【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及半導體設備制造領域，尤其涉及一種耐高溫石英保護罩的加工方法。
技術介紹
1、石英保護罩，常規可在1200℃左右使用，分透明和不透明兩種，是發展大規模集成電路必不可少的基礎材料，具有高純度、耐溫性強、尺寸大精度高、保溫性好、節約能源、質量穩定等優點，應用越來越廣泛。
2、石英保護罩的原料包括石英砂，石英砂是一種硬度較高的材料，具有較好的耐磨性和耐高溫性，因此在高溫環境下能夠較好地充當高溫保護罩的材料，然而，在長時間使用過程中，石英砂可能會受到高溫氧化、熱疲勞等復雜應力的作用，導致其表面逐漸磨損和破壞，最終可能會掉渣，此外，如果石英保護罩在制造過程中存在缺陷或質量問題，如砂粒不均勻、粘結劑不當等，也可能會導致其在使用過程中出現掉渣現象。
技術實現思路
1、本專利技術主要提供了一種耐高溫石英保護罩的加工方法，用以解決上述
技術介紹
中提出的保護罩易掉渣等技術問題。
2、本專利技術解決上述技術問題采用的技術方案為：
3、一種耐高溫石英保護罩的加工方法，所述加工方法包括：對石英保護罩進行噴砂；對所述石英保護罩進行清洗；使用溶劑對所述石英保護罩進行涂層以避免石英砂碎末掉落。
4、優選的，對所述石英保護罩進行噴砂步驟中包括在所述石英保護罩的內壁上噴砂。
5、優選的，對所述石英保護罩進行噴砂步驟中還包括所述在石英保護罩的外壁上噴砂。
6、優選的，對所述石英保護罩進行噴砂步驟中噴砂的原料包括石英砂。
7、優
8、優選的，使用溶劑對所述石英保護罩進行涂層步驟中所述溶劑包括氧化鋁。
9、優選的，使用溶劑對所述石英保護罩進行涂層以避免石英砂碎末掉落步驟中包括使用溶劑對所述石英保護罩的外壁進行涂層處理。
10、優選的，對所述石英保護罩進行清洗步驟中包括純水清洗。
11、優選的，對所述石英保護罩進行清洗步驟中包括脫脂清洗、硝酸清洗或氫氟酸清洗。
12、優選的，對所述石英保護罩進行清洗步驟中包括超聲波清洗。
13、與現有技術相比，本專利技術的有益效果為：
14、本專利技術提供了一種耐高溫石英保護罩的加工方法，包括對石英保護罩進行噴砂，噴砂可以清理掉表面的污垢、油脂等，提高表面的粗糙度，使砂體與基體表面有良好的結合力，對石英保護罩進行清洗以及使用溶劑對石英保護罩進行涂層，涂層處理可以形成一層保護膜，并避免了石英保護罩在長時間的高溫使用下，石英砂碎末掉落的問題，讓石英保護罩更加可靠耐用。
15、以下將結合附圖與具體的實施例對本專利技術進行詳細的解釋說明。
本文檔來自技高網...【技術保護點】
1.一種耐高溫石英保護罩的加工方法，其特征在于，所述加工方法包括：
2.根據權利要求1所述的加工方法，其特征在于，對所述石英保護罩進行噴砂步驟中包括在所述石英保護罩的內壁上噴砂。
3.根據權利要求2所述的加工方法，其特征在于，對所述石英保護罩進行噴砂步驟中還包括所述在石英保護罩的外壁上噴砂。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的加工方法，其特征在于，對所述石英保護罩進行噴砂步驟中噴砂的原料包括石英砂。
5.根據權利要求4所述的加工方法，其特征在于，對所述石英保護罩進行噴砂步驟中包括利用壓縮空氣帶動所述石英砂沖擊所述石英保護罩。
6.根據權利要求1所述的加工方法，其特征在于，使用溶劑對所述石英保護罩進行涂層步驟中所述溶劑包括氧化鋁。
7.根據權利要求1或6所述的加工方法，其特征在于，使用溶劑對所述石英保護罩進行涂層以避免石英砂碎末掉落步驟中包括使用溶劑對所述石英保護罩的外壁進行涂層處理。
8.根據權利要求1所述的加工方法，其特征在于，對所述石英保護罩進行清洗步驟中包括純水清洗。
9.根據
10.根據權利要求1所述的加工方法，其特征在于，對所述石英保護罩進行清洗步驟中包括超聲波清洗。
...【技術特征摘要】
1.一種耐高溫石英保護罩的加工方法，其特征在于，所述加工方法包括：
2.根據權利要求1所述的加工方法，其特征在于，對所述石英保護罩進行噴砂步驟中包括在所述石英保護罩的內壁上噴砂。
3.根據權利要求2所述的加工方法，其特征在于，對所述石英保護罩進行噴砂步驟中還包括所述在石英保護罩的外壁上噴砂。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的加工方法，其特征在于，對所述石英保護罩進行噴砂步驟中噴砂的原料包括石英砂。
5.根據權利要求4所述的加工方法，其特征在于，對所述石英保護罩進行噴砂步驟中包括利用壓縮空氣帶動所述石英砂沖擊所述石英保護罩。
6.根據權...
【專利技術屬性】
技術研發人員：周文華，周韋軍，呂紅兵，孫文明，祁彤彤，
申請(專利權)人：上海強華實業股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
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