與外涂光刻膠一起使用的涂料組合物制造技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)提供了一種與外涂光刻膠一起使用的涂料組合物，其中該涂料組合物包含一種包含氰尿酸酯基團(tuán)和疏水性基團(tuán)的樹脂。所述涂料組合物可以增強(qiáng)外涂光刻膠浮雕像的分辨率。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本申請(qǐng)要求于2009年5月20日提交的在35U. S. C. § 119 (e)下的美國臨時(shí)申請(qǐng) No. 61/216, 795的優(yōu)先權(quán)，該申請(qǐng)的內(nèi)容全部被引入本專利技術(shù)作為參考。本專利技術(shù)涉及氰尿酸酯樹脂，它特別適用于作為在外涂光刻膠下層的涂料組合物的 組分。
技術(shù)介紹
光刻膠是用于將圖像轉(zhuǎn)移到基材上的感光膜。在基材上形成光刻膠涂層，然后經(jīng) 光掩模將所述光刻膠層在活化射線源曝光。所述光掩模具有對(duì)活化射線不透明的區(qū)域和透 明的其它區(qū)域。活化射線曝光使得光刻膠涂層發(fā)生光致轉(zhuǎn)變或化學(xué)轉(zhuǎn)變，從而將光掩模的 圖案轉(zhuǎn)移到所述光刻膠涂覆的基材上。曝光后，將光刻膠顯影以提供一種允許對(duì)基材進(jìn)行 選擇性加工的浮雕圖像。光刻膠主要用于半導(dǎo)體制造業(yè)，目的是將高度拋光的半導(dǎo)體片如硅或砷化鎵，轉(zhuǎn) 化成起電路作用的電子傳導(dǎo)路線的復(fù)合物基體。適當(dāng)?shù)墓饪坦に囀沁_(dá)到這一目的關(guān)鍵。雖 然各種光刻工藝步驟之間存在很強(qiáng)的相關(guān)性，曝光被認(rèn)為是獲得高分辨率光刻膠圖像的最 重要的步驟之一。用于曝光光刻膠的活化射線的反射常常會(huì)使光刻膠層上的成像的分辨率受到限 制。來自基材/光刻膠界面的輻射反射會(huì)使光刻膠中的輻射強(qiáng)度產(chǎn)生空間改變，導(dǎo)致在顯 影時(shí)產(chǎn)生不均勻的光刻膠線寬。另外，射線還會(huì)由基材/光刻膠界面散射到光刻膠的非預(yù) 定曝光區(qū)域，從而再次產(chǎn)生線寬改變。已經(jīng)使用的降低射線反射問題的一個(gè)途徑是在基材表面和光刻膠涂層之間插入 射線吸收層。參見美國專利7425403。電子設(shè)備制造業(yè)不斷尋求各種減反射涂層來提高光刻膠成像的分辨率。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
在一個(gè)方面，我們提供了新的樹脂，其包含(i)包含氰尿酸酯型基團(tuán)的重復(fù)單元； (ii)包含疏水性基團(tuán)(如羥基-多元醇(例如二醇)、醚和它們的組合)的重復(fù)單元。我們發(fā)現(xiàn)在外涂光刻膠層的堿水顯影期間，下層減反射組合物傾向于發(fā)生不希望 的從基材表面的“翹起”。這種翹起會(huì)嚴(yán)重?fù)p害外涂光刻膠層中的成像的分辨率。我們現(xiàn)在意外地發(fā)現(xiàn)，在下層減反射組合物的氰尿酸酯樹脂中引入疏水性基團(tuán)可 以顯著增強(qiáng)外涂光刻膠層的分辨率，包括減少不希望的減反射層翹起。可以通過各種方法將這種疏水性物質(zhì)賦予樹脂。例如，疏水性基團(tuán)可以接枝到預(yù) 形成的樹脂上。包含一個(gè)或多個(gè)疏水性基團(tuán)的化合物也可以與其它化合物如包含氰尿酸酯 官能團(tuán)的反應(yīng)性單體共聚來形成本專利技術(shù)的樹脂。在一個(gè)優(yōu)選方面，本專利技術(shù)的樹脂包含氰尿酸酯單元，所述氰尿酸酯單元的多個(gè)氰 尿酸酯氮環(huán)原子被特定的(不同的)羧基(例如-C00H)和/或羧基酯(例如C00R，其中R不是氧，例如Ci_12烷基)取代。在該方面，特別優(yōu)選的本專利技術(shù)樹脂通過如下式I的化合物反應(yīng)提供權(quán)利要求一種與外涂光刻膠一起使用的涂料組合物，該涂料組合物包含一種包含氰尿酸酯基團(tuán)和疏水性基團(tuán)的樹脂。2.如權(quán)利要求1所述的涂料組合物，其中疏水性基團(tuán)選自羥基和醚。3.如權(quán)利要求1所述的涂料組合物，其中所述樹脂由包含氰尿酸酯化合物的反應(yīng)物制 得，所述氰尿酸酯化合物的多個(gè)氰尿酸酯氮環(huán)原子被不同的羧基和/或羧基酯基取代。4.如權(quán)利要求3所述的涂料組合物，其中所述氰尿酸酯化合物對(duì)應(yīng)于下列式I:5.如權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的涂料組合物，其中所述樹脂包含共價(jià)鍵鏈接的交聯(lián)劑基團(tuán)。6.如權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的涂料組合物，其中所述樹脂包含聚酯鍵。7.一種涂敷的基材，所述基材包含權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的減反射組合物層； 在所述涂料組合物層之上的光刻膠層。8.一種形成光刻膠浮雕像的方法，所述方法包括在基材上涂覆權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的減反射涂料組合物； 在上述涂料組合物層上涂覆光刻膠組合物；和 曝光和顯影所述光刻膠層，從而制得光刻膠浮雕像。9.如權(quán)利要求9所述的方法，其中所述減反射組合物在涂覆所述光刻膠組合物之前交全文摘要本專利技術(shù)提供了一種與外涂光刻膠一起使用的涂料組合物，其中該涂料組合物包含一種包含氰尿酸酯基團(tuán)和疏水性基團(tuán)的樹脂。所述涂料組合物可以增強(qiáng)外涂光刻膠浮雕像的分辨率。文檔編號(hào)G03F7/09GK101935492SQ201010233728公開日2011年1月5日 申請(qǐng)日期2010年5月20日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月20日專利技術(shù)者A·贊皮尼, G·B·韋頓, O·昂格伊, S·克雷, V·簡恩, 劉驄 申請(qǐng)人:羅門哈斯電子材料有限公司本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種與外涂光刻膠一起使用的涂料組合物，該涂料組合物包含一種包含氰尿酸酯基團(tuán)和疏水性基團(tuán)的樹脂。

【技術(shù)特征摘要】
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【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：A贊皮尼，GB韋頓，V簡恩，劉驄，S克雷，O昂格伊，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：羅門哈斯電子材料有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：US[美國]