【技術實現步驟摘要】
本申請涉及真空鍍膜，特別是涉及一種用于真空鍍膜的加熱裝置及真空鍍膜設備。
技術介紹
1、真空鍍膜是一種表面處理技術，通過在真空腔體內將鍍膜材料以原子或分子的形式沉積在基底材料表面而形成一層薄膜的技術叫做真空鍍膜，通過在基底材料表面進行真空鍍膜，能夠改善基底材料的表面性能，從而滿足特定需求。
2、在真空腔體內進行鍍膜時，需要通過加熱器對真空腔體內進行加熱以促進鍍膜材料的蒸發或濺射，然而，傳統技術中，加熱器存在加熱效率低的問題，進而影響真空鍍膜的質量和速度。
技術實現思路
1、基于此，有必要針對用于真空鍍膜的加熱器的加熱效率低從而影響真空鍍膜的質量和速度的問題，提供一種用于真空鍍膜的加熱裝置及真空鍍膜設備。
2、其技術方案如下：
3、一個實施例提供了一種用于真空鍍膜的加熱裝置，包括：
4、加熱機構，所述加熱機構包括第一加熱管和第二加熱管，所述第一加熱管包括第一輸入管段、第一發熱管段以及第一輸出管段，所述第一輸入管段設于所述第一發熱管段的一端，所述第一輸出管段設于所述第一發熱管段的另一端，所述第一發熱管段盤繞設置，所述第二加熱管包括第二輸入管段、第二發熱管段以及第二輸出管段，所述第二輸入管段設于所述第二發熱管段的一端，所述第二輸出管段設于所述第二發熱管段的另一端，所述第二發熱管段盤繞設置，所述第一輸入管段和所述第二輸入管段均用于與電源正極電連接，所述第一輸出管段和所述第二輸出管段均用于與電源負極電連接，所述第一發熱管段的軸線位于第一平面內，
5、上述用于真空鍍膜的加熱裝置，第一發熱管段通過第一輸入管段和第一輸出管段分別與電源的正極和負極電連接，從而將電能轉化為熱能，第二發熱管段通過第二輸入管段和第二輸出管段分別與電源的正極和負極電連接，從而將電能轉化為熱能，第一發熱管段和第二發熱管段均盤繞設置，不僅使其結構更加緊湊，還能夠使加熱效果更加均勻；通過設置第一發熱管段的軸線和第二發熱管段的軸線分別位于第一平面和第二平面，使加熱裝置在結構更加緊湊的同時實現多個熱源的同時加熱，從而提供更大的加熱功率，加快加熱過程；與傳統技術相比，上述用于真空鍍膜的加熱裝置擁有更加均勻的加熱效果以及更高的加熱效率，從而提高了真空鍍膜的質量和速度。
6、下面對技術方案進行進一步說明：
7、在其中一個實施例中，所述第一發熱管段與所述第二發熱管段在第一方向上至少部分錯位設置，所述第一方向與所述第一平面平行。
8、在其中一個實施例中，所述加熱機構還包括加熱板，所述加熱板包括主體部，所述主體部與所述第一平面平行，所述第一發熱管段和所述第二發熱管段均位于所述主體部的同一側，所述第一輸入管段、所述第一輸出管段、所述第二輸入管段以及所述第二輸出管段均穿設于所述主體部。
9、在其中一個實施例中，所述用于真空鍍膜的加熱裝置還包括保持機構，所述保持機構包括第一保持架，所述第一保持架設于所述主體部，所述第一保持架開設有第一固定孔和第二固定孔，所述第一發熱管段穿設于所述第一固定孔，所述第二發熱管段穿設于所述第二固定孔。
10、在其中一個實施例中，所述保持機構還包括第二保持架，所述第二保持架設于所述第一保持架，所述第二保持架開設有第三固定孔和第四固定孔，所述第一發熱管段穿設于所述第三固定孔，所述第二發熱管段穿設于所述第四固定孔，所述第一固定孔的軸線和所述第二固定孔的軸線均與第二方向平行，所述第三固定孔的軸線和所述第四固定孔的軸線均與第三方向平行，所述第二方向和所述第三方向均平行于所述第一平面，且所述第二方向垂直于所述第三方向。
11、在其中一個實施例中，所述第一保持架包括第一裝配板，所述第一裝配板設于所述主體部，所述第一裝配板的一側沿第四方向彎折以形成第一彎折部，所述第一裝配板的另一側沿所述第四方向彎折以形成第二彎折部，所述第一彎折部開設有所述第一固定孔和所述第二固定孔，所述第二彎折部開設有所述第一固定孔和所述第二固定孔；
12、所述第二保持架包括第二裝配板，所述第二裝配板設于所述第一裝配板，所述第二裝配板的一側沿所述第四方向彎折以形成第三彎折部，所述第二裝配板的另一側沿所述第四方向彎折以形成第四彎折部，所述第三彎折部開設有所述第三固定孔和所述第四固定孔，所述第四彎折部開設有所述第三固定孔和所述第四固定孔，所述第四方向為所述第一裝配板朝向所述主體部的方向。
13、在其中一個實施例中，所述第一保持架還包括連接件，所述連接件設于所述第一裝配板，所述第二裝配板通過所述連接件與所述第一裝配板連接。
14、在其中一個實施例中，所述連接件包括延伸部，所述延伸部設于所述第一裝配板并朝所述第二方向延伸設置，所述第二裝配板與所述延伸部連接。
15、在其中一個實施例中，所述加熱板還包括圍欄，所述圍欄沿所述主體部的周向設置并朝第五方向延伸，所述第五方向為所述主體部朝向所述第一發熱管段的方向；
16、或/和，所述用于真空鍍膜的加熱裝置還包括接線柱，所述接線柱位于所述主體部遠離所述第一發熱管段的一側，所述第一輸入管段、所述第二輸入管段、所述第一輸出管段以及所述第二輸出管段均與所述接線柱電連接。
17、另一個實施例提供了一種真空鍍膜設備，包括如上述任一實施例所述的用于真空鍍膜的加熱裝置。
18、上述真空鍍膜設備，采用上述任一實施例所述的用于真空鍍膜的加熱裝置對真空腔體進行加熱，第一發熱管段通過第一輸入管段和第一輸出管段分別與電源的正極和負極電連接，從而將電能轉化為熱能，第二發熱管段通過第二輸入管段和第二輸出管段分別與電源的正極和負極電連接，從而將電能轉化為熱能，第一發熱管段和第二發熱管段均盤繞設置，不僅使其結構更加緊湊，還能夠使加熱效果更加均勻；通過設置第一發熱管段的軸線和第二發熱管段的軸線分別位于第一平面和第二平面，使加熱裝置在結構更加緊湊的同時實現多個熱源的同時加熱，從而提供更大的加熱功率，加快加熱過程；與傳統技術相比，上述用于真空鍍膜的加熱裝置擁有更加均勻的加熱效果以及更高的加熱效率，從而提高了真空鍍膜的質量和速度。
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1.一種用于真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的用于真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于，所述第一發熱管段與所述第二發熱管段在第一方向上至少部分錯位設置，所述第一方向與所述第一平面平行。
3.根據權利要求1所述的用于真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于，所述加熱機構還包括加熱板，所述加熱板包括主體部，所述主體部與所述第一平面平行，所述第一發熱管段和所述第二發熱管段均位于所述主體部的同一側，所述第一輸入管段、所述第一輸出管段、所述第二輸入管段以及所述第二輸出管段均穿設于所述主體部。
4.根據權利要求3所述的用于真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于，所述用于真空鍍膜的加熱裝置還包括保持機構，所述保持機構包括第一保持架，所述第一保持架設于所述主體部，所述第一保持架開設有第一固定孔和第二固定孔，所述第一發熱管段穿設于所述第一固定孔，所述第二發熱管段穿設于所述第二固定孔。
5.根據權利要求4所述的用于真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于，所述保持機構還包括第二保持架，所述第二保持架設于所述第一保持架，所述第二保持架開設有第三固定孔和第四固
6.根據權利要求5所述的用于真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于，所述第一保持架包括第一裝配板，所述第一裝配板設于所述主體部，所述第一裝配板的一側沿第四方向彎折以形成第一彎折部，所述第一裝配板的另一側沿所述第四方向彎折以形成第二彎折部，所述第一彎折部開設有所述第一固定孔和所述第二固定孔，所述第二彎折部開設有所述第一固定孔和所述第二固定孔；
7.根據權利要求6所述的用于真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于，所述第一保持架還包括連接件，所述連接件設于所述第一裝配板，所述第二裝配板通過所述連接件與所述第一裝配板連接。
8.根據權利要求7所述的用于真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于，所述連接件包括延伸部，所述延伸部設于所述第一裝配板并朝所述第二方向延伸設置，所述第二裝配板與所述延伸部連接。
9.根據權利要求3-8任一項所述的用于真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于，所述加熱板還包括圍欄，所述圍欄沿所述主體部的周向設置并朝第五方向延伸，所述第五方向為所述主體部朝向所述第一發熱管段的方向；
10.一種真空鍍膜設備，其特征在于，所述真空鍍膜設備包括如權利要求1-9任一項所述的用于真空鍍膜的加熱裝置。
...【技術特征摘要】
1.一種用于真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的用于真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于，所述第一發熱管段與所述第二發熱管段在第一方向上至少部分錯位設置，所述第一方向與所述第一平面平行。
3.根據權利要求1所述的用于真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于，所述加熱機構還包括加熱板，所述加熱板包括主體部，所述主體部與所述第一平面平行，所述第一發熱管段和所述第二發熱管段均位于所述主體部的同一側，所述第一輸入管段、所述第一輸出管段、所述第二輸入管段以及所述第二輸出管段均穿設于所述主體部。
4.根據權利要求3所述的用于真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于，所述用于真空鍍膜的加熱裝置還包括保持機構，所述保持機構包括第一保持架，所述第一保持架設于所述主體部，所述第一保持架開設有第一固定孔和第二固定孔，所述第一發熱管段穿設于所述第一固定孔，所述第二發熱管段穿設于所述第二固定孔。
5.根據權利要求4所述的用于真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于，所述保持機構還包括第二保持架，所述第二保持架設于所述第一保持架，所述第二保持架開設有第三固定孔和第四固定孔，所述第一發熱管段穿設于所述第三固定孔，所述第二發熱管段穿設于所述第四固定孔，所述第一固定孔的軸線和所述第二固定孔的軸線均與第二方向平行，所述第三固定孔的軸線和所...
【專利技術屬性】
技術研發人員：楊愷，林海天，岑紅師，李立升，
申請(專利權)人：廣東華升納米科技股份有限公司，
類型：新型
國別省市：
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