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    一種硅碳負極材料、制備方法、應(yīng)用、電池技術(shù)

    技術(shù)編號:40978256 閱讀:17 留言:0更新日期:2024-04-18 21:25
    本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種硅碳負極材料、制備方法、應(yīng)用、電池。該硅碳負極材料的制備方法包括下述步驟:將硅源進行甲烷氣相碳包覆,可得硅碳負極材料;其中,甲烷氣相碳包覆時,體系的真空度為300?5000Pa;硅源和甲烷的質(zhì)量體積比為1kg:(10?150)L。本發(fā)明專利技術(shù)的硅碳負極材料的中硅源表面的包覆層的均勻性和覆蓋度較佳,碳沉積層具有特殊的表面結(jié)構(gòu),可以緩沖充放電過程中負極材料的體積變化,使得該負極材料可實現(xiàn)較好的電化學(xué)性能。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及一種硅碳負極材料、制備方法、應(yīng)用、電池


    技術(shù)介紹

    1、鋰離子電池作為一種高效、環(huán)保的儲能設(shè)備,在電動汽車、移動設(shè)備等領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。在鋰離子電池中,負極材料是影響電池性能的關(guān)鍵因素之一。氧化亞硅作為一種新型的負極材料,具有高容量、良好的電化學(xué)性能和穩(wěn)定性,被認為是下一代鋰離子電池的理想負極材料。然而,氧化亞硅負極材料在充放電過程中存在嚴重的體積效應(yīng),導(dǎo)致電池的循環(huán)穩(wěn)定性和倍率性能下降。因此,對其進行表面改性是一種常見的改進措施。

    2、cn116995202a公開了一種非金屬元素摻雜碳包覆硅氧復(fù)合負極材料的制備方法,采用羧甲基纖維素鈉和硫脲通過有機交聯(lián)反應(yīng)在硅氧化物的表面形成緊密的交聯(lián)結(jié)構(gòu),熱處理后形成分布均勻且穩(wěn)定性好的氮、硫元素摻雜的碳包覆層,能夠防止硅氧化物易發(fā)生大的體積膨脹。但是通過有機聚合物交聯(lián)形成的結(jié)構(gòu)在siox表面的均勻性和覆蓋度可能受到限制,并且在生產(chǎn)過程中需要使用大量的有機聚合物,這可能會增加成本和環(huán)境負擔。

    3、氧化亞硅負極碳包覆能夠提升其容量和首效,現(xiàn)階段主流包覆氣源為甲烷或乙炔,甲烷包覆能夠很好的改善鋰離子脫嵌性能;但甲烷裂解需要較高溫度,溫度過高又會對材料性能有惡化的影響及設(shè)備最高使用溫度的限制,導(dǎo)致甲烷利用率較低。乙炔包覆裂解溫度較低,但乙炔所裂解的碳層結(jié)構(gòu)較為致密,限制了鋰離子的脫嵌過程,導(dǎo)致循環(huán)性能較差。


    技術(shù)實現(xiàn)思路

    1、本專利技術(shù)所要解決的技術(shù)問題在于克服了現(xiàn)有技術(shù)中硅碳負極材料的電化學(xué)性能較差的缺陷,而提供了一種硅碳負極材料、制備方法、應(yīng)用、電池。本專利技術(shù)的硅碳負極材料的中硅源表面的包覆層的均勻性和覆蓋度較佳,碳沉積層具有特殊的表面結(jié)構(gòu),可以緩沖充放電過程中負極材料的體積變化,使得該負極材料可實現(xiàn)較好的電化學(xué)性能。

    2、本專利技術(shù)是通過下述技術(shù)方案來解決上述技術(shù)問題。

    3、本專利技術(shù)提供了一種硅碳負極材料的制備方法,其包括下述步驟:將硅源進行甲烷氣相碳包覆,可得所述硅碳負極材料;

    4、其中,所述甲烷氣相碳包覆時,體系的真空度為300-5000pa;所述硅源和所述甲烷的質(zhì)量體積比為1kg:(10-150)l。

    5、本專利技術(shù)中,所述硅源可為本領(lǐng)域常規(guī)的含有硅的顆粒材料,例如硅和/或氧化亞硅。

    6、本專利技術(shù)中,所述硅源的d50粒徑可為3-10μm,例如5μm。

    7、本專利技術(shù)中,甲烷氣相碳包覆的設(shè)備可為回轉(zhuǎn)爐。較佳地,在進行所述甲烷氣相碳包覆之前,一般先將所述硅源至于回轉(zhuǎn)爐中,進行氣體置換。所述氣體置換時的氣體較佳地為氮氣。所述氮氣的氣體流量可為3-10l/min,例如5l/min。所述氮氣的通入時間可為1-3h。所述氣體置換的終點可為回轉(zhuǎn)爐中氧含量低于300ppm。

    8、本專利技術(shù)中,所述甲烷氣相碳包覆時,體系的真空度表示系統(tǒng)絕對壓強實際數(shù)值低于大氣壓強的數(shù)值,即為真空度=大氣壓強-絕對壓強。所述大氣壓強表示標準大氣壓,即在0℃時為101.325kpa。

    9、本專利技術(shù)中,所述甲烷氣相碳包覆時,體系的真空度為較佳地為500-3000pa,例如800pa、1000pa或2000pa。

    10、本專利技術(shù)中,專利技術(shù)人在研發(fā)過程中發(fā)現(xiàn),低壓氣相(真空度為300-5000pa)沉積下,不僅可以使得甲烷獲得較佳的裂解率,還有助于提高碳包覆層的純度。

    11、本專利技術(shù)中,所述甲烷氣相碳包覆時,體系的溫度可為500-1200℃,較佳地為600-1000℃,例如800或900℃。所述體系的溫度表示在甲烷氣相碳包覆時,體系的溫度一直保持在上述范圍內(nèi)。

    12、本專利技術(shù)中,所述甲烷氣相碳包覆的時間可為2-8h,較佳地為3-6h,例如5h。

    13、本專利技術(shù)中,所述甲烷的氣體流量可為0.5-2l/min,較佳地為0.7-1.5l/min,例如1l/min。

    14、本專利技術(shù)中,所述甲烷氣相碳包覆時一般還通入載氣。所述載氣的目的在于保持體系的真空度不變。所述載氣可為氮氣。所述載氣的氣體流量可為0.1-1l/min,較佳地為0.3-0.8l/min。

    15、本專利技術(shù)中,所述硅源和所述甲烷的質(zhì)量體積比較佳地為1kg:(30-120)l,例如1kg:60l。

    16、本專利技術(shù)中,較佳地,在將所述硅源進行甲烷氣相碳包覆之前,還進行硼的沉積,例如包括下述步驟:將硅源依次進行硼源氣相沉積和甲烷氣相碳包覆。

    17、其中,所述硼源可為本領(lǐng)域常規(guī)的含硼氣體。所述硼源的種類較佳地為乙硼烷(b2h4)、丁硼烷(b4h10)和六硼化物(b6h10)中的一種或多種,例如乙硼烷(b2h4)。

    18、其中,所述硼源氣相沉積時,體系的真空度表示系統(tǒng)絕對壓強實際數(shù)值低于大氣壓強的數(shù)值,即為真空度=大氣壓強-絕對壓強。所述大氣壓強表示標準大氣壓,即在0℃時為101.325kpa。

    19、其中,所述硼源氣相沉積時,體系的真空度較佳地為300-5000pa,更佳地為500-3000pa,例如800pa、1000pa或2000pa。

    20、其中,專利技術(shù)人在研發(fā)過程中發(fā)現(xiàn),低壓氣相(真空度為300-5000pa)沉積下,硼烷可以獲得較佳的裂解率。

    21、其中,所述硼源氣相沉積時,體系的溫度較佳地為300-900℃,例如600或800℃。所述體系的溫度表示在甲烷氣相碳包覆時,體系的溫度一直保持在上述范圍內(nèi)。

    22、其中,專利技術(shù)人在研發(fā)過程中發(fā)現(xiàn),當在300-900℃下通入硼源時,形成的硼沉積層可為無定形硼結(jié)構(gòu),且無定形硼結(jié)構(gòu)有利于甲烷在硼沉積層表面的沉積。

    23、其中,所述硼源氣相沉積的時間較佳地為1-5h,例如2或3h。

    24、其中,所述硼源通入的氣體流量較佳地為1-8l/min,更佳地為2-6l/min,例如3l/min或5l/min。

    25、其中,所述硼源通入時一般還通入載氣。所述載氣的目的在于保持體系的真空度不變。所述載氣可為氮氣。所述載氣的氣體流量可為0.1-1l/min,較佳地為0.3-0.8l/min。

    26、其中,所述硅源和所述硼源的質(zhì)量體積比較佳地為1kg:(12-480)l,更佳地為1kg:(20-144)l,例如1kg:24l、1kg:72l或1kg:120l。

    27、本專利技術(shù)還提供了一種硅碳負極材料,其采用如前所述的制備方法制得。

    28、本專利技術(shù)還提供了一種硅碳負極材料,其包括硅源和包覆在所述硅源表面的碳沉積層;所述碳沉積層為碳無序鱗片狀刺突結(jié)構(gòu);

    29、其中,所述硅碳負極材料中,碳含量為1%-5%。

    30、本專利技術(shù)中,所述碳無序鱗片狀刺突結(jié)構(gòu)是指甲烷裂解后所形成的結(jié)構(gòu),其示意圖如圖1所示。

    31、本專利技術(shù)中,所述硅碳負極材料中,碳含量較佳地為1.5%-4%,例如1.75%、3.01%、3.26%、3.32%、3.55%、3.75%、3.76%或3.87%。

    32、本專利技術(shù)中,所述硅碳負極材本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護點】

    1.一種硅碳負極材料的制備方法,其特征在于,其包括下述步驟:將硅源進行甲烷氣相碳包覆,可得所述硅碳負極材料;

    2.如權(quán)利要求1所述的硅碳負極材料的制備方法,其特征在于,所述硅碳負極材料的制備方法滿足下述條件中的一種或多種:

    3.如權(quán)利要求1所述的硅碳負極材料的制備方法,其特征在于,在將所述硅源進行甲烷氣相碳包覆之前,還進行硼的沉積;較佳地包括下述步驟:將硅源依次進行硼源氣相沉積和甲烷氣相碳包覆。

    4.如權(quán)利要求3所述的硅碳負極材料的制備方法,其特征在于,所述硅碳負極材料的制備方法滿足下述條件中的一種或多種:

    5.一種硅碳負極材料,其特征在于,其采用如權(quán)利要求1-4中任一項所述的制備方法制得。

    6.一種硅碳負極材料,其特征在于,其包括硅源和包覆在所述硅源表面的碳沉積層;所述碳沉積層為碳無序鱗片狀刺突結(jié)構(gòu);

    7.如權(quán)利要求6所述的硅碳負極材料,其特征在于,所述硅碳負極材料滿足下述條件中的一種或多種:

    8.如權(quán)利要求6所述的硅碳負極材料,其特征在于,所述硅碳負極材料還含有硼沉積層;所述硼沉積層較佳地為無定形硼結(jié)構(gòu);

    9.一種如權(quán)利要求5-8中任一項所述的硅碳負極材料在電池中的應(yīng)用。

    10.一種電池,其特征在于,其包括如權(quán)利要求5-8中任一項所述的硅碳負極材料。

    ...

    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種硅碳負極材料的制備方法,其特征在于,其包括下述步驟:將硅源進行甲烷氣相碳包覆,可得所述硅碳負極材料;

    2.如權(quán)利要求1所述的硅碳負極材料的制備方法,其特征在于,所述硅碳負極材料的制備方法滿足下述條件中的一種或多種:

    3.如權(quán)利要求1所述的硅碳負極材料的制備方法,其特征在于,在將所述硅源進行甲烷氣相碳包覆之前,還進行硼的沉積;較佳地包括下述步驟:將硅源依次進行硼源氣相沉積和甲烷氣相碳包覆。

    4.如權(quán)利要求3所述的硅碳負極材料的制備方法,其特征在于,所述硅碳負極材料的制備方法滿足下述條件中的一種或多種:

    5.一種硅碳負極材料,其特征...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:陳真吳玉虎李宇飛丁曉陽
    申請(專利權(quán))人:寧波杉杉硅基材料有限公司
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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