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    相位差板、含有相位差板的顯示裝置和相位差板的制造方法制造方法及圖紙

    技術(shù)編號:4035743 閱讀:386 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
    本發(fā)明專利技術(shù)涉及相位差板、含有相位差板的顯示裝置和相位差板的制造方法。本發(fā)明專利技術(shù)的相位差板具有多個延遲軸方向不同的區(qū)域,在全部區(qū)域中,對波長λ(nm)的光的雙折射率Δn(λ)滿足式(1)和式(2)。Δn(450)/Δn(550)≤1.00????(1),1.00≤Δn(650)/Δn(550)(2)。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及。
    技術(shù)介紹
    在日本特開2005-49865號公報中記載了具有延遲軸方向不同的多個區(qū)域的相位 差板。然而,對于相位差板的光學(xué)特性并沒有任何記載。
    技術(shù)實現(xiàn)思路
    本專利技術(shù)提供如下方案等。<1> 一種相位差板,具有多個延遲軸方向不同的區(qū)域,在任意區(qū)域中,對波長 λ (nm)的光的雙折射率Δη(λ)滿足式⑴和式(2)。Δη(450)/Δη(550) ^ 1. 00 (1)1. 00 彡 Δη(650)/Δη(550) (2)<2>如<1>所述的相位差板,其中,相位差板是將含有式(A)所示基團和至少一個 聚合性基團的化合物聚合而得到的相位差板。-G1-D1-Ar-D2-G2-(A)(式中,Ar表示具有選自芳香族烴環(huán)和芳香族雜環(huán)中的至少一個芳香環(huán)的二價基 團,該二價基團中所含的芳香環(huán)的η電子的合計數(shù)為12以上。D1和D2各自獨立地表示 單鍵、-C0-0-、-0-C0-、-C ( = S)-0-、-0-C( = S) -CR1R2-, -CR1R2-CR3R4-, -O-CR1R2-, -CR1R 2-0-、-CR1R2-O-CR3R4-^-CRiR2-O-CO-, -O-CO-CR1R2-、-CR1R2-O-CO-CR3R4-、-CR1R2-CO-O-CR3R4-^-N R1-CR2R3-, -CR2R3-NR1-, -CO-NR1-或 NR1-CO-, R1、R2、R3 和 R4 各自獨立地表示氫原子、氟原子 或碳原子數(shù)1 4的烷基。G1和G2各自獨立地表示二價脂環(huán)式烴基,該脂環(huán)式烴基可以具 有選自鹵素原子、碳原子數(shù)1 4的烷基、碳原子數(shù)1 4的氟代烷基、碳原子數(shù)1 4的 烷氧基、氰基和硝基中的1個以上的取代基,構(gòu)成該脂環(huán)式烴基的1個以上的亞甲基可以被 置換成-0-、-S-或-NH-。)<3>如<2>所述的相位差板,其中,含有式(A)所示基團和至少一個聚合性基團的 化合物是用式(D)表示的化合物。權(quán)利要求一種相位差板,具有多個延遲軸方向不同的區(qū)域,在任意區(qū)域中,對單位為nm的波長λ的光的雙折射率Δn(λ)滿足式(1)和式(2),Δn(450)/Δn(550)≤1.00(1)1.00≤Δn(650)/Δn(550)(2)。2.如權(quán)利要求1所述的相位差板,其中,相位差板是將含有式(A)所示基團和至少一個 聚合性基團的化合物聚合而得到的相位差板,-G1-D1-Ar-D2-G2- (A)式中,Ar表示具有選自芳香族烴環(huán)和芳香族雜環(huán)中的至少一個芳香環(huán)的二價基團,該 二價基團中所含的芳香環(huán)的η電子的合計數(shù)為12以上,D1和D2各自獨立地表示單 鍵、-C0-0-、-0-C0-、-C ( = S)-0-、-0-C( = S) -CR1R2-, -CR1R2-CR3R4-, -O-CR1R2-, -CR1R2-O -,-CR1R2-O-CR3R4-^-CRiR2-O-CO-, -O-CO-CR1R2-, -CR1R2-O-CO-CR3R4-, -CR1R2-CO-O-CR3R4-, -NR1-CR2R3-, -CR2R3-NR1-, -CO-NR1-或NR1-CO-, R1、R2、R3和R4各自獨立地表示氫原子、氟原子或 碳原子數(shù)1 4的烷基,G1和G2各自獨立地表示二價脂環(huán)式烴基,該脂環(huán)式烴基能夠具有 選自鹵素原子、碳原子數(shù)1 4的烷基、碳原子數(shù)1 4的氟代烷基、碳原子數(shù)1 4的烷 氧基、氰基和硝基中的1個以上的取代基,構(gòu)成該脂環(huán)式烴基的1個以上的亞甲基可以被置 換成-0-、-S-或-NH-。3.如權(quán)利要求2所述的相位差板,其中,含有式(A)所示基團和至少一個聚合性基團的 化合物是用式(D)表示的化合物,P1—F1-^-B1-A1^-E1-G1—D1-Ar—D2—G2—E2-(A2—B2)j-F2—P2 (D)式中,AinD^D2W1和G2表示與權(quán)利要求1中定義相同的意思,E1和E2各自獨立地表示 -CR5R6、-CH2-CH2-、-0-、-S-、-C0-0-、-0-C0-、-0-C0-0-、-C ( = S)-0-、-0_C( = S)-,-O-C (= S) -0-、-CO-NR5-、-NR5-CO-、-O-CH2-、-CH2-O-、-S-CH2-、-CH2-S-或單鍵,R5 和 R6 各自獨立地 表示氫原子、氟原子或碳原子數(shù)1 4的烷基,B1和B2各自獨立地表示-CR5R6-、-CH2-CH2-、 -O-、-S-、-C0-0-、-0-C0-、-0-C0-0-、-C( = S)-0-、-0-C( = S)-,-O-C( = S)-ο-、-CO-NR5-、 -NR5-CO-、-O-CH2-、-CH2-O-、-S-CH2-、-CH2-S-或單鍵,R5 和 R6 表示與上述相同的意思,A1和A2各自獨立地表示二價脂環(huán)式烴基或二價芳香族烴基,該二價脂環(huán)式烴基和二價 芳香族烴基能夠具有選自鹵素原子、碳原子數(shù)1 4的烷基、碳原子數(shù)1 4的氟代烷基、 碳原子數(shù)1 4的烷氧基、碳原子數(shù)1 4的氟代烷氧基、氰基和硝基中的1個以上的取代 基,k和1各自獨立地表示0 3的整數(shù),F(xiàn)1和F2各自獨立地表示碳原子數(shù)1 12的亞烷基,該亞烷基能夠具有選自碳原子數(shù) 1 5的烷基、碳原子數(shù)1 5的烷氧基和鹵素原子中的1個以上的取代基,該亞烷基所含 的-CH2-可以用-0-或-CO-置換,P1和P2各自獨立地表示氫原子或聚合性基團,其中P1和P2中的至少一個是聚合性基團。4.如權(quán)利要求3所述的相位差板,其中,用式(D)表示的化合物是滿足式(3)和式(4) 的化合物,(Νπ-4)/3 < k+1+4 (3) 12 ^ Νπ ^ 22(4)。5.如權(quán)利要求2或3所述的相位差板,其中,Ar是式(Ar-6)所示的基團,6.如權(quán)利要求2或3所述的相位差板,其中,G1和G2為環(huán)己烷-1,4-二基。7.如權(quán)利要求3所述的相位差板,其中,A1和A2各自獨立地為1,4_亞苯基或環(huán)己烷-1,4-二基。8.如權(quán)利要求3所述的相位差板,其中,僅與A1結(jié)合的B1和僅與A2結(jié)合的B2各自獨 立地為-CH2-CH2-、-C0-0-, -0-C0-, -CO-NH-, -NH-CO-, -O-CH2-, -CH2-O-或單鍵,與F1結(jié)合的B1和與F2結(jié)合的B2各自獨立地為-0-、-C0-0-、-0-C0-、-0-C0-0-、-CO-NH -、-NH-CO-或單鍵。9.如權(quán)利要求3所述的相位差板,其中,P1和P2各自獨立地為氫原子、丙烯酰氧基或甲 基丙烯酰氧基,并且P1和P2不同時為氫原子。10.一種半透射型液晶顯示裝置,含有權(quán)利要求1所述的相位差板。11.一種3D顯示裝置,含有權(quán)利要求1所述的相位差板。12.一種相位差板的制造方法,所述相位差板具有多個延遲軸方向不同的區(qū)域,在全部 區(qū)域中,對單位為nm的波長λ的光的雙折射率Δη(λ)滿足式⑴和式(2),Δη(450)/Δη(550) ^ 1. 00 (1) 1. 00 彡 Δη(650)/Δη(550) (2) 所述制造方法包括下述(10) (12)的工序(10)在基材上形成取向膜的工序,(11)對取向膜賦予取向能力,以使得其具有多個取向方向不同的區(qū)域本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護點】
    一種相位差板,具有多個延遲軸方向不同的區(qū)域,在任意區(qū)域中,對單位為nm的波長λ的光的雙折射率Δn(λ)滿足式(1)和式(2),Δn(450)/Δn(550)≤1.00 (1)1.00≤Δn(650)/Δn(550) (2)。

    【技術(shù)特征摘要】
    ...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:落合鋼志郎佐瀨光敬
    申請(專利權(quán))人:住友化學(xué)株式會社
    類型:發(fā)明
    國別省市:JP[日本]

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