【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及eda產業中大型芯片電子集成電路的處理的，尤其涉及一種集成電路的版圖的全局多邊形的處理方法，以及版圖的并行加速處理方法，本專利技術適用于電子設計過程中，電路驗證和電路性能優化的提速，以及效率和準確性的提高；同時，也適用于在半導體制造端中全芯片工藝設備仿真模擬的并行算法的實現和優化。
技術介紹
1、現代半導體電子集成電路所應用的領域越來越多，能夠實現的功能也越來越強，從設計到制造及封測和成品最后的形成和組裝，是一個復雜、分工精細、時間漫長和精細化處理的細致過程，通常一款電子產品從形成概念，設計電路，到生產制造，及樣品性能測試，成品投放市場等等，周期可以長達一年乃至數年之久。
2、由于集成電路的日益增強的復雜性和多樣性，其設計之初的準確性和可靠性尤為重要，現有的循序漸進式的仿真模擬驗證的方式難以滿足新產品盡快問世的需求。
3、為突破越來越漫長的難以承受的電路設計過程驗證、糾錯和迭代過程，各種新的可替代加速算法在嘗試之中。
4、如圖1所示，現有技術中為了實現集成電路的處理的加速，通常都會把集成電路的版圖分割為多塊，每一塊為一個單元方闕(tile)，每一個單元方闕(tile)發送給分布式系統的一個woker(如服務器或進程等)進行處理，為了各單元方闕(tile)之間的解耦，發送給每一個woker的單元方闕(tile)還會根據規則約束的多邊形間距要求，向外擴展一部分，將周圍的單元方闕(tile)的一部分也囊括進來，形成擴展單元方闕(context?tile)，該擴展單元方闕(context
5、隨著版圖的分割，版圖上的多邊形也被分為了局部多邊形，現有的局部多邊形的形狀是不確定的，只要是位于對應的擴展單元方闕，就發送給對應的woker進行處理，之后再將局部多邊形合并為新的全局多邊形，目前局部多邊形的具體處理缺乏相應的加快技術方案，即如何對全局多邊形進行處理，使得集成電路的處理能夠加速是待解決的技術問題。
技術實現思路
1、為了解決現有技術中的全局多邊形的處理相對較慢的技術問題，本專利技術提出了全局多邊形的處理方法、版圖的并行加速處理方法。
2、本專利技術提出的集成電路版圖中全局多邊形的處理方法，包括：
3、根據全局多邊形的形狀將版圖中的全局多邊形進行分類，所述分類包括標準多邊形、復雜多邊形當中的至少一種；
4、若存在復雜多邊形，進一步將復雜多邊形分解為多個標準多邊形來聯合表示；
5、確定每一個標準多邊形在版圖的單元方闕中的分布情況；
6、將全局多邊形分布在多個單元方闕上的標準多邊形采用多個子多邊形表征；
7、當各單元方闕完成對應操作之后，將對應的各子多邊形合并為對應的全局多邊形；
8、對合并后的全局多邊形與原全局多邊形進行對等性驗證操作。
9、進一步，所述標準多邊形定義為：由相互垂直的四條邊按照單一特定方向連結組成的閉合四邊形。
10、進一步，所述標準多邊形、子多邊形以位于對角線上的兩個頂點進行表征。
11、進一步，確定每一個標準多邊形在版圖的單元方闕中的分布情況具體包括：
12、確定所述標準多邊形所屬的單元方闕；
13、計算可表征所述單元方闕的兩個頂點在版圖中的全局坐標；
14、計算可表征所述標準多邊形的兩個頂點在版圖中的全局坐標；
15、確定可表征所述標準多邊形的兩個頂點所落入的單元方闕，并計算所述兩個頂點在對應的單元方闕的相對坐標；
16、計算所述標準多邊形所跨越的單元方闕的總數目。
17、進一步，計算可表征所述標準多邊形所屬的單元方闕的兩個頂點在版圖中的全局坐標包括：
18、確定所述單元方闕在版圖中的矩陣位置，以及單元方闕的尺寸；
19、根據所述矩陣位置以及單元方闕的尺寸，計算得到可表征單元方闕的兩個頂點的全局坐標。
20、進一步，確定可表征所述標準多邊形的兩個頂點所落入的單元方闕包括：
21、將所述頂點的全局坐標除以單元方闕的對應尺寸，向下取整后得到所述頂點所落入的單元方闕在版圖中的矩陣位置。
22、進一步，將全局多邊形分布在多個單元方闕上的標準多邊形采用多個子多邊形表征具體包括：
23、確定各子多邊形所在的單元方闕；
24、計算可表征各子多邊形的兩個頂點在對應單元方闕內的相對坐標。
25、本專利技術提出的版圖的并行加速處理方法，包括：
26、步驟1，獲取版圖的完整的全局多邊形信息及版圖的并行計算拆分信息；
27、步驟2，采用上述技術方案的全局多邊形的處理方法，對版圖的全局多邊形進行處理；
28、步驟3，對完成對等性驗證的操作的全部多邊形按照預設格式存儲。
29、本專利技術對全局多邊形進行了分類，然后統一都劃分成標準多邊形的形狀來進行處理，并且依據標準多邊形所屬的單元方闕不同，然后進一步轉化為對應的子多邊形來存儲相應的信息和數據結構，以使得集成電路在并行處理過程中的速度可以進一步加快。
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1.一種集成電路版圖中全局多邊形的處理方法，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的集成電路版圖中全局多邊形的處理方法，其特征在于，所述標準多邊形定義為：由相互垂直的四條邊按照單一特定方向連結組成的閉合四邊形。
3.如權利要求2所述的集成電路版圖中全局多邊形的處理方法，其特征在于，所述標準多邊形、子多邊形分別以位于其對角線上的兩個頂點進行表征。
4.如權利要求3所述的集成電路版圖中全局多邊形的處理方法，其特征在于，確定每一個標準多邊形在版圖的單元方闕中的分布情況具體包括：
5.如權利要求4所述的集成電路版圖中全局多邊形的處理方法，其特征在于，計算可表征所述標準多邊形所屬的單元方闕的兩個頂點在版圖中的全局坐標包括：
6.如權利要求4所述的集成電路版圖中全局多邊形的處理方法，其特征在于，確定可表征所述標準多邊形的兩個頂點所落入的單元方闕包括：
7.如權利要求4所述的集成電路版圖中全局多邊形的處理方法，其特征在于，將全局多邊形分布在多個單元方闕上的標準多邊形采用多個子多邊形表征具體包括：
8.一種版圖
...【技術特征摘要】
1.一種集成電路版圖中全局多邊形的處理方法，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的集成電路版圖中全局多邊形的處理方法，其特征在于，所述標準多邊形定義為：由相互垂直的四條邊按照單一特定方向連結組成的閉合四邊形。
3.如權利要求2所述的集成電路版圖中全局多邊形的處理方法，其特征在于，所述標準多邊形、子多邊形分別以位于其對角線上的兩個頂點進行表征。
4.如權利要求3所述的集成電路版圖中全局多邊形的處理方法，其特征在于，確定每一個標準多邊形在版圖的單元方闕中的分布情況具體包括：<...
【專利技術屬性】
技術研發人員：陳紅，黃曄，趙普凡，李瑤，
申請(專利權)人：深圳國微福芯技術有限公司，
類型：發明
國別省市：
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