一種面向可穿戴眼鏡設(shè)備的毫米波波束掃描天線陣列制造技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)提供一種面向可穿戴眼鏡設(shè)備的毫米波波束掃描天線陣列，包括多個(gè)等間隔排布的短路輻射貼片單元，所述短路輻射貼片單元包括自上而下依次設(shè)置第一介質(zhì)層

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
一種面向可穿戴眼鏡設(shè)備的毫米波波束掃描天線陣列


[0001]本專利技術(shù)涉及一種毫米波波束掃描天線陣列，尤其涉及一種面向可穿戴眼鏡設(shè)備的毫米波波束掃描天線陣列
。

技術(shù)介紹

[0002]毫米波頻段在第五代移動(dòng)通信技術(shù)
(5G)
中占有重要地位
。
毫米波頻段具有頻譜資源豐富和傳輸速率快的優(yōu)點(diǎn)，同時(shí)在該頻段的天線物理尺寸小，適用于終端設(shè)備
。
但是國內(nèi)市面上
5G
終端設(shè)備主要支持
sub
?
6GHz
頻段，因此在終端設(shè)備中集成毫米波天線具有重要意義
。
對(duì)于毫米波頻段，由于路徑損耗較大，需要提高天線增益，但是提高天線增益就會(huì)降低波束寬度，減小天線覆蓋范圍，因此，采用相控陣技術(shù)是目前常用的提高天線增益和實(shí)現(xiàn)波束動(dòng)態(tài)掃描能力廣泛采用的方案
。
然而，目前的終端毫米波掃描天線陣列采用相控陣技術(shù)不僅僅具有結(jié)構(gòu)復(fù)雜的問題，還存在天線尺寸較大的缺點(diǎn)
。
如果需要進(jìn)一步采用開關(guān)和饋電網(wǎng)絡(luò)對(duì)輻射天線進(jìn)行饋電來實(shí)現(xiàn)終端毫米波波束掃描，也同樣會(huì)因?yàn)槌叽巛^大且結(jié)構(gòu)復(fù)雜，而不能滿足可穿戴眼鏡設(shè)備這一特殊應(yīng)用環(huán)境的實(shí)際需求
。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

[0003]本專利技術(shù)所要解決的技術(shù)問題是需要提供的是一種面向可穿戴眼鏡設(shè)備的毫米波波束掃描天線陣列，旨在實(shí)現(xiàn)天線結(jié)構(gòu)簡單且尺寸較小的效果，并保證天線性能，以滿足可穿戴眼鏡設(shè)備這一特殊應(yīng)用環(huán)境的實(shí)際需求
。
[0004]對(duì)此，本專利技術(shù)提供一種面向可穿戴眼鏡設(shè)備的毫米波波束掃描天線陣列，包括多個(gè)等間隔排布的短路輻射貼片單元，所述短路輻射貼片單元包括自上而下依次設(shè)置有第一介質(zhì)層
、
粘合層和第二介質(zhì)層，所述第一介質(zhì)層通過所述粘合層與所述第二介質(zhì)層相連接；所述第一介質(zhì)層的上層設(shè)置有輻射貼片，所述第一介質(zhì)層的下層設(shè)置有金屬地板，所述金屬地板設(shè)置有矩形槽，所述矩形槽設(shè)置于所述輻射貼片的正下方，并與所述輻射貼片耦合饋電；所述輻射貼片和金屬地板通過金屬短路柱相連接，且所述輻射貼片的諧振波長為四分之一；所述第二介質(zhì)層的下層設(shè)置有微帶線耦合饋電結(jié)構(gòu)，所述微帶線耦合饋電結(jié)構(gòu)通過所述矩形槽對(duì)所述輻射貼片進(jìn)行耦合饋電
。
[0005]本專利技術(shù)的進(jìn)一步改進(jìn)在于，所述微帶線耦合饋電結(jié)構(gòu)包括相連接的微帶饋線和
T
型饋電結(jié)構(gòu)，所述微帶饋線設(shè)置于所述矩形槽的正下方，所述微帶饋線通過所述
T
型饋電結(jié)構(gòu)和所述矩形槽對(duì)所述輻射貼片進(jìn)行耦合饋電
。
[0006]本專利技術(shù)的進(jìn)一步改進(jìn)在于，包括四個(gè)短路輻射貼片單元，通過每個(gè)短路輻射貼片單元進(jìn)行等幅等相位差饋電實(shí)現(xiàn)邊射掃描的工作模式
。
[0007]本專利技術(shù)的進(jìn)一步改進(jìn)在于，所述第二介質(zhì)層為與可穿戴眼鏡設(shè)備進(jìn)行共形設(shè)計(jì)的眼鏡腿
。
[0008]本專利技術(shù)的進(jìn)一步改進(jìn)在于，所述矩形槽的尺寸小于所述輻射貼片的尺寸
。
[0009]本專利技術(shù)的進(jìn)一步改進(jìn)于，所述輻射貼片為矩形貼片，所述矩形貼片的長和寬分別
為
2mm
和
1.8mm
；所述矩形槽的長和寬分別為
2mm
和
1mm。
[0010]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本專利技術(shù)的有益效果在于：通過與所述金屬短路柱相連接的所述輻射貼片實(shí)現(xiàn)短路貼片，進(jìn)而能夠有效地減小貼片天線的縱向尺寸，減小了縱向尺寸的毫米波波束掃描天線陣列能夠很好地適配設(shè)計(jì)于可穿戴眼鏡設(shè)備的眼鏡腿中，還能夠進(jìn)一步使其與所述可穿戴眼鏡設(shè)備進(jìn)行共形設(shè)計(jì)；在此基礎(chǔ)上，還同時(shí)采用微帶線耦合饋電結(jié)構(gòu)以實(shí)現(xiàn)微帶線饋電形式，進(jìn)而可以有效地減小天線整體高度，以獲得整體厚度薄的特點(diǎn)，同時(shí)改善阻抗匹配性能，再進(jìn)一步為與可穿戴眼鏡設(shè)備進(jìn)行共形設(shè)計(jì)提供了更好的基礎(chǔ)，整體結(jié)構(gòu)簡單，并且能夠很好地滿足眼鏡腿的寬度窄和厚度薄的特點(diǎn)，很好地保證了天線性能，滿足可穿戴眼鏡設(shè)備這一特殊應(yīng)用環(huán)境的實(shí)際需求
。
附圖說明
[0011]圖1是本專利技術(shù)一種實(shí)施例的短路輻射貼片單元的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本專利技術(shù)一種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本專利技術(shù)一種實(shí)施例與可穿戴眼鏡設(shè)備實(shí)現(xiàn)共形設(shè)計(jì)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本專利技術(shù)一種實(shí)施例的短路輻射貼片單元仿真反射系數(shù)結(jié)果圖；圖5為本專利技術(shù)一種實(shí)施例的天線掃描范圍仿真結(jié)果圖；圖6為本專利技術(shù)一種實(shí)施例的天線安裝在可穿戴眼鏡設(shè)備上的掃描范圍仿真結(jié)果圖；圖7為本專利技術(shù)一種實(shí)施例的天線安裝在可穿戴眼鏡設(shè)備上的反射系數(shù)仿真結(jié)果圖；圖8為本專利技術(shù)一種實(shí)施例的天線安裝在可穿戴眼鏡設(shè)備上的端口隔離仿真結(jié)果圖
。
[0012]附圖標(biāo)識(shí)：1?
第一介質(zhì)層；2?
粘合層；3?
第二介質(zhì)層；4?
輻射貼片；5?
金屬地板；6?
矩形槽；7?
金屬短路柱；8?
微帶饋線；9?
T
型饋電結(jié)構(gòu)；
10
?
波束掃描陣列；
11
?
眼鏡腿；
12
?
可穿戴眼鏡設(shè)備
。
具體實(shí)施方式
[0013]在本專利技術(shù)的描述中，如果涉及到方位描述，例如“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本專利技術(shù)和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位
、
以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本專利技術(shù)的限制
。
如果某一技術(shù)特征被稱為“設(shè)置”、“固定”、“連接”、“安裝”在另一個(gè)技術(shù)特征，可以直接設(shè)置
、
固定
、
連接在另一個(gè)技術(shù)特征上，也可以間接地設(shè)置
、
固定
、
連接
、
安裝在另一個(gè)技術(shù)特征上
。
[0014]在本專利技術(shù)的描述中，如果涉及到“若干”，其含義是一個(gè)以上；如果涉及到
?“
多個(gè)”，其含義是兩個(gè)以上；如果涉及到“大于”、“小于”、“超過”，均應(yīng)理解為不包括本數(shù)；如果涉及到“以上”、“以下”、“以內(nèi)”，均應(yīng)理解為包括本數(shù)
。
如果涉及到“第一”、“第二”等，應(yīng)當(dāng)理解為僅用于相同或是相似技術(shù)特征名稱的區(qū)分，而不能理解為暗示
/
指明技術(shù)特征的相對(duì)重要性，不能理解為暗示
/
指明技術(shù)特征的數(shù)量，也不能理解為暗示
/
指明技術(shù)特征的先后關(guān)系
。
[0015]下面結(jié)合附圖，對(duì)本專利技術(shù)的較優(yōu)的實(shí)施例作進(jìn)一步的詳細(xì)說明
。
[0016]如圖1至圖8所示，本實(shí)施例提供一種面向可穿戴眼鏡設(shè)備的毫米波波束掃描天線陣列，包括多個(gè)等間隔排布的短路輻射貼片單元，所述短路輻射貼片單元包括自上而下依次設(shè)置有第一介質(zhì)層
1、
粘合層2和第二介質(zhì)層3，所述第一介質(zhì)層1通過所述粘合層2與所述第二介質(zhì)層3相連接，以實(shí)本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

【技術(shù)特征摘要】
1.
一種面向可穿戴眼鏡設(shè)備的毫米波波束掃描天線陣列，其特征在于，包括多個(gè)等間隔排布的短路輻射貼片單元，所述短路輻射貼片單元包括自上而下依次設(shè)置有第一介質(zhì)層
、
粘合層和第二介質(zhì)層，所述第一介質(zhì)層通過所述粘合層與所述第二介質(zhì)層相連接；所述第一介質(zhì)層的上層設(shè)置有輻射貼片，所述第一介質(zhì)層的下層設(shè)置有金屬地板，所述金屬地板設(shè)置有矩形槽，所述矩形槽設(shè)置于所述輻射貼片的正下方，并與所述輻射貼片耦合饋電；所述輻射貼片和金屬地板通過金屬短路柱相連接，且所述短路輻射貼片單元的諧振波長為四分之一；所述第二介質(zhì)層的下層設(shè)置有微帶線耦合饋電結(jié)構(gòu)，所述微帶線耦合饋電結(jié)構(gòu)通過所述矩形槽對(duì)所述短路輻射貼片單元進(jìn)行耦合饋電
。2.
根據(jù)權(quán)利要求1所述的面向可穿戴眼鏡設(shè)備的毫米波波束掃描天線陣列，其特征在于，所述微帶線耦合饋電結(jié)構(gòu)包括相連接的微帶饋線和
T
型饋電結(jié)構(gòu)，所述微帶饋線設(shè)置于所述矩形槽的正下方，所述微帶饋線通過所述
T

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：肖成博，鄭興，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：深圳市思訊通信技術(shù)有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：