【技術實現步驟摘要】
【】本專利技術涉及半導體掩模制造，其特別涉及一種掩模圖形全局屬性獲取方法、系統及存儲介質。
技術介紹
0、
技術介紹
1、光刻工藝過程中，芯片圖形技術發展到180nm節點后，光刻機的曝光波長已經不能滿足器件中的最小線寬圖形的制造要求。相鄰圖形會在光的干涉和衍射效應作用下發生畸變，即所謂的光學鄰近效應(optical?proximity?effect，ope)，為了補償這種效應，使得晶圓上得到和設計相同的圖形，必須對掩模上的圖形做適當的修正(opc,光學鄰近效應修正)。在修正過程中，會遵循一定的原則，將原來的圖形打斷偏移，以使得其曝光出來的圖形與設計圖形一致。這就需要根據這些圖形的屬性與相互關系做到精細化地對圖形元素進行選取與操作。
2、利用模型仿真技術，可以較大程度的模擬出真實生產過程中芯片在修正后的掩模下的曝光結果，提前獲知修正結果，節省制造成本。然而由于計算仿真過程復雜，數據龐大，無法一次性針對全局版圖進行計算，故需要將全局版圖進行切分，依次處理每一塊局部區域(patch)，為了提高計算效率，往往會采用分布式計算，最后將結果合理的拼接起來。版圖在切分時，破壞了某些圖形的整體性，比如一個圖形被切分成了兩部分，進入不同的patch，在不同的子節點計算機上計算，這樣就會造成圖形數據不完整，從而影響正確操作。
技術實現思路
0、
技術實現思路
1、為了解決分布式計算方法會造成圖形數據不完整的問題，本專利技術提供一種掩模圖形全局屬性獲取方法、系統及
2、本專利技術為解決上述技術問題，提供如下的技術方案：一種掩模圖形全局屬性獲取方法，包括以下步驟：
3、獲取版圖，將所述版圖切分獲得至少兩個局部區域；
4、分別獲取各局部區域中的圖形并判斷是否為被切分的圖形，若是，計算獲得圖形數據，數據包括切割點/線、以及局部屬性；
5、將具有相同切割點/線的被切分圖形的局部屬性進行合并，獲得完整圖形的全局屬性。
6、優選地，將所述版圖切分獲得至少兩個局部區域包括以下步驟：
7、基于主計算機，將版圖進行切分為多個局部區域；
8、按照預設規則將局部區域分發給各子節點計算機。
9、優選地，其特征在于：分別獲取各局部區域中被切分的圖形，計算其圖形數據包括以下步驟：
10、獲取局部區域中的圖形；
11、判斷圖形是否存在部分與局部區域的邊緣線重合；若存在，該圖形即為被切分的圖形，將與局部區域的邊緣線重合的部分視為切割點/線；
12、計算切割點/線的絕對坐標以及預定義的局部屬性。
13、優選地，其特征在于：在計算獲得圖形數據之后還包括以下步驟：
14、基于protocol開源庫將圖形數據進行序列化轉換為二進制字節流，并傳輸至主計算機；
15、由主計算機再進行反序列化將二進制字節流轉換為程序數據，并將各個局部區域的圖形數據整合在一起。
16、優選地，其特征在于：基于protocol開源庫將圖形數據進行序列化轉換為二進制字節流包括以下步驟：
17、創建proto文件，并定義要接收的數據類型和數據結構，然后編譯成相對應的程序文件；
18、通過程序文件將圖形數據進行序列化。
19、優選地，其特征在于：將各個局部區域的局部屬性基于切割點/線進行合并包括以下步驟：
20、判斷圖形之間是否具有相同的切割點/線；
21、若是，將具有相同切割點/線的圖形的局部屬性進行合并。
22、優選地，其特征在于：對于未判定為被切分的圖形，直接計算獲得該圖形的全局屬性。
23、優選地，其特征在于：在獲得完整圖形的全局屬性之后，將全局屬性存為二進制文件，并進行數據持久化。
24、本專利技術為解決上述技術問題，提供又一技術方案如下：一種掩模圖形全局屬性獲取系統，用于實現如前述的一種掩模圖形全局屬性獲取方法，包括以下模塊：
25、切分模塊：用于獲取版圖，將所述版圖切分獲得至少兩個局部區域；
26、計算模塊：用于獲取局部區域中的圖形并判斷是否為被切分的圖形，若是，計算獲得圖形數據，數據包括切割點/線、以及局部屬性；
27、合并模塊：用于將具有相同切割點/線的被切分圖形的局部屬性進行合并，形成完整圖形的全局屬性。
28、本專利技術為解決上述技術問題，提供又一技術方案如下：一種計算機存儲介質，其上存儲有計算機程序，所述計算機程序被執行時實現如前述的一種掩模圖形全局屬性獲取方法的步驟。
29、與現有技術相比，本專利技術所提供的一種掩模圖形全局屬性獲取方法、系統及存儲介質，具有如下的有益效果：
30、1.本專利技術提供的一種掩模圖形全局屬性獲取方法，通過，通過將版圖切分獲得局部區域后，分別對應各個局部區域獲取其中的圖形，對于被切分的圖形，獲取其切割線/點以及局部屬性，之后根據切割線/點，將具有相同的切割線/點的圖形進行合并，得到完整圖形的全局屬性，在不改變分布式計算邏輯的基礎上，判斷出被切分的圖形并加以合并，使得圖形數據完整，便于后續操作。
31、2.本專利技術提供的一種掩模圖形全局屬性獲取方法，在計算屬性時，可預設想要計算的屬性，避免計算資源浪費，也可只計算被切分的圖形，減少計算數據量。
32、3.本專利技術提供的一種掩模圖形全局屬性獲取方法，子節點計算機計算完成后，將數據序列化進行傳輸前的準備，傳輸到主計算機后，主計算機對數據進行整合，進行數據合并前的準備，方便后續合并。
33、4.本專利技術提供的一種掩模圖形全局屬性獲取方法，主計算機合并獲得圖形全局屬性后，進行數據持久化，便于后續讀取數據進行屬性操作，之后無需再有額外的計算合并步驟。
34、5.本專利技術實施例還提供一種掩模圖形全局屬性獲取系統，具有與上述一種掩模圖形全局屬性獲取方法相同的有益效果，在此不做贅述。
35、6.本專利技術實施例還提供一種計算機存儲介質，具有與上述一種掩模圖形全局屬性獲取方法相同的有益效果，在此不做贅述。
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1.一種掩模圖形全局屬性獲取方法，其特征在于：包括以下步驟：
2.如權利要求1所述的掩模圖形全局屬性獲取方法，其特征在于：將所述版圖切分獲得至少兩個局部區域包括以下步驟：
3.如權利要求1所述的掩模圖形全局屬性獲取方法，其特征在于：分別獲取各局部區域中被切分的圖形，計算其圖形數據包括以下步驟：
4.如權利要求2所述的掩模圖形全局屬性獲取方法，其特征在于：在計算獲得圖形數據之后還包括以下步驟：
5.如權利要求4所述的掩模圖形全局屬性獲取方法，其特征在于：基于protocol開源庫將圖形數據進行序列化轉換為二進制字節流包括以下步驟：
6.如權利要求1所述的掩模圖形全局屬性獲取方法，其特征在于：將各個局部區域的局部屬性基于切割點/線進行合并包括以下步驟：
7.如權利要求1所述的掩模圖形全局屬性獲取方法，其特征在于：對于未判定為被切分的圖形，直接計算獲得該圖形的全局屬性。
8.如權利要求1所述的掩模圖形全局屬性獲取方法，其特征在于：在獲得完整圖形的全局屬性之后，將全局屬性存為二進制文件，并進行數據持久化。
9.一種掩模圖形全局屬性獲取系統，用于實現如權利要求1-8任一項所述的一種掩模圖形全局屬性獲取方法，其特征在于：包括以下模塊：
10.一種計算機存儲介質，其上存儲有計算機程序，其特征在于：所述計算機程序被執行時實現如權利要求1-8任一項所述的一種掩模圖形全局屬性獲取方法的步驟。
...【技術特征摘要】
1.一種掩模圖形全局屬性獲取方法，其特征在于：包括以下步驟：
2.如權利要求1所述的掩模圖形全局屬性獲取方法，其特征在于：將所述版圖切分獲得至少兩個局部區域包括以下步驟：
3.如權利要求1所述的掩模圖形全局屬性獲取方法，其特征在于：分別獲取各局部區域中被切分的圖形，計算其圖形數據包括以下步驟：
4.如權利要求2所述的掩模圖形全局屬性獲取方法，其特征在于：在計算獲得圖形數據之后還包括以下步驟：
5.如權利要求4所述的掩模圖形全局屬性獲取方法，其特征在于：基于protocol開源庫將圖形數據進行序列化轉換為二進制字節流包括以下步驟：
6.如權利要求1所述的掩模圖形全局屬性獲取方法，其特征...
【專利技術屬性】
技術研發人員：姜強，陳珈宇，季鵬飛，丁明，
申請(專利權)人：深圳晶源信息技術有限公司，
類型：發明
國別省市：
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