【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及聚烯烴相關(guān)領(lǐng)域，具體是一種聚乙烯環(huán)境應(yīng)力開(kāi)裂測(cè)定樣品制備裝置及其制備方法。
技術(shù)介紹
1、在工業(yè)上，也包括乙烯與少量α-烯烴的共聚物，聚乙烯無(wú)臭，無(wú)毒，手感似蠟，具有優(yōu)良的耐低溫性能(最低使用溫度可達(dá)-100～-70℃)，化學(xué)穩(wěn)定性好，能耐大多數(shù)酸堿的侵蝕(不耐具有氧化性質(zhì)的酸)，常溫下不溶于一般溶劑，吸水性小，電絕緣性優(yōu)良，傳統(tǒng)的聚乙烯環(huán)境應(yīng)力開(kāi)裂(esc)的測(cè)定采用全缺口蠕變(fnct)進(jìn)行測(cè)試，傳統(tǒng)的測(cè)試方法測(cè)定時(shí)間普遍較長(zhǎng)，對(duì)于管材料而言，測(cè)試時(shí)間能達(dá)到數(shù)千小時(shí)。
2、現(xiàn)有聚乙烯測(cè)定裝置在優(yōu)化時(shí)，大多體現(xiàn)在避免產(chǎn)生測(cè)量誤差的方面，例如專利號(hào)為cn109374668b的中國(guó)實(shí)用型專利就公開(kāi)了《一種測(cè)定聚乙烯密度的方法》，(1)將多個(gè)具有不同密度的聚乙烯標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行預(yù)處理，然后分別放在核磁共振波譜儀上進(jìn)行分析，獲取相應(yīng)的核磁信號(hào)；(2)建立聚乙烯密度與核磁信號(hào)的標(biāo)準(zhǔn)工作曲線；(3)將待測(cè)聚乙烯樣品放在核磁共振波譜儀上進(jìn)行分析，獲取相應(yīng)的核磁信號(hào)；(4)將待測(cè)聚乙烯樣品的核磁信號(hào)代入所述標(biāo)準(zhǔn)工作曲線中，確定待測(cè)聚乙烯樣品的密度值。
3、雖然上述的聚乙烯測(cè)定裝置在避免產(chǎn)生測(cè)量誤差的方面有一定的優(yōu)勢(shì)，但是仍然具有一定的弊端：
4、1、如圖10所示，通過(guò)已知密度的聚乙烯標(biāo)樣在核磁共振儀上獲得相應(yīng)的核磁(馳豫時(shí)間)信號(hào)，得到聚乙烯密度與核磁(馳豫時(shí)間)信號(hào)的標(biāo)準(zhǔn)工作曲線，再利用該標(biāo)準(zhǔn)工作曲線將待測(cè)聚乙烯樣品獲得的核磁信號(hào)進(jìn)行比較，即可得到待測(cè)聚乙烯樣品的密度，能在不破壞聚乙烯樹(shù)脂樣品的
5、2、上述的聚乙烯測(cè)定裝置，不便于對(duì)操作的桌面進(jìn)行自動(dòng)清理，導(dǎo)致桌面上的灰塵或溶液容易對(duì)測(cè)定實(shí)驗(yàn)的數(shù)據(jù)產(chǎn)生影響，導(dǎo)致實(shí)驗(yàn)的準(zhǔn)確性很難提高。
6、3、上述的聚乙烯測(cè)定裝置，在手動(dòng)清理操作時(shí)，容易影響到聚乙烯測(cè)定裝置的正常工作，導(dǎo)致清理時(shí)容易損壞到聚乙烯測(cè)定裝置。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、因此，為了解決上述不足，本專利技術(shù)在此提供一種聚乙烯環(huán)境應(yīng)力開(kāi)裂測(cè)定樣品制備裝置及其制備方法。
2、本專利技術(shù)是這樣實(shí)現(xiàn)的，構(gòu)造一種聚乙烯環(huán)境應(yīng)力開(kāi)裂測(cè)定樣品制備裝置及其制備方法，該裝置包括溶液制備箱、溶液制備箱右側(cè)下端與數(shù)控銑床機(jī)左側(cè)下端固定連接、數(shù)控銑床機(jī)前側(cè)右端中部與控制器后側(cè)固定連接、數(shù)控銑床機(jī)右側(cè)與簡(jiǎn)支梁沖擊儀左側(cè)固定連接、簡(jiǎn)支梁沖擊儀右側(cè)中上端與監(jiān)測(cè)攝像頭左側(cè)固定連接；
3、其特征在于：還包括：
4、升降機(jī)構(gòu)，所述升降機(jī)構(gòu)左側(cè)下端與簡(jiǎn)支梁沖擊儀右側(cè)下端固定連接；
5、清理機(jī)構(gòu)，所述清理機(jī)構(gòu)前端下側(cè)的后端與升降機(jī)構(gòu)前側(cè)下端中部固定連接；
6、抬高機(jī)構(gòu)，所述抬高機(jī)構(gòu)上端的底部表面與升降機(jī)構(gòu)頂部中端表面相互接觸；
7、應(yīng)力校正測(cè)定機(jī)構(gòu)，所述應(yīng)力校正測(cè)定機(jī)構(gòu)底部與抬高機(jī)構(gòu)頂部固定連接。
8、優(yōu)選的，所述升降機(jī)構(gòu)包括：
9、連接矩形塊，所述連接矩形塊設(shè)置在升降機(jī)構(gòu)左下端；
10、側(cè)板倉(cāng)塊，所述側(cè)板倉(cāng)塊左側(cè)下端與連接矩形塊右側(cè)固定連接；
11、連接底塊，所述連接底塊左右兩端與側(cè)板倉(cāng)塊內(nèi)側(cè)端下端固定連接；
12、第一轉(zhuǎn)動(dòng)桿，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)桿外側(cè)端下端與連接底塊內(nèi)側(cè)左端轉(zhuǎn)動(dòng)連接。
13、優(yōu)選的，所述升降機(jī)構(gòu)還包括：
14、第二轉(zhuǎn)動(dòng)桿，所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)桿外側(cè)端中端與第一轉(zhuǎn)動(dòng)桿內(nèi)側(cè)端中端轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)桿右側(cè)下端表面與連接底塊內(nèi)側(cè)底端表面相互接觸；
15、連接頭，所述連接頭內(nèi)側(cè)中端與第二轉(zhuǎn)動(dòng)桿前后兩側(cè)上端轉(zhuǎn)動(dòng)連接；
16、頂板，所述頂板底部左側(cè)的前后兩端與連接頭頂部固定連接，所述頂板底部右側(cè)表面與第一轉(zhuǎn)動(dòng)桿右側(cè)上端表面相互接觸；
17、其中，所述連接矩形塊左側(cè)與簡(jiǎn)支梁沖擊儀右側(cè)下端固定連接。
18、優(yōu)選的，所述清理機(jī)構(gòu)包括：
19、氣泵，所述氣泵設(shè)置在清理機(jī)構(gòu)下端中部；
20、連接管，所述連接管內(nèi)側(cè)端與氣泵左右兩側(cè)中端固定連接，所述連接管外側(cè)表面的外側(cè)端與側(cè)板倉(cāng)塊左右兩側(cè)中下端孔洞的內(nèi)側(cè)表面固定連接；
21、氣缸連接管，所述氣缸連接管底部與連接管頂部的中外側(cè)端固定連接；
22、電動(dòng)閥門，所述電動(dòng)閥門設(shè)置在連接管中外側(cè)端和氣缸連接管的中端處；
23、氣缸，所述氣缸底部中端與氣缸連接管頂部固定連接，所述氣缸外側(cè)表面下端與側(cè)板倉(cāng)塊頂部孔洞的內(nèi)側(cè)表面固定連接。
24、優(yōu)選的，所述清理機(jī)構(gòu)還包括：
25、彈性管，所述彈性管下端與連接管外側(cè)端固定連接；
26、氣倉(cāng)框，所述氣倉(cāng)框底部與頂板頂部外側(cè)端固定連接，所述氣倉(cāng)框左右兩側(cè)下端與彈性管上端固定連接；
27、噴氣頭，所述噴氣頭外側(cè)表面的內(nèi)側(cè)端與氣倉(cāng)框內(nèi)側(cè)左右兩端孔洞的內(nèi)側(cè)表面固定連接；
28、限位滑槽條，所述限位滑槽條頂部與頂板底部中左側(cè)和中右側(cè)固定連接；
29、收集抽屜，所述收集抽屜外側(cè)表面上端的左右兩端與限位滑槽條內(nèi)側(cè)端凹槽的內(nèi)側(cè)表面滑動(dòng)連接；
30、其中，所述氣泵后側(cè)與連接底塊前側(cè)中端固定連接。
31、優(yōu)選的，所述抬高機(jī)構(gòu)包括：
32、連接塊，所述連接塊頂部左右兩端與頂板底部左右兩端固定連接；
33、橫向氣管，所述橫向氣管頂部中端與連接塊底部中端固定連接；
34、軟管，所述軟管上端與橫向氣管底部中端固定連接，所述軟管下端與氣泵頂部中端固定連接；
35、小型氣缸，所述小型氣缸外表面下端與連接塊頂部左右兩側(cè)孔洞的內(nèi)側(cè)表面固定連接，所述小型氣缸底部中端與橫向氣管左右兩側(cè)上端固定連接，所述小型氣缸外表面中端與頂板上下兩側(cè)的左右兩側(cè)孔洞的內(nèi)側(cè)表面固定連接。
36、優(yōu)選的，所述抬高機(jī)構(gòu)還包括：
37、升降板，所述升降板底部左右兩端與小型氣缸頂部固定連接；
38、凹槽，所述凹槽開(kāi)設(shè)于升降板底部中左側(cè)和底部中右側(cè)；
39、轉(zhuǎn)動(dòng)擋板，所述轉(zhuǎn)動(dòng)擋板前后兩側(cè)的外側(cè)端與凹槽內(nèi)側(cè)前后兩端的外側(cè)端轉(zhuǎn)動(dòng)連接；
40、其中，所述連接塊頂部凹槽的內(nèi)側(cè)表面與收集抽屜外側(cè)表面下端滑動(dòng)連接。
41、優(yōu)選的，所述應(yīng)力校正測(cè)定機(jī)構(gòu)包括：
42、底座，所述底座設(shè)置在應(yīng)力校正測(cè)定機(jī)構(gòu)下端；
43、杠桿臂，所述杠桿臂前后兩側(cè)中左端與底座上端的內(nèi)側(cè)中端轉(zhuǎn)動(dòng)連接；
44、應(yīng)力校正器，所述應(yīng)力校正器底部與杠桿臂頂部左側(cè)固定連接；
45、砝碼，所述砝碼設(shè)置在杠桿臂上。
46、優(yōu)選的，所述應(yīng)力校正測(cè)定機(jī)構(gòu)還包括：
47、環(huán)形擋框，所述環(huán)形擋框底部與應(yīng)力校正器頂部外側(cè)端固定連接；
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【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種聚乙烯環(huán)境應(yīng)力開(kāi)裂測(cè)定樣品制備裝置，包括溶液制備箱(1)、溶液制備箱(1)右側(cè)下端與數(shù)控銑床機(jī)(2)左側(cè)下端固定連接、數(shù)控銑床機(jī)(2)前側(cè)右端中部與控制器(3)后側(cè)固定連接、數(shù)控銑床機(jī)(2)右側(cè)與簡(jiǎn)支梁沖擊儀(4)左側(cè)固定連接、簡(jiǎn)支梁沖擊儀(4)右側(cè)中上端與監(jiān)測(cè)攝像頭(5)左側(cè)固定連接；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種聚乙烯環(huán)境應(yīng)力開(kāi)裂測(cè)定樣品制備裝置，其特征在于：所述升降機(jī)構(gòu)(6)包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述一種聚乙烯環(huán)境應(yīng)力開(kāi)裂測(cè)定樣品制備裝置，其特征在于：所述升降機(jī)構(gòu)(6)還包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述一種聚乙烯環(huán)境應(yīng)力開(kāi)裂測(cè)定樣品制備裝置，其特征在于：所述清理機(jī)構(gòu)(7)包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述一種聚乙烯環(huán)境應(yīng)力開(kāi)裂測(cè)定樣品制備裝置，其特征在于：所述清理機(jī)構(gòu)(7)還包括：
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述一種聚乙烯環(huán)境應(yīng)力開(kāi)裂測(cè)定樣品制備裝置，其特征在于：所述抬高機(jī)構(gòu)(8)包括：
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述一種聚乙烯環(huán)境應(yīng)力開(kāi)裂測(cè)定樣品制備裝置，其特征在于：所述抬高機(jī)構(gòu)(8)還包括：
8.根
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述一種聚乙烯環(huán)境應(yīng)力開(kāi)裂測(cè)定樣品制備裝置，其特征在于：所述應(yīng)力校正測(cè)定機(jī)構(gòu)(9)還包括：
10.根據(jù)權(quán)利要求1～9任一項(xiàng)所述一種聚乙烯環(huán)境應(yīng)力開(kāi)裂測(cè)定樣品制備裝置的制備方法，其特征在于：包括以下步驟：
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種聚乙烯環(huán)境應(yīng)力開(kāi)裂測(cè)定樣品制備裝置，包括溶液制備箱(1)、溶液制備箱(1)右側(cè)下端與數(shù)控銑床機(jī)(2)左側(cè)下端固定連接、數(shù)控銑床機(jī)(2)前側(cè)右端中部與控制器(3)后側(cè)固定連接、數(shù)控銑床機(jī)(2)右側(cè)與簡(jiǎn)支梁沖擊儀(4)左側(cè)固定連接、簡(jiǎn)支梁沖擊儀(4)右側(cè)中上端與監(jiān)測(cè)攝像頭(5)左側(cè)固定連接；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種聚乙烯環(huán)境應(yīng)力開(kāi)裂測(cè)定樣品制備裝置，其特征在于：所述升降機(jī)構(gòu)(6)包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述一種聚乙烯環(huán)境應(yīng)力開(kāi)裂測(cè)定樣品制備裝置，其特征在于：所述升降機(jī)構(gòu)(6)還包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述一種聚乙烯環(huán)境應(yīng)力開(kāi)裂測(cè)定樣品制備裝置，其特征在于：所述清理機(jī)構(gòu)(7)包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：付檳瑞，李俊峰，楊明，姚琳，林森，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：寶來(lái)利安德巴賽爾石化有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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