用于CVD鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具制造技術(shù)

本技術(shù)公開了一種用于CVD鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，包括：水槽，水槽的兩端分別設(shè)有進水通道和出水通道；載貨槽，載貨槽設(shè)于水槽內(nèi)，載貨槽包括底板、環(huán)繞底板設(shè)置的側(cè)圍、以及設(shè)于側(cè)圍的兩端的兩個定位板，載貨槽的上部開放設(shè)置，載貨槽的底板上開設(shè)有多個透水孔；其中，水槽的內(nèi)部的底面設(shè)有定位柱，定位柱貫穿定位板設(shè)置，定位板與定位柱可拆卸地固定連接。本技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)批量輻照，每一批鉆石之間不會產(chǎn)生色差，且輻照過程中的電子束利用率高。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

本技術(shù)涉及cvd鉆石電子束輻射改色的，尤其涉及一種用于cvd鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具。

技術(shù)介紹

1、現(xiàn)有cvd鉆石輻照是將鉆石樣品置于途中圓形銅罐中，電子束直射鉆石。銅罐置于水槽中間，電子束掃描窗正下方。圓形銅罐僅能容納單顆鉆石，無法實現(xiàn)批量輻照，只能進行多次輻照，而多次輻照過程中的，不同次的鉆石會產(chǎn)生色差，且輻照過程中的電子束利用率低。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、有鑒于此，本技術(shù)的目的在于提供一種用于cvd鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具。

2、為了實現(xiàn)上述目的，本技術(shù)采取的技術(shù)方案為：

3、一種用于cvd鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其中，包括：

4、水槽，所述水槽的兩端分別設(shè)有進水通道和出水通道；

5、載貨槽，所述載貨槽設(shè)于所述水槽內(nèi)，所述載貨槽包括底板、環(huán)繞所述底板設(shè)置的側(cè)圍、以及設(shè)于所述側(cè)圍的兩端的兩個定位板，所述載貨槽的上部開放設(shè)置，所述載貨槽的所述底板上開設(shè)有多個透水孔；

6、其中，所述水槽的內(nèi)部的底面設(shè)有定位柱，所述定位柱貫穿所述定位板設(shè)置，所述定位板與所述定位柱可拆卸地固定連接。

7、上述的用于cvd鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其中，所述載貨槽內(nèi)設(shè)有若干限位區(qū)，每一所述限位區(qū)均設(shè)有多個所述透水孔；

8、所述限位區(qū)通過所述透水孔與所述水槽連通。

9、上述的用于cvd鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其中，包括：

10、橫檔，所述橫檔設(shè)于所述載貨槽的所述底板上，所述橫檔的兩端與所述載貨槽的所述側(cè)圍相連接；

11、縱檔，所述縱檔設(shè)于所述載貨槽的所述底板上，所述縱檔的兩端與所述載貨槽的所述側(cè)圍相連接；

12、所述橫檔和所述縱檔交叉布置以形成所述限位區(qū)。

13、上述的用于cvd鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其中，所述橫檔的高度、所述縱檔的高度、以及所述載貨槽的所述側(cè)圍的高度相同。

14、上述的用于cvd鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其中，所述水槽的高度大于所述載貨槽的所述側(cè)圍的高度，以使所述水槽內(nèi)的冷卻液能夠浸沒所述載貨槽。

15、上述的用于cvd鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其中，所述定位板上開設(shè)有定位孔或定位槽，所述定位柱的尺寸與所述定位孔或所述定位槽相匹配。

16、上述的用于cvd鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其中，所述定位板與所述水槽的內(nèi)部的底板之間設(shè)有墊片。

17、上述的用于cvd鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其中，所述定位板的下表面與所述載貨槽的下表面齊平。

18、本技術(shù)由于采用了上述技術(shù)，使之與現(xiàn)有技術(shù)相比具有的積極效果是：

19、(1)本技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)批量輻照，每一批鉆石之間不會產(chǎn)生色差，且輻照過程中的電子束利用率高。

20、(2)本技術(shù)采用濕法輻照，確保鉆石溫度不會超過100℃。

21、(3)本技術(shù)的載貨槽的浸水高度可以根據(jù)鉆石的厚度調(diào)整，比較靈活。

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【技術(shù)保護點】

1.一種用于CVD鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于CVD鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其特征在于，所述載貨槽內(nèi)設(shè)有若干限位區(qū)，每一所述限位區(qū)均設(shè)有多個所述透水孔；

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于CVD鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其特征在于，包括：

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于CVD鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其特征在于，所述橫檔的高度、所述縱檔的高度、以及所述載貨槽的所述側(cè)圍的高度相同。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于CVD鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其特征在于，所述水槽的高度大于所述載貨槽的所述側(cè)圍的高度，以使所述水槽內(nèi)的冷卻液能夠浸沒所述載貨槽。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于CVD鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其特征在于，所述定位板上開設(shè)有定位孔或定位槽，所述定位柱的尺寸與所述定位孔或所述定位槽相匹配。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于CVD鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其特征在于，所述定位板與所述水槽的內(nèi)部的底板之間設(shè)有墊片。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于CVD鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其特征在于，所述定位板的下表面與所述載貨槽的下表面齊平。

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【技術(shù)特征摘要】

1.一種用于cvd鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于cvd鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其特征在于，所述載貨槽內(nèi)設(shè)有若干限位區(qū)，每一所述限位區(qū)均設(shè)有多個所述透水孔；

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于cvd鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其特征在于，包括：

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于cvd鉆石電子束輻射改色的水冷接觸式連續(xù)輻照載具，其特征在于，所述橫檔的高度、所述縱檔的高度、以及所述載貨槽的所述側(cè)圍的高度相同。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于cvd鉆石電子束輻射改色的水冷接...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：蘇春，孫雪原，葉爽，蔡夢平，黃敬松，張曉飛，陳興旺，
申請(專利權(quán))人：上海高鷹科技有限公司，
類型：新型
國別省市：