【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本公開的實(shí)施例主要涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域，并且更具體地，涉及用于模型校準(zhǔn)的方法、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)。
技術(shù)介紹
1、隨著半導(dǎo)體工藝的發(fā)展，設(shè)計(jì)尺寸越來越小。由于光的衍射和干涉現(xiàn)象，通過對(duì)掩模版進(jìn)行曝光而在硅片上實(shí)際形成的晶圓圖像與掩模版上的電路版圖（簡稱為掩模版圖）之間存在一定的差異。例如，晶圓圖像可能出現(xiàn)線條寬度變窄、窄線條短點(diǎn)收縮、圖形拐角處變圓滑等現(xiàn)象。
2、光學(xué)鄰近校正（optical?proximity?correction，opc）技術(shù)被廣泛用于半導(dǎo)體制造過程中減小晶圓圖像與目標(biāo)圖像之間的差異。具體地，為了減小光學(xué)衍射造成的圖像錯(cuò)誤，盡可能使晶圓上產(chǎn)生的電路與給定的電路一致。opc通過修改掩模版圖來補(bǔ)償成像，以使所獲得晶圓圖像更接近目標(biāo)圖像。然而，opc過程需要消耗大量時(shí)間和計(jì)算資源。
3、此外，掩模過程中非線性效應(yīng)會(huì)導(dǎo)致電子束模糊化、光阻擴(kuò)散、橫向刻蝕偏差等不良結(jié)果。為此傳統(tǒng)方案中采用掩模過程校正（或稱掩模工藝校正，mask?processcorrection,?mpc），以減少上述非線性效應(yīng)所造成的影響，盡可能使掩模上的電路版圖與經(jīng)過opc校正后的掩模版圖一致。與opc校正類似，mpc校正過程中也需要消耗大量時(shí)間和計(jì)算資源。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、根據(jù)本公開的示例實(shí)施例，提供了用于模型校準(zhǔn)的方案，以至少部分克服上述或者其他潛在缺陷。
2、在本公開的第一方面，提供一種用于模型校準(zhǔn)的方法。該方法包括：對(duì)輸入到模型中的第一精度格式的掩模版圖進(jìn)行歸一
3、在本公開的第二方面，提供了一種電子設(shè)備。該電子設(shè)備包括處理器以及與處理器耦合的存儲(chǔ)器，存儲(chǔ)器具有存儲(chǔ)于其中的指令，指令在被處理器執(zhí)行時(shí)使設(shè)備執(zhí)行動(dòng)作。該動(dòng)作包括：對(duì)輸入到模型中的第一精度格式的掩模版圖進(jìn)行歸一化處理，以獲得歸一化版圖圖像，其中模型具有初始化的模型參數(shù)；對(duì)歸一化版圖圖像應(yīng)用第二精度格式的仿真處理，以獲得仿真晶圓圖像，其中第二精度格式的精度低于第一精度格式的精度；使用第一精度格式確定指示仿真晶圓圖像與目標(biāo)圖像之間的差異的度量指標(biāo)；對(duì)模型參數(shù)進(jìn)行迭代更新；以及響應(yīng)于度量指標(biāo)滿足預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)，將對(duì)應(yīng)于滿足預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)的度量指標(biāo)的模型確定為最優(yōu)模型。
4、在一些實(shí)施例中，對(duì)輸入到模型中的第一精度格式的掩模版圖進(jìn)行歸一化處理包括：用模型參數(shù)中的歸一化系數(shù)對(duì)掩模版圖進(jìn)行處理，以縮小掩模版圖的圖像像素值的范圍。
5、在一些實(shí)施例中，對(duì)歸一化版圖圖像應(yīng)用第二精度格式的仿真處理包括：響應(yīng)于在對(duì)歸一化版圖圖像應(yīng)用第二精度格式的仿真處理期間第二精度格式的數(shù)據(jù)越界，調(diào)整歸一化系數(shù)以進(jìn)一步縮小掩模版圖的圖像像素值的范圍。
6、在一些實(shí)施例中，用模型參數(shù)中的歸一化系數(shù)對(duì)掩模版圖進(jìn)行處理包括使用以下公式進(jìn)行處理：
7、其中normalization為歸一化處理函數(shù)，表示歸一化處理后的掩模版圖的圖像；（xi,yi）表示第i個(gè)像素點(diǎn)的坐標(biāo)；normalization?(xi,yi)表示坐標(biāo)（xi,yi）處的歸一化處理后的像素； w表示掩模版圖，表示坐標(biāo)（xi,yi）處的掩模版圖的像素；表示歸一化系數(shù)，是根據(jù)掩模版圖的像素取值范圍以及掩模版圖的大小而被確定的。
8、在一些實(shí)施例中，gamma?=?1/max(x,?(max(y)?–?min(y))),?其中x表示掩模版圖的圖像尺寸，y表示掩模版圖的圖像像素的取值;?beta?=?-min(y)/gamma;?其中max表示取最大值，min表示取最小值。
9、在一些實(shí)施例中，模型中包括用于執(zhí)行仿真處理的多個(gè)模塊，其中對(duì)歸一化版圖圖像應(yīng)用第二精度格式的仿真處理還包括：分別確定多個(gè)模塊中的各個(gè)模塊在仿真處理期間是否存在第二精度格式的數(shù)據(jù)越界；以及響應(yīng)于確定相應(yīng)模塊中存在第二精度格式的數(shù)據(jù)越界，禁用與相應(yīng)模塊對(duì)應(yīng)的開關(guān)參數(shù)以停止在相應(yīng)模塊中應(yīng)用第二精度格式的仿真處理；以及在相應(yīng)模塊中對(duì)歸一化版圖圖像應(yīng)用第一精度格式的仿真處理。
10、在一些實(shí)施例中，對(duì)歸一化版圖圖像應(yīng)用第二精度格式的仿真處理包括使用第二精度格式進(jìn)行至少以下運(yùn)算之一：卷積運(yùn)算；以及傅里葉變換。
11、在一些實(shí)施例中，第一精度格式包括以下至少一項(xiàng)：32位單精度浮點(diǎn)數(shù)格式fp32；以及64位雙精度浮點(diǎn)數(shù)格式fp64；并且第二精度格式包括以下至少一項(xiàng)：16位腦浮點(diǎn)數(shù)格式bf16；以及16位半精度浮點(diǎn)數(shù)格式fp16。
12、在一些實(shí)施例中，度量指標(biāo)包括以下至少一項(xiàng)：邊緣放置誤差，以及關(guān)鍵尺寸。
13、在一些實(shí)施例中，迭代地更新模型參數(shù)包括更新以下參數(shù)中至少一項(xiàng)：光學(xué)相關(guān)的以及光刻膠相關(guān)的物理參數(shù)；歸一化系數(shù)；以及用于控制模型中的相應(yīng)模塊的計(jì)算精度的開關(guān)參數(shù)。
14、在一些實(shí)施例中，度量指標(biāo)滿足預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)包括滿足以下中至少一項(xiàng)：度量指標(biāo)小于預(yù)定閾值；或者迭代的次數(shù)達(dá)到預(yù)定閾值。
15、在一些實(shí)施例中，模型為光學(xué)鄰近校正模型或掩模工藝校正模型。
16、在本公開的第三方面中，提供了一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，該程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)根據(jù)本公開的第一方面的方法。
17、本公開實(shí)施例的方案，能夠提高掩模校正過程中的計(jì)算速度并且能夠減少或者防止數(shù)據(jù)溢出，從而滿足精度要求。
18、應(yīng)當(dāng)理解，
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
部分中所描述的內(nèi)容并非旨在限定本公開的實(shí)施例的關(guān)鍵或重要特征，亦非用于限制本公開的范圍。本公開的其它特征將通過以下的描述變得容易理解。
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種用于模型校準(zhǔn)的方法，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中對(duì)輸入到模型中的第一精度格式的掩模版圖進(jìn)行歸一化處理包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中對(duì)所述歸一化版圖圖像應(yīng)用第二精度格式的仿真處理包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中用所述模型參數(shù)中的歸一化系數(shù)對(duì)所述掩模版圖進(jìn)行處理包括使用以下公式進(jìn)行處理：
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中:
6.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述模型中包括用于執(zhí)行所述仿真處理的多個(gè)模塊，其中對(duì)所述歸一化版圖圖像應(yīng)用第二精度格式的仿真處理還包括：
7.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中對(duì)所述歸一化版圖圖像應(yīng)用第二精度格式的仿真處理包括使用所述第二精度格式進(jìn)行至少以下運(yùn)算之一：
8.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中：
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述度量指標(biāo)包括以下至少一項(xiàng)：
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中對(duì)所述模型參數(shù)進(jìn)行迭代更新包括更新以下參數(shù)中至少一項(xiàng)：
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的方法，其中：
13.?一種電子設(shè)備，包括：
14.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)根據(jù)權(quán)利要求1-12中任一項(xiàng)所述的方法。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種用于模型校準(zhǔn)的方法，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中對(duì)輸入到模型中的第一精度格式的掩模版圖進(jìn)行歸一化處理包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中對(duì)所述歸一化版圖圖像應(yīng)用第二精度格式的仿真處理包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中用所述模型參數(shù)中的歸一化系數(shù)對(duì)所述掩模版圖進(jìn)行處理包括使用以下公式進(jìn)行處理：
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中:
6.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述模型中包括用于執(zhí)行所述仿真處理的多個(gè)模塊，其中對(duì)所述歸一化版圖圖像應(yīng)用第二精度格式的仿真處理還包括：
7.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中對(duì)所述歸一化版圖圖像應(yīng)...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：請求不公布姓名，請求不公布姓名，請求不公布姓名，請求不公布姓名，
申請(專利權(quán))人：全智芯上海技術(shù)有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
還沒有人留言評(píng)論。發(fā)表了對(duì)其他瀏覽者有用的留言會(huì)獲得科技券。