【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及半導體襯底制備技術，具體涉及一種用于清潔型碳化硅襯底的制作方法。
技術介紹
1、碳化硅襯底是半導體芯片的底層材料；襯底是所有半導體芯片的底層材料，主要起到物理支撐、導熱及導電作用。而碳化硅是制作高溫、高頻、大功率、高壓器件的理想材料之一，以sic為襯底制成的半導體器件，可以更好滿足高溫、高壓、大功率等條件下的應用需求；碳化硅襯底根據電阻率可分為導電型、半絕緣型。導電型碳化硅器件主要用于電動汽車、光伏發電、軌道交通、數據中心、充電等基礎建設。碳化硅襯底產品的制造涉及設備研制、原料合成、晶體加工、晶體切割、晶片加工、清洗檢測等諸多環節。
2、公開號為cn114310530b的中國專利技術專利中，公開了一種應用于半導體襯底片加工的自動裝卸頂出結構，該應用于半導體襯底片加工的自動裝卸頂出結構，通過在上料過程中，夾緊裝置和研磨裝置自動為上料過程讓位，上料完畢后夾緊裝置自動夾緊，并且研磨裝置自動進給研磨，最后下次上料時，將已研磨完畢的碳化硅襯底片自動送出，一體化聯動自動加工，減少人力物力的投入，提高了碳化硅襯底片的研磨效率，但是對于碳化硅襯底的上料、加工和下料，需要推送組件先將碳化硅襯底推送至加工區域，再移動推送組件復位，致使升降研磨組件下降對碳化硅襯底表面進行拋光，接著推送組件再移動至加工區域并將加工后的碳化硅襯底推送至輸送通道后，才能復位平移至初始位置進行下一次的推送，加工工序復雜，且加工效率低，加工耗時。
技術實現思路
1、本專利技術的目的是提供一種用于清潔型碳
2、為了實現上述目的，本專利技術提供如下技術方案：一種用于碳化硅襯底的制作方法，具體包括以下步驟：
3、s1、原料混合：首先將碳化硅粉末、粘接劑和添加劑投入至混合攪拌裝置內進行均勻混合，原料按質量百分比包括：碳化硅粉末80％～89％和粘接劑3％～7％，余量為添加劑，混合完成后得到混合物；
4、s2、粉碎燒結：接著將混合物投入模具內，并壓制成所需形狀，然后將壓制完成后的混合料投入至真空石墨爐內進行高溫燒結，燒結溫度先升高至1700～1800℃，升溫速度控制在5～10℃/min，保溫24～32min，然后再將溫度升高到2000～2100℃，保溫并開始加壓，以2～3mpa/min的速度進行加壓，當壓力達到20mpa時，開始保壓，26～30min后開始釋放壓力，同時泄壓完成，結束保溫，并以14～18℃/min的速度進行冷卻降溫，以制得碳化硅襯底；
5、s3、切割、拋光并清洗：最后，先通過切割裝置對燒結后的碳化硅襯底按照需求進行切割，再將切割完成后的碳化硅襯底基片送至碳化硅襯底拋光裝置內進行拋光加工，以獲得所需的尺寸和表面粗糙度，拋光完成后，接著投入填充去離子水的超聲波清洗儀中，對清洗碳化硅襯底表面進行雜質和殘留物的清理，以得到碳化硅襯底成品。
6、一種用于清潔型碳化硅襯底的制作方法，包括如上述所述的用于碳化硅襯底的制作方法，該用于清潔型碳化硅襯底的制作方法用于制備清潔型碳化硅襯底。
7、一種碳化硅襯底拋光裝置，所述碳化硅襯底拋光裝置適用于上述所述的用于清潔型碳化硅襯底的制作方法，其包括：工作臺，且工作臺包括支撐板和固定安裝于支撐板底部的支撐柱；
8、襯底儲存箱，其固定安裝于支撐板的上方；
9、拋光工位座，其安裝于支撐板上且位于襯底儲存箱的一側；
10、推送機構一，其安裝于支撐板上，且其可將襯底儲存箱內臨近支撐板的碳化硅襯底推送至拋光工位座頂部；
11、拋光機構，其垂直滑動安裝于襯底儲存箱的一側；
12、定位機構，其安裝于支撐板上，且其可對位于拋光工位座頂部的碳化硅襯底進行定位夾持；
13、牽引件二，其兩端分別與拋光機構和推送機構一相連接，且推送機構一推送碳化硅襯底的過程中可配合牽引件二帶動拋光機構垂直上升或下降。
14、進一步地，定位機構包括固定安裝于支撐板底部的驅動件二，驅動件二的頂端固定安裝有固定板，固定板的底部滑動安裝有多個呈環形陣列狀分布的定位夾爪，定位夾爪的頂部貫穿固定板與支撐板并與支撐板的頂部活動連接，拋光工位座垂直滑動安裝于支撐柱的頂端且與固定板的頂部固定連接，支撐柱外側且位于固定板的下方轉動安裝有變距盤，變距盤的頂部貫穿開設有多個呈環形陣列狀分布的弧槽，定位夾爪的底部固定安裝有與弧槽相連接的導柱。
15、進一步地，所述推送機構一包括固定安裝于支撐板底部的驅動件一，驅動件一的一端固定安裝有推板一，推板一上相鄰于拋光工位座的一側與牽引件二轉動連接，拋光機構外側通過支撐座與牽引件二的另一端轉動連接，推板一的頂部貫穿支撐板并與支撐板的內壁橫向滑動連接，推板一的底部轉動安裝有與變距盤底部轉動連接的牽引件一。
16、進一步地，還包括：輸送機構，其安裝于支撐板上且遠離拋光工位座的一側；
17、推送機構二，其安裝于拋光機構與襯底儲存箱之間，且其可將拋光工位座上拋光完成的碳化硅襯底推送至輸送機構上。
18、進一步地，襯底儲存箱的一側固定安裝有與拋光機構滑動連接的橫板，推送機構二包括橫向滑動安裝于橫板底部的滑板，滑板靠近拋光工位座的一側垂直滑動安裝有推板二，推板二的一側貫穿滑板并延伸至滑板另一側。
19、進一步地，橫板底部遠離拋光工位座的一側轉動安裝有驅動件三，且驅動件三的輸出端固定安裝有牽引件三，滑板遠離拋光工位座的一側轉動安裝有與推板二一側底部相抵接的偏心盤，牽引件三的一端與偏心盤一側轉動連接，偏心盤上遠離拋光工位座的一側貫穿開設有卡槽，且滑板遠離拋光工位座的一側固定安裝有凸柱，偏心盤轉動至其極限行程處后，凸柱抵接卡槽內壁。
20、與現有技術相比，本專利技術提供的一種用于清潔型碳化硅襯底的制作方法，通過推板一進行橫移復位配合牽引件二牽引支撐座帶動拋光機構進行垂直下移，推板一復位還配合牽引件一帶動變距盤以支撐柱的軸向為旋轉軸進行自轉，變距盤自轉通過其上的弧槽推動導柱和定位夾爪往拋光工位座中心處靠攏并對碳化硅襯底邊側進行定位夾持，同時驅動件二還可推動固定板、定位夾爪、導柱和拋光工位座進行上升，以使得碳化硅襯底拋光中更緊貼拋光機構的拋光端，不僅實現了對碳化硅襯底的充分拋光，同時保證了定位機構的夾持穩定性，保障了碳化硅襯底的拋光加工效果；
21、通過推板一受驅動件一推動靠近拋光工位座，推板一配合牽引件二帶動拋光機構進行垂直上升時，驅動件三啟動配合牽引件三推動偏心盤進行偏心自轉，推板二配合彈簧帶動其自身進行垂直滑動，直至卡槽內壁抵接凸柱，驅動件三進一步推擠偏心盤時，便帶動偏心盤、滑板和推板二進行同步平移，以實現推板二的先垂直下降后再平移對拋光工位座上的碳化硅襯底推送至輸送機構上，不僅簡化了加工工序，同時提高了碳化硅襯底的加工效率，同時避免了傳統裝置需要往復移動兩次推送組件的工序與時間才能完成碳化硅襯底加工和下料，加工耗時，效率低，且流程慢的技術問題。
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1.一種用于碳化硅襯底的制作方法，其特征在于：具體包括以下步驟：
2.一種用于清潔型碳化硅襯底的制作方法，其特征在于，包括如權利要求1所述的用于碳化硅襯底的制作方法，該用于清潔型碳化硅襯底的制作方法用于制備清潔型碳化硅襯底。
3.一種碳化硅襯底拋光裝置，其特征在于，所述碳化硅襯底拋光裝置適用于權利要求2所述的用于清潔型碳化硅襯底的制作方法，其包括：工作臺(1)，且工作臺(1)包括支撐板(11)和固定安裝于支撐板(11)底部的支撐柱(12)；
4.根據權利要求3所述的一種碳化硅襯底拋光裝置，其特征在于，定位機構(6)包括固定安裝于支撐板(11)底部的驅動件二(61)，驅動件二(61)的頂端固定安裝有固定板(62)，固定板(62)的底部滑動安裝有多個呈環形陣列狀分布的定位夾爪(63)，定位夾爪(63)的頂部貫穿固定板(62)與支撐板(11)并與支撐板(11)的頂部活動連接，拋光工位座(4)垂直滑動安裝于支撐柱(12)的頂端且與固定板(62)的頂部固定連接，支撐柱(12)外側且位于固定板(62)的下方轉動安裝有變距盤(64)，變距盤(64)的頂部貫穿
5.根據權利要求4所述的一種碳化硅襯底拋光裝置，其特征在于，所述推送機構一(3)包括固定安裝于支撐板(11)底部的驅動件一(31)，驅動件一(31)的一端固定安裝有推板一(32)，推板一(32)上相鄰于拋光工位座(4)的一側與牽引件二(8)轉動連接，拋光機構(5)外側通過支撐座與牽引件二(8)的另一端轉動連接，推板一(32)的頂部貫穿支撐板(11)并與支撐板(11)的內壁橫向滑動連接，推板一(32)的底部轉動安裝有與變距盤(64)底部轉動連接的牽引件一(33)。
6.根據權利要求3所述的一種碳化硅襯底拋光裝置，其特征在于，還包括：
7.根據權利要求6所述的一種碳化硅襯底拋光裝置，其特征在于，襯底儲存箱(2)的一側固定安裝有與拋光機構(5)滑動連接的橫板，推送機構二(9)包括橫向滑動安裝于橫板底部的滑板(91)，滑板(91)靠近拋光工位座(4)的一側垂直滑動安裝有推板二(92)，推板二(92)的一側貫穿滑板(91)并延伸至滑板(91)另一側。
8.根據權利要求7所述的一種碳化硅襯底拋光裝置，其特征在于，橫板底部遠離拋光工位座(4)的一側轉動安裝有驅動件三(93)，且驅動件三(93)的輸出端固定安裝有牽引件三(94)，滑板(91)遠離拋光工位座(4)的一側轉動安裝有與推板二(92)一側底部相抵接的偏心盤(95)，牽引件三(94)的一端與偏心盤(95)一側轉動連接，偏心盤(95)上遠離拋光工位座(4)的一側貫穿開設有卡槽(96)，且滑板(91)遠離拋光工位座(4)的一側固定安裝有凸柱(97)，偏心盤(95)轉動至其極限行程處后，凸柱(97)抵接卡槽(96)內壁。
...【技術特征摘要】
1.一種用于碳化硅襯底的制作方法，其特征在于：具體包括以下步驟：
2.一種用于清潔型碳化硅襯底的制作方法，其特征在于，包括如權利要求1所述的用于碳化硅襯底的制作方法，該用于清潔型碳化硅襯底的制作方法用于制備清潔型碳化硅襯底。
3.一種碳化硅襯底拋光裝置，其特征在于，所述碳化硅襯底拋光裝置適用于權利要求2所述的用于清潔型碳化硅襯底的制作方法，其包括：工作臺(1)，且工作臺(1)包括支撐板(11)和固定安裝于支撐板(11)底部的支撐柱(12)；
4.根據權利要求3所述的一種碳化硅襯底拋光裝置，其特征在于，定位機構(6)包括固定安裝于支撐板(11)底部的驅動件二(61)，驅動件二(61)的頂端固定安裝有固定板(62)，固定板(62)的底部滑動安裝有多個呈環形陣列狀分布的定位夾爪(63)，定位夾爪(63)的頂部貫穿固定板(62)與支撐板(11)并與支撐板(11)的頂部活動連接，拋光工位座(4)垂直滑動安裝于支撐柱(12)的頂端且與固定板(62)的頂部固定連接，支撐柱(12)外側且位于固定板(62)的下方轉動安裝有變距盤(64)，變距盤(64)的頂部貫穿開設有多個呈環形陣列狀分布的弧槽，定位夾爪(63)的底部固定安裝有與弧槽相連接的導柱(65)。
5.根據權利要求4所述的一種碳化硅襯底拋光裝置，其特征在于，所述推送機構一(3)包括固定安裝于支撐板(11)底部的驅動件一(31)，驅動件一(31)的一端固...
【專利技術屬性】
技術研發人員：李梅溶，張夢龍，柯茜，汪煒喆，王創壘，袁書文，黃東園，李京波，
申請(專利權)人：浙江芯科半導體有限公司，
類型：發明
國別省市：
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