【技術實現步驟摘要】
本專利技術屬于瓷磚生產，具體為一種用于瓷磚生產的磚底漿施釉裝置。
技術介紹
1、瓷磚，其主要原材料為耐火的金屬氧化物和半金屬氧化物，經過研磨、制漿、壓制、施釉和燒結等工序而成型。在燒結工序中，通常會在瓷磚的底面涂上一層氧化鋁漿，即磚底漿，以此避免瓷磚坯體粘結在隧道窯內的棍棒，減少生產過程中棍棒的更換或清潔次數，從而提升瓷磚生產量。
2、在現有技術中，通常采用施釉輥在移動的瓷磚底面涂上一層磚底漿，在瓷磚底部涂上一層磚底漿后，又會立馬接觸到后方的傳送輪將其運輸走，傳送輪的轉動會不可避免滾壞瓷磚底部涂好的磚底漿，從而影響到瓷磚施釉的效果，同時，傳送輪表面上粘附的一層磚底漿也會影響到傳送輪傳輸的能力以及使用壽命。
技術實現思路
1、本專利技術提供一種用于瓷磚生產的磚底漿施釉裝置，用于解決上述
技術介紹
中提出的技術問題。
2、為實現上述目的，本專利技術采用的技術方案是：
3、一種用于瓷磚生產的磚底漿施釉裝置，包括裝置本體，所述裝置本體內上端間隔安裝有前輪，所述前輪的一側間隔安裝有后輪，所述裝置本體內的瓷磚沿著從前輪到后輪的順序方向移動，所述前輪、后輪于裝置本體的上端水平布置且保持平齊，所述前輪與后輪之間轉動安裝有施釉輪，所述施釉輪下部間隔轉動安裝有粘漿輪，所述粘漿輪下端深入裝漿盆內，所述裝漿盆內裝有磚底漿，所述后輪的側壁上間隔設置有凸齒，所述裝置本體的一側外壁上設置有用于驅動前輪以及后輪轉動的第一驅動部，所述裝置本體的兩側壁內于后輪的位置處設置有收納室，所述
4、與現有技術相比，本專利技術的有益效果為：
5、本專利技術通過后輪、收納室、除漿裝置等結構的配合作用，使本裝置能夠通過后輪表面設置的凸齒減少與瓷磚底部的接觸，從而避免滾壞瓷磚底部涂好的磚底漿；同時通過驅動除漿裝置的移動將后輪內殘留的磚底漿刮除，提高傳輸能力以及后輪的使用壽命。
6、作為上述方案的進一步改進，所述除漿裝置包括除漿輪安裝座，所述除漿輪安裝座內轉動安裝有套在后輪外壁上的除漿輪，所述除漿輪內設置有與后輪側壁上凸齒適配的凹口，所述除漿輪安裝座下端設置有延伸部，所述延伸部的兩端面內設置有導液槽。
7、上述改進的技術效果為：通過除漿輪、除漿輪安裝座、導液槽、延伸部的設置，使本裝置的除漿裝置能夠適配后輪表面的凸齒，從而提高除漿裝置刮除后輪內殘留磚底漿的效果，同時通過導液槽、延伸部的配合，能夠將除漿裝置刮除的磚底漿更方便的排出。
8、作為上述方案的進一步改進，所述延伸部之間設置有連接塊，所述連接塊內間隔設置有導孔，所述導孔之間設置有螺紋孔，所述第二驅動部的輸出端穿過裝置本體的側壁連接有與螺紋孔適配的螺桿，所述導孔內安裝有與導孔內壁適配的導柱。
9、上述改進的技術效果為：通過連接塊、螺紋孔、導孔的設置，使本裝置能夠進一步的方便控制驅動除漿裝置的移動，并使除漿裝置的移動更加平穩。
10、作為上述方案的進一步改進，所述收納室位于裝漿盆的上方，且收納室底部向裝置本體內傾斜。
11、上述改進的技術效果為：通過收納室底部傾斜的設置，使本裝置能夠進一步的方便將除漿裝置從后輪上刮除的磚底漿收集到裝漿盆內。
12、作為上述方案的進一步改進，所述裝置本體內一側設置有安裝框，所述安裝框內間隔設置有滑塊，所述滑塊內安裝有粘漿輪的轉動軸，所述滑塊與安裝框內壁一側之間設置有彈簧。
13、上述改進的技術效果為：通過安裝框、滑塊、彈簧的設置，使本裝置的粘漿輪能夠隨著施釉輪的受到擠壓升降而左右滑動，進一步的提高本裝置的施釉效果。
14、作為上述方案的進一步改進，所述裝置本體的側壁上設置有與施釉輪轉動軸適配的第一腰形孔，所述裝置本體的側壁上設置有與粘漿輪轉動軸適配的第二腰形孔。
15、上述改進的技術效果為：通過第一腰形孔、第二腰形孔的設置，使本裝置的施釉輪能夠在第一腰形孔內上下滑動，粘漿輪能夠在第二腰形孔內左右滑動，進一步的提高了本裝置施釉輪在施釉時對于瓷磚底部的適配情況，使施釉輪能夠將磚底漿更加均勻的涂在瓷磚的底面，提高了施釉輪的施釉效果。
16、作為上述方案的進一步改進，所述裝置本體側壁上設置有第一安裝座，所述裝置本體遠離第一安裝座所在的側壁上設置有第二安裝座，所述第一安裝座上設置有第一驅動部，所述第二安裝座上設置有第二驅動部，所述第一驅動部的輸出端通過傳動裝置與前輪以及后輪傳動連接。
17、上述改進的技術效果為：通過第一安裝座、第二安裝座、傳動裝置等結構的設置，使本裝置的前輪以及后輪能夠同步轉動，能夠進一步的方便控制運行，提高本裝置的操作性。
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1.一種用于瓷磚生產的磚底漿施釉裝置，包括裝置本體(1)，所述裝置本體(1)內上端間隔安裝有前輪(2)，所述前輪(2)的一側間隔安裝有后輪(5)，所述裝置本體(1)內的瓷磚(17)沿著從前輪(2)到后輪(5)的順序方向移動，其特征在于，所述前輪(2)、后輪(5)于裝置本體(1)的上端水平布置且保持平齊，所述前輪(2)與后輪(5)之間轉動安裝有施釉輪(3)，所述施釉輪(3)下部間隔轉動安裝有粘漿輪(4)，所述粘漿輪(4)下端深入裝漿盆(7)內，所述裝漿盆(7)內裝有磚底漿，所述后輪(5)的側壁上間隔設置有凸齒，所述裝置本體(1)的一側外壁上設置有用于驅動前輪(2)以及后輪(5)轉動的第一驅動部(9)，所述裝置本體(1)的兩側壁內于后輪(5)的位置處設置有收納室(6)，所述收納室(6)內于后輪(5)處滑動安裝有與后輪(5)適配的除漿裝置(10)，所述裝置本體(1)于收納室(6)所在的側壁上設置有用于驅動除漿裝置(10)移動的第二驅動部(11)。
2.根據權利要求1所述的一種用于瓷磚生產的磚底漿施釉裝置，其特征在于，所述除漿裝置(10)包括除漿輪安裝座(102)，所述除漿輪
3.根據權利要求2所述的一種用于瓷磚生產的磚底漿施釉裝置，其特征在于，所述延伸部(104)之間設置有連接塊(105)，所述連接塊(105)內間隔設置有導孔(107)，所述導孔(107)之間設置有螺紋孔(106)，所述第二驅動部(11)的輸出端穿過裝置本體(1)的側壁連接有與螺紋孔(106)適配的螺桿(18)，所述導孔(107)內安裝有與導孔(107)內壁適配的導柱(19)。
4.根據權利要求3所述的一種用于瓷磚生產的磚底漿施釉裝置，其特征在于，所述收納室(6)位于裝漿盆(7)的上方，且收納室(6)底部向裝置本體(1)內傾斜。
5.根據權利要求1所述的一種用于瓷磚生產的磚底漿施釉裝置，其特征在于，所述裝置本體(1)內一側設置有安裝框(14)，所述安裝框(14)內間隔設置有滑塊(15)，所述滑塊(15)內安裝有粘漿輪(4)的轉動軸，所述滑塊(15)與安裝框(14)內壁一側之間設置有彈簧(16)。
6.根據權利要求5所述的一種用于瓷磚生產的磚底漿施釉裝置，其特征在于，所述裝置本體(1)的側壁上設置有與施釉輪(3)轉動軸適配的第一腰形孔(20)，所述裝置本體(1)的側壁上設置有與粘漿輪(4)轉動軸適配的第二腰形孔(21)。
7.根據權利要求1所述的一種用于瓷磚生產的磚底漿施釉裝置，其特征在于，所述裝置本體(1)側壁上設置有第一安裝座(13)，所述裝置本體(1)遠離第一安裝座(13)所在的側壁上設置有第二安裝座(12)，所述第一安裝座(13)上設置有第一驅動部(9)，所述第二安裝座(12)上設置有第二驅動部(11)，所述第一驅動部(9)的輸出端通過傳動裝置(8)與前輪(2)以及后輪(5)傳動連接。
...【技術特征摘要】
1.一種用于瓷磚生產的磚底漿施釉裝置，包括裝置本體(1)，所述裝置本體(1)內上端間隔安裝有前輪(2)，所述前輪(2)的一側間隔安裝有后輪(5)，所述裝置本體(1)內的瓷磚(17)沿著從前輪(2)到后輪(5)的順序方向移動，其特征在于，所述前輪(2)、后輪(5)于裝置本體(1)的上端水平布置且保持平齊，所述前輪(2)與后輪(5)之間轉動安裝有施釉輪(3)，所述施釉輪(3)下部間隔轉動安裝有粘漿輪(4)，所述粘漿輪(4)下端深入裝漿盆(7)內，所述裝漿盆(7)內裝有磚底漿，所述后輪(5)的側壁上間隔設置有凸齒，所述裝置本體(1)的一側外壁上設置有用于驅動前輪(2)以及后輪(5)轉動的第一驅動部(9)，所述裝置本體(1)的兩側壁內于后輪(5)的位置處設置有收納室(6)，所述收納室(6)內于后輪(5)處滑動安裝有與后輪(5)適配的除漿裝置(10)，所述裝置本體(1)于收納室(6)所在的側壁上設置有用于驅動除漿裝置(10)移動的第二驅動部(11)。
2.根據權利要求1所述的一種用于瓷磚生產的磚底漿施釉裝置，其特征在于，所述除漿裝置(10)包括除漿輪安裝座(102)，所述除漿輪安裝座(102)內轉動安裝有套在后輪(5)外壁上的除漿輪(101)，所述除漿輪(101)內設置有與后輪(5)側壁上凸齒適配的凹口，所述除漿輪安裝座(102)下端設置有延伸部(104)，所述延伸部(104)的兩端面內設置有導液槽(103)。
3.根據權利要求2所述的一種用于瓷磚生產的磚底漿施釉裝置，其特征在于，所述延伸部(104)之間設置有連接塊...
【專利技術屬性】
技術研發人員：童垸林，譚順林，劉交，鐘貴平，
申請(專利權)人：天欣科技股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
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