【技術實現步驟摘要】
本技術涉及磁控濺射，尤其涉及一種基板載具及磁控濺射設備。
技術介紹
1、磁控濺射是物理氣相沉積的一種，是通過在靶陰極表面引入磁場、利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率的鍍膜技術，可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。
2、目前廣泛使用的磁控濺射設備一般采用固定的濺射源對基板進行濺射鍍膜；濺射源設置在移動的載具上，由于濺射源和載具之間的距離恒定，因此平面基板(例如玻璃、硅片)上能夠形成均勻的鍍膜，而對于一些曲面以及平面度較低的基板，由于其表面不平整，當載具帶動基板移動時，基板表面與濺射源之間的距離也會發生改變，從而使用現有的載具無法制備大面積膜厚均勻的膜層，從而影響了磁控濺射的鍍膜效果。
技術實現思路
1、本技術的目的在于提供一種基板載具及磁控濺射設備，能夠調節基板相對于濺射源的角度和距離，保證在基板表面不平整的情況下實現均勻地濺射鍍膜。
2、為達此目的，本技術采用以下技術方案：
3、本技術提供一種基板載具，包括：
4、活動板，所述活動板用于承載基板；
5、固定板，所述固定板用于帶動所述活動板移動；
6、第一調節組件，所述第一調節組件設置在所述固定板和所述活動板之間，所述第一調節組件能夠改變所述活動板和所述固定板之間的距離；
7、第二調節組件，所述活動板通過所述第二調節組件與所述第一調節組件連接，所述第二調節組件能夠改變所述活
8、作為優選地，所述第一調節組件為電動推桿，所述電動推桿包括外套管、內管以及第一驅動機構，所述內管穿設在所述外套管中，所述內管能夠在所述第一驅動機構的驅動下沿所述外套管的長度方向移動，所述外套管的一端設置在所述固定板上，所述內管穿出所述外套管的另一端與所述活動板連接。
9、作為優選地，所述第二調節組件包括旋轉軸、安裝座以及第二驅動機構，所述活動板與所述旋轉軸的側面連接，所述旋轉軸能夠帶動所述活動板轉動；所述旋轉軸轉動設置在所述安裝座上，所述安裝座與所述內管遠離所述固定板的端部連接，所述第二驅動機構用于驅動所述旋轉軸轉動。
10、作為優選地，所述第二調節組件還包括連接座，所述連接座固設在所述旋轉軸上，所述連接座具有連接平面，所述連接平面與所述活動板貼靠且固定連接。
11、作為優選地，所述連接座設置有多個，多個所述連接座間隔設置在所述旋轉軸上。
12、作為優選地，所述第一調節組件包括導軌、滾輪以及第一驅動機構，所述導軌的一端設置在所述固定板上，所述滾輪用于帶動所述活動板沿所述導軌移動以遠離或靠近所述固定板，所述第一驅動機構用于驅動所述滾輪轉動。
13、作為優選地，所述第二調節組件包括旋轉軸、安裝座以及第二驅動機構，所述活動板與所述旋轉軸的側面連接，所述旋轉軸能夠帶動所述活動板轉動；所述旋轉軸轉動設置在所述安裝座上，所述安裝座設置在所述滾輪上，所述滾輪能夠帶動所述安裝座沿所述導軌移動，所述第二驅動機構用于驅動所述旋轉軸轉動。
14、作為優選地，所述第一調節組件還包括自鎖結構，所述自鎖結構設置在所述滾輪上，所述自鎖結構能夠鎖止所述滾輪以使所述滾輪保持靜止。
15、作為優選地，基板載具還包括控制中心，所述控制中心與所述第一調節組件和所述第二調節組件連接。
16、磁控濺射設備，包括上述基板載具。
17、本技術的有益效果在于：
18、本技術提供的基板載具，由于活動板承載基板，且固定板能夠帶動活動板移動，因此濺射源能夠對基板進行連續地濺射鍍膜；由于固定板和活動板之間設置有第一調節組件，第一調節組件能夠改變活動板和固定板之間的距離，因此活動板可以通過第一調節組件調節與固定板之間的距離來改變與濺射源的距離，同時由于活動板通過第二調節組件與第一調節組件連接，第二調節組件能夠改變活動板和固定板之間的角度，因此第一調節組件和第二調節組件能夠調節活動板與濺射源之間的距離和角度以使基板表面與濺射源之間的距離固定不變，從而保證在基板表面不平整的情況下實現均勻地濺射鍍膜。
19、本技術提供的磁控濺射設備，采用上述基板載具，能夠對承載基板的活動進行調節，以保證基板的表面與濺射源之間的相對距離保持固定，實現了在基板表面不平整的情況下均勻地濺射鍍膜。
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1.基板載具，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的基板載具，其特征在于，所述第一調節組件(3)為電動推桿，所述電動推桿包括外套管(31)、內管(32)以及第一驅動機構，所述內管(32)穿設在所述外套管(31)中，所述內管(32)能夠在所述第一驅動機構的驅動下沿所述外套管(31)的長度方向移動，所述外套管(31)的一端設置在所述固定板(2)上，所述內管(32)穿出所述外套管(31)的另一端與所述活動板(1)連接。
3.根據權利要求2所述的基板載具，其特征在于，所述第二調節組件(4)包括旋轉軸(41)、安裝座(42)以及第二驅動機構，所述活動板(1)與所述旋轉軸(41)的側面連接，所述旋轉軸(41)能夠帶動所述活動板(1)轉動；所述旋轉軸(41)轉動設置在所述安裝座(42)上，所述安裝座(42)與所述內管(32)遠離所述固定板(2)的端部連接，所述第二驅動機構用于驅動所述旋轉軸(41)轉動。
4.根據權利要求3所述的基板載具，其特征在于，所述第二調節組件(4)還包括連接座(43)，所述連接座(43)固設在所述旋轉軸(41)上，所述連接座(4
5.根據權利要求4所述的基板載具，其特征在于，所述連接座(43)設置有多個，多個所述連接座(43)間隔設置在所述旋轉軸(41)上。
6.根據權利要求1所述的基板載具，其特征在于，所述第一調節組件(3)包括導軌(33)、滾輪(34)以及第一驅動機構，所述導軌(33)的一端設置在所述固定板(2)上，所述滾輪(34)用于帶動所述活動板(1)沿所述導軌(33)移動以遠離或靠近所述固定板(2)，所述第一驅動機構用于驅動所述滾輪(34)轉動。
7.根據權利要求6所述的基板載具，其特征在于，所述第二調節組件(4)包括旋轉軸(41)、安裝座(42)以及第二驅動機構，所述活動板(1)與所述旋轉軸(41)的側面連接，所述旋轉軸(41)能夠帶動所述活動板(1)轉動；所述旋轉軸(41)轉動設置在所述安裝座(42)上，所述安裝座(42)設置在所述滾輪(34)上，所述滾輪(34)能夠帶動所述安裝座(42)沿所述導軌(33)移動，所述第二驅動機構用于驅動所述旋轉軸(41)轉動。
8.根據權利要求6所述的基板載具，其特征在于，所述第一調節組件(3)還包括自鎖結構，所述自鎖結構設置在所述滾輪(34)上，所述自鎖結構能夠鎖止所述滾輪(34)以使所述滾輪(34)保持靜止。
9.根據權利要求1所述的基板載具，其特征在于，所述基板載具還包括控制中心，所述控制中心與所述第一調節組件(3)和所述第二調節組件(4)連接。
10.磁控濺射設備，其特征在于，包括權利要求1-9任一項所述的基板載具。
...【技術特征摘要】
1.基板載具，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的基板載具，其特征在于，所述第一調節組件(3)為電動推桿，所述電動推桿包括外套管(31)、內管(32)以及第一驅動機構，所述內管(32)穿設在所述外套管(31)中，所述內管(32)能夠在所述第一驅動機構的驅動下沿所述外套管(31)的長度方向移動，所述外套管(31)的一端設置在所述固定板(2)上，所述內管(32)穿出所述外套管(31)的另一端與所述活動板(1)連接。
3.根據權利要求2所述的基板載具，其特征在于，所述第二調節組件(4)包括旋轉軸(41)、安裝座(42)以及第二驅動機構，所述活動板(1)與所述旋轉軸(41)的側面連接，所述旋轉軸(41)能夠帶動所述活動板(1)轉動；所述旋轉軸(41)轉動設置在所述安裝座(42)上，所述安裝座(42)與所述內管(32)遠離所述固定板(2)的端部連接，所述第二驅動機構用于驅動所述旋轉軸(41)轉動。
4.根據權利要求3所述的基板載具，其特征在于，所述第二調節組件(4)還包括連接座(43)，所述連接座(43)固設在所述旋轉軸(41)上，所述連接座(43)具有連接平面，所述連接平面與所述活動板(1)貼靠且固定連接。
5.根據權利要求4所述的基板載具，其特征在于，所述連接座(43)設置有多個，多個所述連接座(43)間隔設置在所述旋轉軸(41)上...
【專利技術屬性】
技術研發人員：姚力軍，潘杰，姚舜，王予叢，沈棟棟，
申請(專利權)人：浙江景昇薄膜科技有限公司，
類型：新型
國別省市：
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