本發明專利技術涉及曝光裝置。本發明專利技術的目的在于提供一種即使是向比大型化方向的掩模更大的基板的曝光，也不會復制微細的點圖案的曝光裝置。曝光裝置具有：從下方向掩模架按壓掩模（１００）的掩模提升器（１０１）；用于調整掩模的位置的掩模推進器（１０２）；以及掩模架，具備在調整掩模的位置時，供給用于降低掩模和掩模架之間的摩擦阻力的氣體的開口部（１０３－１１）。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及利用大型掩模進行接近式曝光的曝光裝置。
技術介紹
關于具有掩模輸送機構和設定機構的接近式曝光裝置，公開于例如專利文獻1和 2。專利文獻1 日本特開2006-86332號公報專利文獻2 日本特開平6-267816號公報圖7表示進行接近式曝光的曝光裝置。本裝置具有兩個曝光用載物臺，具有放置 于各載物臺上的基板交替地被曝光的結構。對利用本裝置進行曝光時的曝光用基板在裝置 內的移動和曝光的次序進行說明。此外，符號215表示曝光用基板在接近式曝光裝置和輸 送線之間的出入。圖8是表示曝光用基板在曝光裝置內移動的次序的流程圖。首先，曝光用基板220 由輸送線210輸送過來后，利用L輸送用機械手204-1從輸送線210輸送到溫度調節板(調 溫板)206 (S801)。接著，前面的曝光用基板從L載物臺203-1移出到輸送線210后，曝光用 基板220從調溫板206輸送到L載物臺203-1 (S802)。接下來，放置于R載物臺203-2上的前面的曝光用基板的曝光結束，R載物臺 203-2從掩模設置部207的下面移動后，放置有曝光用基板220的L載物臺203-1向掩模 設置部207的下面移動(S803)。符號204-2是R輸送用機械手。接著，利用從光源205引 出的紫外線光對基板220進行曝光(S804)。之后，從掩模設置部207的下面移動L載物臺 203-1 (S805)。在此之后，將基板220輸送到輸送線210，結束曝光處理。下面，使用圖9說明曝光用基板220從被輸送到掩模設置部207的下部直至被曝 光的次序。若基板220移動到掩模設置部207的下面，則設定調整間隔用攝像機和定位攝 像機(S901)。接著，使用掩模側高度方向(ζ方向)的驅動機構進行調整，以便利用調整間 隔用攝像機使掩模與基板220之間的間隔成為150 300 μ m。接下來，取得基板220和掩模的定位(S903)。利用圖5A、圖5B說明該定位的情況。 圖5A是掩模的概略俯視圖，圖5B是用于說明掩模和基板定位的情況的掩模安裝部的概略 剖視圖。調整L載物臺203-1的位置(χ方向，y方向，θ方向)，使設置于掩模100的曝光 區域140的四角上的定位標記141和設置于基板220上的定位標記142進入定位用攝像機 150的視野內，該定位用攝像機150是移動到基準位置并被設定的。符號145是圖案區域。 并且，掩模100利用設在掩模架104上的掩模專用吸附孔103-2吸附在掩模架104上。然后，從曝光區域轉移調整間隔用攝像機和定位用攝像機(S904)，進行曝光 (S905)。曝光利用從光源205引出的亮度為50mW/cm2(平方厘米)左右的紫外線(UV)進 行幾秒鐘。基板220具有例如四個曝光區域的場合，并且，為了對基板200的其他三個所定 區域進行曝光，移動L載物臺203-1，進行剩下的3次曝光，結束曝光處理。此外，不言而喻， 曝光次數根據基板的大小(曝光區域的數量)而改變。如上所述，從利用曝光裝置200對基板220進行曝光的結果可以看出，在基板表面 上，除了所定圖案以外，還熱粘有微細的點圖案。雖然在現狀中的圖案不存在問題，但是在 圖案尺寸微細化的場合會成為問題。在專利文獻1中，公開了接近式曝光裝置的掩模輸送裝置，該裝置即使使用大型 尺寸的基板，掩模支撐機構也不會變成大型，能夠實現小型化。但是，沒有關于上述微細點 圖案的指教和暗示。在專利文獻2中記載了將掩模配置于掩模架上，利用從下方保持掩模 的技術，不損傷掩模，防止產生微粒，以簡單的結構進行掩模的對位。但是，在專利文獻2 中，在基板比掩模大的場合，無法使基板和掩模之間的距離接近到掩模支撐部件的厚度以 上，因此難以進行接近式曝光。
技術實現思路
本專利技術的目的在于提供一種進行接近式曝光的曝光裝置，即使向比大型化方向的 掩模更大的基板的曝光，也不會謄寫微細的點圖案。作為用于實現上述目的的一個方式的曝光裝置，進行接近式曝光，具有具備掩模 吸附孔的掩模架；從下方向所述掩模架按壓掩模的掩模提升器；用于進行所述掩模的位置 調整的掩模推進器；以及用于放置復制有在所述掩模上形成的圖案的基板的載物臺，其特 征在于，還具有開口部，該開口部設置于所述掩模架上，在調整所述掩模的位置時，供給用 于降低所述掩模和所述掩模架之間的摩擦阻力的氣體。而且，進行接近式曝光的曝光裝置，具備溫度調節板；放置曝光用基板的曝光用 載物臺；輸送機械手，將所述曝光用基板從輸送線輸送到所述溫度調節板，或從所述溫度調 節板輸送到所述曝光用載物臺，或將所述基板從所述曝光用載物臺輸送到所述輸送線；掩 模設置部，設定形成有復制到放置于所述曝光用載物臺上的所述基板的圖案的掩模；以及 用于對所述掩模進行曝光的光源，其特征在于，所述掩模設置部具有從下方向所述掩模架 按壓掩模的掩模提升器；用于進行所述掩模的位置調整的掩模推進器；以及掩模架，具備 吸附所述掩模的掩模吸附孔、以及在調整所述掩模的位置時供給用于降低所述掩模和所述 掩模架之間的摩擦阻力的氣體的開口部。本專利技術的效果如下。能夠提供即使是向比掩模更大的基板的曝光，也不會復制微細的點圖案的進行接 近式曝光的曝光裝置，附圖說明圖IA是第一實施例的曝光裝置的掩模安裝部的概略俯視圖。圖IB是圖IA的沿YY線的概略剖視圖。圖2A是用于說明第一實施例的曝光裝置的掩模的安裝次序的掩模安裝部的概略 剖視圖。圖2B是用于說明第一實施例的曝光裝置的掩模的安裝次序的掩模安裝部的概略 剖視圖。圖2C是用于說明第一實施例的曝光裝置的掩模的安裝次序的掩模安裝部的概略 剖視圖。圖3是用于說明第一實施例的曝光裝置中調整掩模位置時的掩模與掩模架的位 置關系的掩模安裝部的主要部分的概略剖視圖。圖4是用于說明調整掩模的安裝位置的形式的掩模安裝部的概略剖視圖。圖5A是掩模的概略俯視圖。圖5B是用于說明掩模和基板定位的形式的掩模安裝部的概略剖視圖。圖6A是用于說明用掩模架支撐掩模的次序的掩模安裝部的概略剖視圖。圖6B是用于說明用掩模架支撐掩模的次序的掩模安裝部的概略剖視圖。圖6C是用于說明用掩模架支撐掩模的次序的掩模安裝部的概略剖視圖。圖6D是用于說明用掩模架支撐掩模的次序的掩模安裝部的概略剖視圖。圖7是表示曝光裝置的結構的概略俯視圖。圖8是表示曝光用基板在曝光裝置內移動的次序的流程圖。圖9是表示曝光用基板從被輸送到掩模的下部直到被曝光的次序的流程圖。圖中100. · ·掩模，101. · ·掩模提升器，101-1. · ·墊，102. · ·掩模推進器，103-1. · ·掩 模吸附兼送風孔，103-11...送風兼吸附槽，103-2...掩模吸附專用孔，103-22...吸附專 用槽，104...掩模架，110...掩模提升器的移動方向，120...根據掩模推進器的移動的掩 模位置的調整，130-1...送風，130-2...掩模吸附，135...加壓空氣層，140...曝光區域， 141...定位標志，145...圖案區域，150...定為用攝像機，200...曝光裝置，201...掩 模儲料器，202...掩模輸送用機械手，203-1... L載物臺(左側)，203-2... R載物臺(右 側)，204-1. · · L輸送用機械手，本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種曝光裝置，進行接近式曝光，具有：具備掩模吸附孔的掩模架；從下方向所述掩模架按壓掩模的掩模提升器；用于進行所述掩模的位置調整的掩模推進器；以及用于放置復制有在所述掩模上形成的圖案的基板的載物臺，其特征在于，還具有開口部，該開口部設置于所述掩模架上，在調整所述掩模的位置時，供給用于降低所述掩模和所述掩模架之間的摩擦阻力的氣體。
【技術特征摘要】
...
【專利技術屬性】
技術研發人員：神田宏幸，中野和幸，關一政，
申請(專利權)人：株式會社日立高新技術，
類型：發明
國別省市：JP[日本]
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