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    測量儀器的導軌結構制造技術

    技術編號:40636544 閱讀:14 留言:0更新日期:2024-03-13 21:20
    本技術描述一種測量儀器的導軌結構,導軌結構包括沿第一方向設置的導軌部、與導軌部配合的運動部、以及設置于運動部的施加部,運動部包括套設于導軌部且可沿導軌部移動的移動組件、設置于移動組件的測量組件,令運動部的重心位置為第一位置,令移動組件的幾何中心位置為第二位置,第一位置在基準平面的投影與第二位置在基準平面的投影不重合;施加部向運動部施加沿第二方向的作用力以減少目標位置在基準平面的投影相對于第二位置在基準平面的投影的偏移量,其中,基準平面正交于第二方向。根據本技術,能夠提高運動部的平衡性,進而能夠提高運動部在運動時的穩定性,由此,能夠提高測量儀器的測量精度。

    【技術實現步驟摘要】

    本技術大體涉及智能制造裝備產業,具體涉及一種測量儀器的導軌結構。


    技術介紹

    1、輪廓測量儀是一種通過測針掃描工件的表面輪廓的以測量出工件的真實形貌的儀器,適用于長軸類、筒類、曲面零件、絲杠、螺紋等高精度部件的內外徑尺寸、內外輪廓形貌、或粗糙度等參數測量。

    2、通常來說,輪廓測量儀通過驅動測針沿著工件的待測表面移動,測針會感觸到待測表面的幾何形狀變化并產生微動位移,同時輪廓測量儀的處理元件對測針的位移變化進行處理并分析以獲得待測表面的待測參數。輪廓測量儀一般包括導軌和設置于導軌的運動部,運動部包括可以沿導軌移動的滑塊、與滑塊連接且包括測針的測量組件,通過驅動滑塊沿著導軌移動,可以帶動測量組件移動進而帶動測針掃描工件?,F有技術中,為了使輪廓測量儀適應更多的測量場景(例如為了增大測量范圍或者保持穩定的測力),通常會將測量組件的一端固定于滑塊,也即使測量組件另一端相對于滑塊而言具有更大的伸長量。在這種情況下,能夠增大輪廓測量儀的測量范圍,另外,有利于使輪廓測量儀保持穩定的測力。

    3、理想情況下,為了保持輪廓測量儀的測量穩定性,運動部在靜止或移動時的受力均應保持平衡。然而,上述技術方案的設置使得運動部的實際重心偏離滑塊的中心(運動部的理想重心),運動部在移動的過程中會受到因運動部的實際重心偏離理想重心而產生的不平衡力矩,這種情況會使運動部在被驅動時的平衡狀態發生改變,從而影響運動部移動時的穩定性,最終導致輪廓測量儀的測量精度受到影響。


    技術實現思路

    1、本技術是有鑒于上述的狀況而提出的,其目的在于提供一種測量儀器的導軌結構,能夠提高運動部的穩定性,進而提高測量儀器的測量精度。

    2、為此,本技術提供一種測量儀器的導軌結構,是導引所述測量儀器的測量組件進行移動的導軌結構,所述導軌結構包括沿第一方向設置的導軌部、與所述導軌部配合的運動部、以及設置于所述運動部的施加部,所述運動部包括套設于所述導軌部且可沿所述導軌部移動的移動組件、設置于所述移動組件的所述測量組件,令所述運動部的重心位置為第一位置,令所述移動組件的幾何中心位置為第二位置,所述第一位置在基準平面的投影與所述第二位置在所述基準平面的投影不重合;令所述運動部靜止時的平衡位置為目標位置,所述施加部向所述運動部施加沿第二方向的作用力以減少所述目標位置在所述基準平面的投影相對于所述第二位置在所述基準平面的投影的偏移量,其中,所述基準平面正交于所述第二方向。

    3、在本技術中,通過施加部向運動部施加的沿第二方向的作用力,能夠減小目標位置相對于第二位置的偏移量,進而減小移動部受到的因第一位置與第二位置發生偏移而產生的非平衡力矩,從而能夠提高運動部的平衡性,特別地,當目標位置在基準平面的投影與第二位置在基準平面的投影重合時,運動部受到的合力矩為零,當運動部由靜止狀態變為運動狀態時,由于運動部能夠受力平衡,運動部的受力狀態不會發生突變,進而能夠減少運動部由靜止狀態變為運動狀態時的起始時刻的抖動,由此,能夠提高測量儀器的測量精度。

    4、另外,在本技術所涉及的導軌結構中,可選地,所述第二方向正交于所述第一方向且所述第二方向為所述移動組件指向所述測量組件的方向。在這種情況下,作用力的方向與非平衡力的方向相同,由此,通過將作用力的受力點作用于運動部遠離第一位置的一側能夠減少目標位置相對于第二位置的偏移量。

    5、另外,在本技術所涉及的導軌結構中,可選地,令所述施加部所在的位置為第三位置,令包括所述第一位置且正交于所述第一方向的平面為第一平面,令包括所述第三位置且正交于所述第一方向的平面為第三平面,所述第二位置位于所述第一平面與所述第三平面之間。在這種情況下,作用力在第二位置的力矩的方向與非平衡力在第二位置的力矩的方向能夠相反,由此,能夠降低非平衡力矩對運動部的負面影響,進而有利于提高運動部的平衡性。

    6、另外,在本技術所涉及的導軌結構中,可選地,所述移動組件具有正交于所述第二方向且貼合于所述導軌部的功能面,所述施加部設置于所述功能面。在這種情況下,在提高運動部的平衡性的同時還能夠提高導軌部的集成度。

    7、另外,在本技術所涉及的導軌結構中,可選地,所述移動組件具有貼合于導軌部的功能面和與所述功能面相對的輔助面,所述導軌部設置于所述功能面與所述輔助面之間,所述施加部設置于所述輔助面。在這種情況下,由于輔助面不參與運動部的導向作用,將施加部設置于輔助面有利于提高移動組件與導軌部的貼合效果,也即能夠降低將施加部設置于功能面而引起的移動組件的功能面與導軌部的第一導引面貼合不佳的影響,由此,能夠進一步地提高運動部的運動穩定性。

    8、另外,在本技術所涉及的導軌結構中,可選地,所述第二方向正交于所述第一方向且所述第二方向為所述測量組件指向所述移動組件的方向。在這種情況下,由于作用力的方向與非平衡力的方向相反,通過將作用力的受力點設置于運動部靠近第一位置的一側能夠減少目標位置相對于第二位置的偏移量。

    9、另外,在本技術所涉及的導軌結構中,可選地,令所述施加部所在的位置為第三位置,令包括所述第二位置且正交于所述第一方向的平面為第二平面,所述第三位置位于所述第二平面包括所述第一位置的一側。在這種情況下,施加部向運動部施加的作用力在第二位置的力矩與非平衡力在第二位置的力矩的方向相反,由此,作用力在第二位置的力矩能夠減弱運動部因受到非平衡力矩的作用而導致的重心偏移的影響。

    10、另外,在本技術所涉及的導軌結構中,可選地,所述移動組件具有貼合于所述導軌部的功能面和與所述功能面相對的輔助面,所述施加部設置于所述輔助面。在這種情況下,

    11、另外,在本技術所涉及的導軌結構中,可選地,所述導軌部由磁吸材料構成,所述施加部包括至少一個磁體。在這種情況下,通過導軌部和施加部的相互作用,導軌部能夠對施加部施加沿第二方向的吸引力,進而施加部能夠向移動組件施加沿第二方向的作用力,由此,能夠提高運動部的穩定性;另外,當施加部設置于輔助面時,施加部向移動組件施加沿第二方向的作用力還能夠減小運動部對導軌部的壓力,進而能夠降低運動部受到的摩檫力,由此,有利于減弱移動組件和導軌部受到的磨損,進而能夠提高導軌結構的使用壽命。

    12、另外,在本技術所涉及的導軌結構中,可選地,所述施加部包括至少一個配重塊。在這種情況下,配重塊能夠對移動組件施加沿第二方向的作用力以降低運動部受到的非平衡力矩的影響。

    13、根據本技術,能夠提供一種通過提高運動部的穩定性,進而提高測量儀器的測量精度的導軌結構。

    本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.一種測量儀器的導軌結構,是導引所述測量儀器的測量組件進行移動的導軌結構,其特征在于,所述導軌結構包括沿第一方向設置的導軌部、與所述導軌部配合的運動部、以及設置于所述運動部的施加部,

    2.根據權利要求1所述的導軌結構,其特征在于,所述第二方向正交于所述第一方向且所述第二方向為所述移動組件指向所述測量組件的方向。

    3.根據權利要求2所述的導軌結構,其特征在于,令所述施加部所在的位置為第三位置,令包括所述第一位置且正交于所述第一方向的平面為第一平面,令包括所述第三位置且正交于所述第一方向的平面為第三平面,所述第二位置位于所述第一平面與所述第三平面之間。

    4.根據權利要求3所述的導軌結構,其特征在于,所述移動組件具有正交于所述第二方向且貼合于所述導軌部的功能面,所述施加部設置于所述功能面。

    5.根據權利要求3所述的導軌結構,其特征在于,所述移動組件具有貼合于所述導軌部的功能面和與所述功能面相對的輔助面,所述導軌部設置于所述功能面與所述輔助面之間,所述施加部設置于所述輔助面。

    6.根據權利要求1所述的導軌結構,其特征在于,所述第二方向正交于所述第一方向且所述第二方向為所述測量組件指向所述移動組件的方向。

    7.根據權利要求6所述的導軌結構,其特征在于,令所述施加部所在的位置為第三位置,令包括所述第二位置且正交于所述第一方向的平面為第二平面,所述第三位置位于所述第二平面包括所述第一位置的一側。

    8.根據權利要求7所述的導軌結構,其特征在于,所述移動組件具有貼合于所述導軌部的功能面和與所述功能面相對的輔助面,所述施加部設置于所述輔助面。

    9.根據權利要求1、4或8所述的導軌結構,其特征在于,所述導軌部由磁吸材料構成,所述施加部包括至少一個磁體。

    10.根據權利要求1或5所述的導軌結構,其特征在于,所述施加部包括至少一個配重塊。

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    【技術特征摘要】

    1.一種測量儀器的導軌結構,是導引所述測量儀器的測量組件進行移動的導軌結構,其特征在于,所述導軌結構包括沿第一方向設置的導軌部、與所述導軌部配合的運動部、以及設置于所述運動部的施加部,

    2.根據權利要求1所述的導軌結構,其特征在于,所述第二方向正交于所述第一方向且所述第二方向為所述移動組件指向所述測量組件的方向。

    3.根據權利要求2所述的導軌結構,其特征在于,令所述施加部所在的位置為第三位置,令包括所述第一位置且正交于所述第一方向的平面為第一平面,令包括所述第三位置且正交于所述第一方向的平面為第三平面,所述第二位置位于所述第一平面與所述第三平面之間。

    4.根據權利要求3所述的導軌結構,其特征在于,所述移動組件具有正交于所述第二方向且貼合于所述導軌部的功能面,所述施加部設置于所述功能面。

    5.根據權利要求3所述的導軌結構,其特征在于,所述移動組件具有貼合于所述導軌部的...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:楊政,張鵬,
    申請(專利權)人:深圳市中圖儀器股份有限公司,
    類型:新型
    國別省市:

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