本發(fā)明專利技術(shù)涉及一種局部循環(huán)供氧生物膜反應(yīng)裝置，該裝置由局部循環(huán)曝氣池和沉淀池連接構(gòu)成；所述局部循環(huán)曝氣池的中央設(shè)置供氧裝置和環(huán)形導流板，局部循環(huán)曝氣池中填充生物填料，導流板上方設(shè)置溢流堰；所述環(huán)形導流板底腳支架上端與環(huán)形導流板連接，與池底形成污泥回流空隙；所述沉淀池為斜板式，與局部循環(huán)曝氣池利用擋板相隔，出水經(jīng)溢流堰進入溢流槽，經(jīng)溢流口由導水管排出，在沉淀池溢流堰末端設(shè)污水循環(huán)泵，經(jīng)回流管，部分出水回流與進水混合后進入局部循環(huán)曝氣池，局部循環(huán)曝氣池與沉淀池交口底部設(shè)污泥排出口，沉淀池的污泥回流到污泥排出口定期排出。該裝置可對分散的生活污水和高有機物的畜禽養(yǎng)殖廢水進行快速無害化、資源化處理。
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及一種污水深度處理裝置，特別涉及一種對小流量不同濃度生化性好的 廢水均能進行處理的低功耗、低污泥量的局部循環(huán)供氧生物膜反應(yīng)裝置。
技術(shù)介紹
目前，隨著我國經(jīng)濟的快速發(fā)展，對水資源和能源的巨大需求，以及未經(jīng)處理的污 水對環(huán)境壓力日益巨大，嚴重的破壞了河流、湖泊水體的生態(tài)平衡，污染了大量耕地，進一 步完善設(shè)計合理、管理簡單的污水資源化利用的新型設(shè)施更顯得尤為重要。現(xiàn)普遍應(yīng)用的 Α/Α/0和SBR等技術(shù)存在工藝復雜，能耗高和產(chǎn)生的污泥量大等缺點。因此，如何對生化性好的廢水進行無害化處理、資源化利用，形成循環(huán)利用的再生 水資源的同時，減少能源消耗和污泥的產(chǎn)生，減輕后續(xù)污泥處理壓力，提供一種效果突出的 局部循環(huán)供氧生物膜反應(yīng)裝置，是該領(lǐng)域當前急待解決的難題之一。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的目的在于克服上述不足之處，提供一種對可生化性污水進行處理效果顯 著的局部循環(huán)供氧生物膜反應(yīng)裝置。為實現(xiàn)上述目的本專利技術(shù)所采用的實施方式如下一種局部循環(huán)供氧生物膜反應(yīng)裝 置，其特征在于該裝置由局部循環(huán)曝氣池和沉淀池兩部分連接構(gòu)成形成一體；所述局部循環(huán)曝氣池的中央設(shè)置曝氣盤和環(huán)形導流板，局部循環(huán)曝氣池內(nèi)填充懸浮生 物球；環(huán)形導流板上方設(shè)置溢流堰，環(huán)形導流板下方內(nèi)部設(shè)置曝氣盤；進水管穿過局部循 環(huán)曝氣池側(cè)壁并用進水管加固件固定在側(cè)壁上，進水管的另一端固定在進水口上，進水口 位于曝氣盤的下方，進水管經(jīng)局部循環(huán)曝氣池側(cè)壁，固定在環(huán)形導流板側(cè)壁上，出水口位于 內(nèi)側(cè)壁，并位于曝氣盤下方；所述環(huán)形導流板底腳支架上端與環(huán)形導流板連接，支架下部固 定在局部循環(huán)曝氣池底部，使環(huán)形導流板與池底形成水流間隙，局部循環(huán)曝氣池底部為坡 型結(jié)構(gòu)；所述沉淀池為斜板式，與局部循環(huán)曝氣池利用擋板相隔，沉淀池末端頂部設(shè)置溢流 堰和溢流槽，溢流槽底部或側(cè)壁中心設(shè)置溢流口與導水管相連，在沉淀池上設(shè)有污水循環(huán) 泵，污水循環(huán)泵與回流管相連，回流管末端與進水管連接，局部循環(huán)曝氣池與沉淀池連接處 底部設(shè)污泥排出口 ；所述擋板底部對應(yīng)沉淀池池底處設(shè)有污泥回流口。所述局部循環(huán)曝氣池內(nèi)安裝填料，所述填料為固定式填料或為懸浮式填料。所述局部循環(huán)曝氣池內(nèi)安裝固定式填料，環(huán)形導流板與局部循環(huán)曝氣池底部間隙 5-lOcm，環(huán)形導流板頂部距水面3-5cm ；環(huán)形導流板內(nèi)的水中溶解氧濃度控制在2_3mg/L之 間。所述局部循環(huán)曝氣池內(nèi)安裝懸浮式填料，環(huán)形導流板底部與局部循環(huán)曝氣池底部 間隙距離為懸浮式填料直徑的2-3倍，環(huán)形導流板頂部距水面距離為懸浮式填料直徑的 1. 5-2倍；環(huán)形導流板內(nèi)的水中溶解氧濃度為4-5mg/L。所述局部循環(huán)曝氣池的底部呈3° 5°的坡形底，污泥排出口處于坡底處。所述局部循環(huán)曝氣池與沉淀池有效容積比控制在2-4:1之間；在擋板處局部循環(huán) 曝氣池底部直接與沉淀池斜板式池底相連接，擋板與沉淀池池底形成污泥回流口要小于局 部循環(huán)曝氣池中的懸浮式填料的直徑；或采用固定式填料方式時，則以水量為基準，水流上 升速度不超過lm/h。本專利技術(shù)的有益效果是該反應(yīng)裝置適合各類可生化有機廢水快速處理的新型裝 置。該裝置可對廢水進行無害化、資源化處理，形成循環(huán)利用的再生水資源，同時減少能源 消耗和污泥的產(chǎn)生。通過對局部循環(huán)曝氣區(qū)內(nèi)的填料形式的改變，可以適應(yīng)不同濃度的廢 水處理要求。本專利技術(shù)具有建設(shè)投資少、能耗低、運行穩(wěn)定，操作簡便，污泥產(chǎn)生量小，噸水處 理成本低廉等特點，且便于大范圍推廣應(yīng)用。總之，本專利技術(shù)結(jié)構(gòu)設(shè)計合理，使用方便，應(yīng)用廣 泛，效果非常顯著。附圖說明圖1是本專利技術(shù)裝置結(jié)構(gòu)連接俯視示意圖； 圖2是沿圖1 A-A向剖視結(jié)構(gòu)示意圖中1局部循環(huán)曝氣池，1-1進水管，1-2環(huán)形導流板，1-3曝氣盤，1-4懸浮生物球，1-5溢流堰，1-6環(huán)形導流板底腳支架，1-7環(huán)形導流板進水口，1-8進水管加固件，1-9污泥 排出口；2沉淀池，2-1循環(huán)管路，2-2循環(huán)泵，2-3擋板，2-4溢流堰，2-5出水口，2-6出水收 集槽，2-7導水管，2-8污泥回流口。具體實施例方式以下結(jié)合附圖和較佳實施例，對依據(jù)本專利技術(shù)提供的具體實施方式、結(jié)構(gòu)、特征詳述 如下如圖1、圖2所示，一種局部循環(huán)供氧生物膜反應(yīng)裝置，該裝置由局部循環(huán)曝氣池1和沉 淀池2兩部分連接構(gòu)成形成一體；所述局部循環(huán)曝氣池1的中央設(shè)置曝氣盤1-3和環(huán)形導流板1-2，局部循環(huán)曝氣池內(nèi)填 充懸浮生物球1-4 ；環(huán)形導流板1-2上方設(shè)置溢流堰1-5，環(huán)形導流板1-2下方內(nèi)部設(shè)置曝 氣盤1-3 ；進水管1-1穿過局部循環(huán)曝氣池側(cè)壁并用進水管加固件1-8固定在側(cè)壁上，進水 管1-1的另一端固定在環(huán)形導流板進水口 1-7上，進水口 1-7位于曝氣盤1-3的下方，進水 管1-1經(jīng)局部循環(huán)曝氣池側(cè)壁，固定在環(huán)形導流板1-2側(cè)壁上，出水口位于內(nèi)側(cè)壁，并位于 曝氣盤1-3下方；所述環(huán)形導流板底腳支架1-6上端與環(huán)形導流板1-2連接，下部固定在局 部循環(huán)曝氣池1底部，使環(huán)形導流板1-2與池底形成水流間隙，局部循環(huán)曝氣池1底部為坡 型結(jié)構(gòu)。所述沉淀池2為斜板式，與局部循環(huán)曝氣池1利用擋板2-3相隔，沉淀池2末端頂 部設(shè)置溢流堰2-4和溢流槽2-6，溢流槽2-6底部或側(cè)壁中心設(shè)置溢流口 2-5與導水管2_7 相連，在沉淀池2上設(shè)有污水循環(huán)泵2-2，污水循環(huán)泵2-2與回流管2-1相連，回流管2-1 末端與進水管連接，局部循環(huán)曝氣池1與沉淀池2連接處底部設(shè)污泥排出口 1-9 ；所述擋板2-3底部對應(yīng)沉淀池2池底處設(shè)有污泥回流口2-8。運行中，出水經(jīng)溢流堰2-4進入溢流槽2-6，再經(jīng)溢流口 2-5由導水管2_7排出，可 在沉淀池2溢流堰2-4上設(shè)有污水循環(huán)泵2-2，經(jīng)回流管2-1，部分出水回流與進水混合后4進入局部循環(huán)曝氣池1，局部循環(huán)曝氣池1與沉淀池2連接處底部設(shè)污泥排出口 1-9，局部 循環(huán)曝氣池1內(nèi)剩余污泥經(jīng)污泥排出口 1-9定期排出。該裝置為一體式設(shè)計，整個裝置根據(jù)實際情況可采用鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)或采用全鋼 結(jié)構(gòu)。所述局部循環(huán)曝氣池1內(nèi)安裝填料，所述填料為固定式填料(彈性填料或組合填 料等)或懸浮式填料(球形填料或環(huán)形填料)。所述局部循環(huán)曝氣池1內(nèi)安裝固定式填料，環(huán)形導流板1-2底部距局部循環(huán)曝氣 池1底部5-lOcm，環(huán)形導流板1-2頂部距水面3_5cm ；環(huán)形導流板1_2內(nèi)的水中溶解氧濃度 控制在2-3mg/L之間；所述局部循環(huán)曝氣池1內(nèi)安裝懸浮填料，環(huán)形導流板1-2底部與局部循環(huán)曝氣池1底 部間隙距離為懸浮填料直徑的2-3倍，環(huán)形導流板1-2頂部距水面距離為懸浮填料直徑的 1. 5-2倍；環(huán)形導流板1-2內(nèi)的水中溶解氧濃度為4-5mg/L。所述局部循環(huán)曝氣池1的底部呈3° 5°的坡形底，污泥排出口 1-9處于坡底 處。所述局部循環(huán)曝氣池1與沉淀池2有效容積比控制在2-4 1之間，沉淀池2無池 底，在擋板2-3處局部循環(huán)曝氣池1底部直接與沉淀池2斜坡相連接；擋板2-3與斜坡形成 導水縫隙，即擋板2-3與沉淀池2池底形成的污泥回流口 2-8要小于局部循環(huán)曝氣池中的 懸浮式填料的直徑；或采用固定式填料方式，則以水量為基準，水流上升速度不超過lm/h。所述局部循環(huán)曝氣池1和沉淀池2、均呈立方體或圓柱體，且為一體化結(jié)構(gòu)。該裝置的所有構(gòu)筑物可為全地上式或半地埋式，其主體采用本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護點】
一種局部循環(huán)供氧生物膜反應(yīng)裝置，其特征在于該裝置由局部循環(huán)曝氣池和沉淀池兩部分連接構(gòu)成形成一體； 所述局部循環(huán)曝氣池的中央設(shè)置曝氣盤和環(huán)形導流板，局部循環(huán)曝氣池內(nèi)填充懸浮生物球；環(huán)形導流板上方設(shè)置溢流堰，環(huán)形導流板下方內(nèi)部設(shè)置曝氣盤；進水管穿過局部循環(huán)曝氣池側(cè)壁并用進水管加固件固定在側(cè)壁上，進水管的另一端固定在進水口上，進水口位于曝氣盤的下方，進水管經(jīng)局部循環(huán)曝氣池側(cè)壁，固定在環(huán)形導流板側(cè)壁上，出水口位于內(nèi)側(cè)壁，并位于曝氣盤下方；所述環(huán)形導流板底腳支架上端與環(huán)形導流板連接，支架下部固定在局部循環(huán)曝氣池底部，使環(huán)形導流板與池底形成水流間隙，局部循環(huán)曝氣池底部為坡型結(jié)構(gòu)；所述沉淀池為斜板式，與局部循環(huán)曝氣池利用擋板相隔，沉淀池末端頂部設(shè)置溢流堰和溢流槽，溢流槽底部或側(cè)壁中心設(shè)置溢流口與導水管相連，在沉淀池上設(shè)有污水循環(huán)泵，污水循環(huán)泵與回流管相連，回流管末端與進水管連接，局部循環(huán)曝氣池與沉淀池連接處底部設(shè)污泥排出口；所述擋板底部對應(yīng)沉淀池池底處設(shè)有污泥回流口。
【技術(shù)特征摘要】
一種局部循環(huán)供氧生物膜反應(yīng)裝置，其特征在于該裝置由局部循環(huán)曝氣池和沉淀池兩部分連接構(gòu)成形成一體；所述局部循環(huán)曝氣池的中央設(shè)置曝氣盤和環(huán)形導流板，局部循環(huán)曝氣池內(nèi)填充懸浮生物球；環(huán)形導流板上方設(shè)置溢流堰，環(huán)形導流板下方內(nèi)部設(shè)置曝氣盤；進水管穿過局部循環(huán)曝氣池側(cè)壁并用進水管加固件固定在側(cè)壁上，進水管的另一端固定在進水口上，進水口位于曝氣盤的下方，進水管經(jīng)局部循環(huán)曝氣池側(cè)壁，固定在環(huán)形導流板側(cè)壁上，出水口位于內(nèi)側(cè)壁，并位于曝氣盤下方；所述環(huán)形導流板底腳支架上端與環(huán)形導流板連接，支架下部固定在局部循環(huán)曝氣池底部，使環(huán)形導流板與池底形成水流間隙，局部循環(huán)曝氣池底部為坡型結(jié)構(gòu)；所述沉淀池為斜板式，與局部循環(huán)曝氣池利用擋板相隔，沉淀池末端頂部設(shè)置溢流堰和溢流槽，溢流槽底部或側(cè)壁中心設(shè)置溢流口與導水管相連，在沉淀池上設(shè)有污水循環(huán)泵，污水循環(huán)泵與回流管相連，回流管末端與進水管連接，局部循環(huán)曝氣池與沉淀池連接處底部設(shè)污泥排出口；所述擋板底部對應(yīng)沉淀池池底處設(shè)有污泥回流口。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的局部循環(huán)供氧生物膜反應(yīng)裝置，其...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：吳迪，高賢彪，趙琳娜，何宗均，
申請(專利權(quán))人：天津市農(nóng)業(yè)資源與環(huán)境研究所，
類型：發(fā)明
國別省市：12[中國|天津]
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