而靠近對應活塞
23
處于高壓方向
)
的一端開設有與密封間隙
10
接通的漏氣放空通道
102
，導致該漏氣放空通道
102
不足以有效排掉在往復式氫氣壓縮機運行過程中沿密封間隙
10
泄漏的物料氣
(
工藝氣體
)
，則在往復式氫氣壓縮機運行過程中泄漏的該物料氣容易沿著密封間隙
10
向低壓方向流入至氣缸側隔室3中，甚至通過接筒6流入至機身側隔室7中，則容易使物料氣腐蝕位于氣缸側隔室3和位于接筒6中的密封件，以及容易腐蝕位于機身側隔室7內的曲柄搖桿機構4以及其他相關部件，同時由于物料氣需要在密封間隙
10
中流動較長距離后可從位于低壓端的漏氣放空通道
102
排出，則容易腐蝕密封填料組件1，造成密封填料組件1的性能下降，運行周期縮短，泄漏量增加，排放損耗高，排放氣體的治理成本增加，嚴重時甚至造成停車，嚴重影響生產穩定運行
。
[0005]因此，如何提供一種減少物料氣分別向氣缸側隔室方向和外界泄漏量的多晶硅生產中往復式氫氣壓縮機密封氣結構是本領域技術人員亟需解決的技術問題
。

技術實現思路

[0006]有鑒于此，本專利技術提供了一種多晶硅生產中往復式氫氣壓縮機密封氣結構，減少往復式氫氣壓縮機運行過程中沿密封間隙向氣缸側隔室方向泄漏的物料氣含量，以不易腐
蝕位于氣缸側隔室
、
接筒以及機身側隔室中的零部件，以及不易腐蝕密封填料組件，且降低物料氣向外界排放的含量，從而降低對環境的污染
。
[0007]為了實現上述目的，本專利技術采用如下技術方案：
[0008]一種多晶硅生產中往復式氫氣壓縮機密封氣結構，包括：密封填料組件和氣缸；
[0009]其中，所述密封填料組件位于氣缸側隔室和所述氣缸的缸體之間，且所述密封填料組件連接在所述缸體有桿端的端部，同時所述氣缸的活塞桿沿所述密封填料組件的長度方向貫穿所述密封填料組件，并可相對所述密封填料組件做直線往復移動，且所述活塞桿遠離所述氣缸的活塞一端延伸至所述氣缸側隔室中，并且所述活塞桿與所述密封填料組件之間限定有密封間隙；
[0010]所述密封間隙的兩個端口一一對應接通所述氣缸側隔室和所述缸體的內腔，且所述密封填料組件上分別開設有密封氫氣進入通道
、
漏氣放空通道和漏氣回收通道，并且所述密封氫氣進入通道
、
所述漏氣放空通道和所述漏氣回收通道均與所述密封間隙接通，同時所述密封氫氣進入通道與所述密封間隙的接通處位于所述漏氣放空通道與所述密封間隙的接通處和所述漏氣回收通道與所述密封間隙的接通處之間，并且所述漏氣回收通道與所述密封間隙的接通處靠近所述活塞一端，所述密封氫氣進入通道與所述密封間隙的接通處靠近所述漏氣回收通道與所述密封間隙的接通處
。
[0011]本申請采用上述技術方案，從密封氫氣進入通道向密封間隙中充入密封氫氣，則一方面可以阻止來自氣缸側隔室方向的氣體沿密封間隙向活塞方向移動，以保證氣缸中壓縮氣體的純凈度，另一方面可以阻止來自活塞方向的物料氣沿著密封間隙向氣缸側隔室方向移動，以不易使物料氣進入氣缸側隔室去腐蝕氣缸側隔室內的相關部件
。
[0012]另外，由于本申請漏氣回收通道與密封間隙的接通處靠近活塞一端，則此處相比漏氣放空通道處具有較高的壓力，則使往復式氫氣壓縮機運行過程中產生的沿密封間隙逐級泄漏的物料氣大部分先進入漏氣回收通道中以備二次利用，從而減少在密封間隙中繼續流動物料氣的含量，因此不僅可以降低物料氣對密封填料組件的腐蝕，而且剩余的少量物料氣會通過漏氣放空通道放空，則能有效降低物料氣進入氣缸側隔室內的含量，因此不易使氣缸側隔室內的相關部件造成腐蝕，以提高往復式氫氣壓縮機運行的穩定性，從而提高多晶硅生產的安全性
。
[0013]同時，由于往復式氫氣壓縮機運行過程中產生的沿密封間隙逐級泄漏的物料氣大部分先進入漏氣回收通道中以備二次利用，只是剩余的少量物料氣從漏氣放空通道放空，因此降低對環境的污染程度，從而可降低排放氣體的治理成本
。
[0014]優選的，所述漏氣回收通道遠離所述密封間隙的開口接通有回收裝置，以能實現對密封氫氣和所泄漏物料氣的回收利用，從而節能減排
。
[0015]優選的，所述密封氫氣進入通道和所述漏氣回收通道均分別接通有流量計和壓力傳感器，同時所述密封氫氣進入通道遠離所述密封間隙的開口接通有密封氫氣補充管道，且所述密封氫氣補充管道上連接有閥門
。
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【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.
一種多晶硅生產中往復式氫氣壓縮機密封氣結構，其特征在于，包括：密封填料組件
(1)
和氣缸；其中，所述密封填料組件
(1)
位于氣缸側隔室
(3)
和所述氣缸的缸體
(21)
之間，且所述密封填料組件
(1)
連接在所述缸體
(21)
有桿端的端部，同時所述氣缸的活塞桿
(22)
沿所述密封填料組件
(1)
的長度方向貫穿所述密封填料組件
(1)
，并可相對所述密封填料組件
(1)
做直線往復移動，且所述活塞桿
(22)
遠離所述氣缸的活塞
(23)
一端延伸至所述氣缸側隔室
(3)
中，并且所述活塞桿
(22)
與所述密封填料組件
(1)
之間限定有密封間隙
(10)
；所述密封間隙
(10)
的兩個端口一一對應接通所述氣缸側隔室
(3)
和所述缸體
(21)
的內腔，且所述密封填料組件
(1)
上分別開設有密封氫氣進入通道
(101)、
漏氣放空通道
(102)
和漏氣回收通道
(103)
，并且所述密封氫氣進入通道
(101)、
所述漏氣放空通道
(102)
和所述漏氣回收通道
(103)
均與所述密封間隙
(10)
接通，同時所述密封氫氣進入通道
(101)
與所述密封間隙
(10)
的接通處位于所述漏氣放空通道
(102)
與所述密封間隙
(10)
的接通處和所述漏氣回收通道
(103)
與所述密封間隙
(10)
的接通處之間，并且所述漏氣回收通道
(103)
與所述密封間隙
(10)
的接通處靠近所述活塞
(23)
一端，所述密封氫氣進入通道
(101)
與所述密封間隙
(10)
的接通處靠近所述漏氣回收通道
(103)
與所述密...

【專利技術屬性】
技術研發人員：周新軍，杜曉輝，王小雨，戚淵，張軍旗，
申請(專利權)人：內蒙古興洋科技股份有限公司，
類型：發明
國別省市：