【技術實現步驟摘要】
本技術涉及加熱設備,尤其涉及到一種加熱均勻的真空鍍膜加熱板。
技術介紹
1、加熱板,是鍍膜設備最常用的一種加熱結構,且目前已成為常用的鍍膜技術之一,通過加熱器將底板加熱,使得設備內的工藝氣體升溫到工藝溫度,催化工藝氣體附著到待鍍工件上形成薄膜的過程。薄膜的厚度及均勻性與加熱速度和鍍膜時間等都有密切的關系。
2、現有技術中的加熱板,主要是加熱器組裝到底板上的組裝式結構,存在導熱不太快速、且均勻性達不到工藝要求,研發一種加熱均勻的真空鍍膜加熱板是急需解決的問題。
技術實現思路
1、本技術的目的是提供一種加熱均勻的真空鍍膜加熱板,該加熱板加熱速度更快、溫度分布均勻,且連續使用的受命更長。
2、本技術為解決其技術問題所采用的技術方案是:
3、一種加熱均勻的真空鍍膜加熱板,包括:
4、加熱板本體,所述加熱板本體由一個環形板構成的,所述環形板的外側具有凸起的手柄部,所述手柄部的一側設置有側熱組件,所述環形板的一側設置有傳熱組件,所述傳熱組件的一端與加熱組件進行連接。
5、在技術一或多個實施方式中,所述傳熱組件為一根長條的加熱絲構成的,所述加熱絲的起始端位于手柄部上,其尾端位于環形板上;所述加熱絲的中部形成若干弧形段。
6、在技術一或多個實施方式中,所述測熱組件為固定于手柄部上的雙支熱電偶,該雙支熱電偶包括設置于手柄部上的第一加熱絲、第二加熱絲和連接段,所述第一加熱絲的一端與連接段連接,其連接段的另一端與加熱組件連接,所述第
7、在技術一或多個實施方式中,所述第一加熱絲與第二加熱絲的中部形成u型段,所述第一加熱絲與第二加熱絲的路徑有部分相重疊。
8、在技術一或多個實施方式中,所述手柄部上開設有兩個沉頭孔,所述第一加熱絲的外側端位于其中一個沉頭孔內。
9、在技術一或多個實施方式中,所述環形板上固定有若干組固定孔。
10、在技術一或多個實施方式中,所述手柄部與環形板的連接處形成圓角。
11、在技術一或多個實施方式中,所述環形板上還設置有若干熱電偶,所述熱電偶安裝于加熱絲上。
12、本技術的優點在于:
13、本技術通過改進加熱器分區及排布結構,使得組裝后的加熱器能提高功率,從而達到加熱速度快、溫度補償能力足且溫度均勻的目的。
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1.一種加熱均勻的真空鍍膜加熱板,其特征在于,包括:
2.根據權利要求1所述的一種加熱均勻的真空鍍膜加熱板,其特征在于:所述傳熱組件為一根長條的加熱絲(3)構成的,所述加熱絲(3)的起始端位于手柄部(2)上,其尾端位于環形板(1)上;所述加熱絲的中部形成若干弧形段。
3.根據權利要求1所述的一種加熱均勻的真空鍍膜加熱板,其特征在于:所述測熱組件為固定于手柄部(2)上的雙支熱電偶,該雙支熱電偶包括設置于手柄部(2)上的第一加熱絲(4)、第二加熱絲(5)和連接段(6),所述第一加熱絲(4)的一端與連接段(6)連接,其連接段(6)的另一端與加熱組件連接,所述第二加熱絲(5)的一端與連接段(6),其另一端與加熱組件進行連接。
4.根據權利要求3所述的一種加熱均勻的真空鍍膜加熱板,其特征在于:所述第一加熱絲(4)與第二加熱絲(5)的中部形成U型段,所述第一加熱絲(4)與第二加熱絲(5)的路徑有部分相重疊。
5.根據權利要求3所述的一種加熱均勻的真空鍍膜加熱板,其特征在于:所述手柄部(2)上開設有兩個沉頭孔(7),所述第一加熱絲(4)的外側端位
6.根據權利要求1所述的一種加熱均勻的真空鍍膜加熱板,其特征在于:所述環形板(1)上固定有若干組固定孔(8)。
7.根據權利要求1所述的一種加熱均勻的真空鍍膜加熱板,其特征在于:所述手柄部(2)與環形板(1)的連接處形成圓角(9)。
8.根據權利要求2所述的一種加熱均勻的真空鍍膜加熱板,其特征在于:所述環形板(1)上還設置有若干熱電偶,所述熱電偶安裝于加熱絲(3)上。
...【技術特征摘要】
1.一種加熱均勻的真空鍍膜加熱板,其特征在于,包括:
2.根據權利要求1所述的一種加熱均勻的真空鍍膜加熱板,其特征在于:所述傳熱組件為一根長條的加熱絲(3)構成的,所述加熱絲(3)的起始端位于手柄部(2)上,其尾端位于環形板(1)上;所述加熱絲的中部形成若干弧形段。
3.根據權利要求1所述的一種加熱均勻的真空鍍膜加熱板,其特征在于:所述測熱組件為固定于手柄部(2)上的雙支熱電偶,該雙支熱電偶包括設置于手柄部(2)上的第一加熱絲(4)、第二加熱絲(5)和連接段(6),所述第一加熱絲(4)的一端與連接段(6)連接,其連接段(6)的另一端與加熱組件連接,所述第二加熱絲(5)的一端與連接段(6),其另一端與加熱組件進行連接。
4.根據權利要求3所述的一種加熱均勻的真空鍍膜加熱板...
【專利技術屬性】
技術研發人員:徐宏林,黃永杰,
申請(專利權)人:上海宏端精密機械有限公司,
類型:新型
國別省市:
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