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    一種真空機制造技術(shù)

    技術(shù)編號:4007731 閱讀:347 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
    本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種真空機,能夠有效解決現(xiàn)有產(chǎn)品在進入真空機時,表面容易沾染灰塵,在鍍膜時產(chǎn)生黑點,鍍膜附著力不穩(wěn)定的問題。一種真空機,包括真空罩、蒸發(fā)電極和蒸發(fā)電流控制器,所述蒸發(fā)電極設(shè)置在真空罩內(nèi),所述蒸發(fā)電極還與真空罩外的蒸發(fā)電流控制器相連,還包括離子發(fā)生器和離子發(fā)生控制器,所述離子發(fā)生器設(shè)置在真空罩內(nèi),所述離子發(fā)生器與真空罩外部的離子發(fā)生控制器相連。本發(fā)明專利技術(shù)的優(yōu)點是:在真空條件下,通過離子發(fā)生器產(chǎn)生離子風(fēng),使產(chǎn)品表面的灰塵掉落,杜絕黑點,提高良品率,同時可以提高產(chǎn)品鍍層的附著力。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及一種真空機
    技術(shù)介紹
    在產(chǎn)品噴好底漆后,需要將產(chǎn)品放入真空機內(nèi)抽真空,達到真空后,金屬鍍材蒸 發(fā),金屬均勻的鍍于產(chǎn)品表面。但是在產(chǎn)品進入真空機時,產(chǎn)品在搬運時表面會粘上空氣中 的灰塵,在鍍膜后產(chǎn)品表面就會形成黑點,導(dǎo)致良品率下降,而且這樣鍍膜后,鍍膜的附著 力不穩(wěn)定,容易脫落。
    技術(shù)實現(xiàn)思路
    本專利技術(shù)的目的在于提供一種真空機,能夠有效解決現(xiàn)有產(chǎn)品在進入真空機時,表 面容易沾染灰塵,在鍍膜時產(chǎn)生黑點,鍍膜附著力不穩(wěn)定的問題。為了解決上述技術(shù)問題,本專利技術(shù)是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的一種真空機,包括真 空罩、蒸發(fā)電極和蒸發(fā)電流控制器,所述蒸發(fā)電極設(shè)置在真空罩內(nèi),所述蒸發(fā)電極還與真空 罩外的蒸發(fā)電流控制器相連,還包括離子發(fā)生器和離子發(fā)生控制器,所述離子發(fā)生器設(shè)置 在真空罩內(nèi),所述離子發(fā)生器與真空罩外部的離子發(fā)生控制器相連。優(yōu)選的,所述離子發(fā)生器為鋁棒;在通以高電壓低電流時能較好的產(chǎn)生離子風(fēng)。可選的,所述離子發(fā)生器為銅棒;可能達到和鋁棒同樣的效果。優(yōu)選的,所述真空罩上通過氣量控制閥連接氬氣罐。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本專利技術(shù)的優(yōu)點是在真空條件下,通過離子發(fā)生器產(chǎn)生離子風(fēng), 使產(chǎn)品表面的灰塵掉落,杜絕黑點,提高良品率,同時可以提高產(chǎn)品鍍層的附著力。附圖說明圖1為本專利技術(shù)一種真空機的結(jié)構(gòu)示意圖。 具體實施例方式參閱圖1為本專利技術(shù)一種真空機的實施例,一種真空機,包括真空罩1、蒸發(fā)電極2和 蒸發(fā)電流控制器3,所述蒸發(fā)電極2設(shè)置在真空罩1內(nèi),所述蒸發(fā)電極2還與真空罩1外的 蒸發(fā)電流控制器3相連,還包括離子發(fā)生器4和離子發(fā)生控制器5,所述離子發(fā)生器4設(shè)置 在真空罩1內(nèi),所述離子發(fā)生器4與真空罩1外部的離子發(fā)生控制器5相連,所述離子發(fā)生 器4為鋁棒;在通以高電壓低電流時能較好的產(chǎn)生離子風(fēng),所述真空罩1上通過氣量控制閥 6連接氬氣罐7。所述離子發(fā)生器4也可采用銅棒。利用高電壓低電流,使離子發(fā)生器4周圍形成 一個穩(wěn)定的高強電場,并形成離子風(fēng),離子風(fēng)可以清除產(chǎn)品表面的靜電及異物、塵埃。以上所述僅為本專利技術(shù)的具體實施例,但本專利技術(shù)的技術(shù)特征并不局限于此,任何本 領(lǐng)域的技術(shù)人員在本專利技術(shù)的領(lǐng)域內(nèi),所作的變化或修飾皆涵蓋在本專利技術(shù)的專利范圍之中。權(quán)利要求一種真空機,包括真空罩(1)、蒸發(fā)電極(2)和蒸發(fā)電流控制器(3),所述蒸發(fā)電極(2)設(shè)置在真空罩(1)內(nèi),所述蒸發(fā)電極(2)還與真空罩(1)外的蒸發(fā)電流控制器(3)相連,其特征在于還包括離子發(fā)生器(4)和離子發(fā)生控制器(5),所述離子發(fā)生器(4)設(shè)置在真空罩(1)內(nèi),所述離子發(fā)生器(4)與真空罩(1)外部的離子發(fā)生控制器(5)相連。2.如權(quán)利要求1所述的一種真空機,其特征在于所述離子發(fā)生器(4)為鋁棒。3.如權(quán)利要求1所述的一種真空機,其特征在于所述離子發(fā)生器(4)為銅棒。4.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的一種真空機,其特征在于所述真空罩(1)上通 過氣量控制閥(6)連接氬氣罐(7)。全文摘要本專利技術(shù)公開了一種真空機,能夠有效解決現(xiàn)有產(chǎn)品在進入真空機時,表面容易沾染灰塵,在鍍膜時產(chǎn)生黑點,鍍膜附著力不穩(wěn)定的問題。一種真空機,包括真空罩、蒸發(fā)電極和蒸發(fā)電流控制器,所述蒸發(fā)電極設(shè)置在真空罩內(nèi),所述蒸發(fā)電極還與真空罩外的蒸發(fā)電流控制器相連,還包括離子發(fā)生器和離子發(fā)生控制器,所述離子發(fā)生器設(shè)置在真空罩內(nèi),所述離子發(fā)生器與真空罩外部的離子發(fā)生控制器相連。本專利技術(shù)的優(yōu)點是在真空條件下,通過離子發(fā)生器產(chǎn)生離子風(fēng),使產(chǎn)品表面的灰塵掉落,杜絕黑點,提高良品率,同時可以提高產(chǎn)品鍍層的附著力。文檔編號C23C14/14GK101892454SQ201010186439公開日2010年11月24日 申請日期2010年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月31日專利技術(shù)者沈中良 申請人:平湖市東洋塑膠真空涂膜廠本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護點】
    一種真空機,包括真空罩(1)、蒸發(fā)電極(2)和蒸發(fā)電流控制器(3),所述蒸發(fā)電極(2)設(shè)置在真空罩(1)內(nèi),所述蒸發(fā)電極(2)還與真空罩(1)外的蒸發(fā)電流控制器(3)相連,其特征在于:還包括離子發(fā)生器(4)和離子發(fā)生控制器(5),所述離子發(fā)生器(4)設(shè)置在真空罩(1)內(nèi),所述離子發(fā)生器(4)與真空罩(1)外部的離子發(fā)生控制器(5)相連。

    【技術(shù)特征摘要】

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:沈中良
    申請(專利權(quán))人:平湖市東洋塑膠真空涂膜廠
    類型:發(fā)明
    國別省市:33[中國|浙江]

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