【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本技術(shù)涉及光電催化反應(yīng),特別涉及一種光電化學反應(yīng)裝置。
技術(shù)介紹
1、光電催化反應(yīng)技術(shù)是一種被廣泛關(guān)注和研究的技術(shù),它具有環(huán)保、高效、可持續(xù)等特點,被認為是未來環(huán)保技術(shù)的發(fā)展方向之一。
2、現(xiàn)有的技術(shù)公開了一種光電化學反應(yīng)裝置,光電化學反應(yīng)裝置包括流道板和電反應(yīng)結(jié)構(gòu),電反應(yīng)結(jié)構(gòu)的正反應(yīng)電極塊、負反應(yīng)電極塊設(shè)置在流道板內(nèi)的腔室,流道板的腔室內(nèi)流動有含有反應(yīng)物質(zhì)的溶液,溶液被光線照射,可以發(fā)生光電化學反應(yīng)。
3、但現(xiàn)有正反應(yīng)電極塊和負反應(yīng)電極塊在相對的表面形成有的插條,插條在流道板內(nèi)占用面積較大,遮擋到光線照射腔室內(nèi)的溶液,以致于光電化學反應(yīng)器的光電化學反應(yīng)效率降低。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本技術(shù)的主要目的是提供一種光電化學反應(yīng)裝置,旨在解決現(xiàn)有的光電化學反應(yīng)裝置存在光電化學反應(yīng)器的光電化學反應(yīng)效率低的問題。
2、為實現(xiàn)上述目的,本技術(shù)提出的光電化學反應(yīng)裝置,包括:
3、反應(yīng)池體,所述反應(yīng)池體內(nèi)設(shè)有腔室,所述反應(yīng)池體的一側(cè)設(shè)有插孔,所述插孔與所述腔室連通;
4、多個第一電極件,所述第一電極件貫穿所述插孔并插設(shè)于所述腔室;和
5、第二電極件,所述第二電極件設(shè)于所述反應(yīng)池體,所述第二電極件凸設(shè)有多個間隔設(shè)置的電極柱,多個所述電極柱設(shè)于所述腔室。
6、可選地,多個所述電極柱陣列排布,以形成多個沿所述反應(yīng)池體的長度方向排布的電極柱排。
7、可選地,相鄰兩個所述電極柱排之間具有限位空間,所述第一電極件插設(shè)
8、可選地,多個所述電極柱排和多個所述第一電極件將所述腔室分割形成多個分支流道。
9、可選地,所述第一電極件的部分結(jié)構(gòu)插設(shè)于所述腔室,另一部分結(jié)構(gòu)外顯于所述反應(yīng)池體的外部。
10、可選地,所述第一電極件包括第一插件和第二插件,所述反應(yīng)池體在長度方向上具有相對的第一側(cè)和第二側(cè),所述第一側(cè)和所述第二側(cè)均設(shè)有插孔,所述第一插件與所述第二插件分別插設(shè)于所述反應(yīng)池體第一側(cè)和第二側(cè),且所述第一插件與所述第二插件錯位設(shè)置。
11、可選地,所述第一插件和所述第二插件均設(shè)有插柱和卡套,所述卡套套設(shè)于所述插柱,并將所述插柱分隔出第一柱體和第二柱體,所述卡套卡接于所述插孔,所述第一柱體插設(shè)于所述腔室內(nèi),所述第二柱體設(shè)于所述反應(yīng)池體的外部;所述第一插件的第一柱體與所述第二插件的第一柱體間隔設(shè)置,所述第一插件的第二柱體與所述第二插件的第二柱體錯位設(shè)置。
12、可選地,所述反應(yīng)池體的內(nèi)壁均凸出設(shè)置有限位塊,所述限位塊對應(yīng)所述插孔設(shè)置,且所述插孔貫穿所述限位塊,所述第一柱體貫穿所述插孔并插設(shè)于所述限位塊。
13、可選地,所述光電化學反應(yīng)裝置還包括透光板,所述透光板蓋合所述反應(yīng)池體。
14、可選地,所述反應(yīng)池體在寬度方向上具有相對的第三側(cè)和第四側(cè),所述第三側(cè)和所述第四側(cè)分別設(shè)有進液口和出液口,所述進液口和出液口均與所述腔室連通。
15、本技術(shù)技術(shù)方案通過采用第二電極件凸設(shè)有多個間隔設(shè)置的電極柱本技術(shù)采用在反應(yīng)池體的側(cè)面插入第一電極件,并在腔室設(shè)置第二電極件,第二電極件凸設(shè)有多個間隔設(shè)置的電極柱,第一電極件和第二電極件的電極柱在腔室內(nèi)占用面積小,光線能夠照射到更多腔室內(nèi)的溶液,進而可以提升光電化學反應(yīng)器的光電化學反應(yīng)效率。且第一電極件可以對腔室內(nèi)的溶液進行擾流,以增加傳質(zhì),進一部提升光電化學反應(yīng)器的光電化學反應(yīng)效率。
本文檔來自技高網(wǎng)...【技術(shù)保護點】
1.一種光電化學反應(yīng)裝置,其特征在于,包括:
2.如權(quán)利要求1所述的光電化學反應(yīng)裝置,其特征在于,多個所述電極柱陣列排布,以形成多個沿所述反應(yīng)池體的長度方向排布的電極柱排。
3.如權(quán)利要求2所述的光電化學反應(yīng)裝置,其特征在于,相鄰兩個所述電極柱排之間具有限位空間,所述第一電極件插設(shè)于所述限位空間,且所述第一電極件與相鄰兩所述電極柱排之間具有間距。
4.如權(quán)利要求3所述的光電化學反應(yīng)裝置,其特征在于,多個所述電極柱排和多個所述第一電極件將所述腔室分割形成多個分支流道。
5.如權(quán)利要求1至3中任意一項中所述的光電化學反應(yīng)裝置,其特征在于,所述第一電極件的部分結(jié)構(gòu)插設(shè)于所述腔室,另一部分結(jié)構(gòu)外顯于所述反應(yīng)池體的外部。
6.如權(quán)利要求5所述的光電化學反應(yīng)裝置,其特征在于,所述第一電極件包括第一插件和第二插件,所述反應(yīng)池體在長度方向上具有相對的第一側(cè)和第二側(cè),所述第一側(cè)和所述第二側(cè)均設(shè)有插孔,所述第一插件與所述第二插件分別插設(shè)于所述反應(yīng)池體第一側(cè)和第二側(cè),且所述第一插件與所述第二插件錯位設(shè)置。
7.如權(quán)利要求6所述的光
8.如權(quán)利要求7所述的光電化學反應(yīng)裝置,其特征在于,所述反應(yīng)池體的內(nèi)壁均凸出設(shè)置有限位塊,所述限位塊對應(yīng)所述插孔設(shè)置,且所述插孔貫穿所述限位塊,所述第一柱體貫穿所述插孔并插設(shè)于所述限位塊。
9.如權(quán)利要求1至4中任意一項所述的光電化學反應(yīng)裝置,其特征在于,所述光電化學反應(yīng)裝置還包括透光板,所述透光板蓋合所述反應(yīng)池體。
10.如權(quán)利要求1至4中任意一項所述的光電化學反應(yīng)裝置,其特征在于,所述反應(yīng)池體在寬度方向上具有相對的第三側(cè)和第四側(cè),所述第三側(cè)和所述第四側(cè)分別設(shè)有進液口和出液口,所述進液口和出液口均與所述腔室連通。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種光電化學反應(yīng)裝置,其特征在于,包括:
2.如權(quán)利要求1所述的光電化學反應(yīng)裝置,其特征在于,多個所述電極柱陣列排布,以形成多個沿所述反應(yīng)池體的長度方向排布的電極柱排。
3.如權(quán)利要求2所述的光電化學反應(yīng)裝置,其特征在于,相鄰兩個所述電極柱排之間具有限位空間,所述第一電極件插設(shè)于所述限位空間,且所述第一電極件與相鄰兩所述電極柱排之間具有間距。
4.如權(quán)利要求3所述的光電化學反應(yīng)裝置,其特征在于,多個所述電極柱排和多個所述第一電極件將所述腔室分割形成多個分支流道。
5.如權(quán)利要求1至3中任意一項中所述的光電化學反應(yīng)裝置,其特征在于,所述第一電極件的部分結(jié)構(gòu)插設(shè)于所述腔室,另一部分結(jié)構(gòu)外顯于所述反應(yīng)池體的外部。
6.如權(quán)利要求5所述的光電化學反應(yīng)裝置,其特征在于,所述第一電極件包括第一插件和第二插件,所述反應(yīng)池體在長度方向上具有相對的第一側(cè)和第二側(cè),所述第一側(cè)和所述第二側(cè)均設(shè)有插孔,所述第一插件與所述第二插件分別插設(shè)于所述反應(yīng)池體第一側(cè)和第二側(cè),且所述第一插件與所述第二插...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:張海彬,婁佳航,王志磊,吳振宏,鐘明,李正強,
申請(專利權(quán))人:深圳市一正科技有限公司,
類型:新型
國別省市:
還沒有人留言評論。發(fā)表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。