【技術實現步驟摘要】
本申請涉及鍍膜，具體而言，涉及一種蒸發鍍膜裝置。
技術介紹
1、使用蒸發鍍膜裝置鍍膜時，通常來講，如果待鍍膜的基膜越厚，則可使蒸發鍍膜裝置的蒸發機構更靠近主輥上的基膜，由此更好地避免蒸發料損失，鍍設到基膜上的鍍層也越厚。為實現蒸發機構靠近基膜，目前是通過升降操作調節蒸發機構的高度來使蒸發機構靠近基膜的。
2、然而，由于蒸發機構的結構較為復雜，在調節蒸發機構與基膜之間的距離時，容易導致蒸發鍍膜裝置產生故障。以采用蒸發舟作為蒸發體的蒸發機構為例，其蒸發機構具有很多蒸發舟，每個蒸發舟對應有相應的蒸發電極，蒸發電極具有冷卻管道。蒸發機構升降移動時，這些冷卻管道都會隨蒸發機構一起升降，在管道升降過程中，較多的管道發生移動，容易導致管道破損故障進而引起蒸發鍍膜裝置故障。
技術實現思路
1、本申請的主要目的在于提供一種蒸發鍍膜裝置，以解決調節蒸發機構與基膜之間的距離時，容易導致蒸發鍍膜裝置產生故障的問題。
2、根據本申請實施例的一個方面，提供了一種蒸發鍍膜裝置，包括：
3、蒸發機構；
4、移動機構，所述移動機構包括驅動部和移動部，所述驅動部驅動所述移動部沿靠近或者遠離所述蒸發機構的方向往復運動；
5、輥動件，所述輥動件固定在所述移動部上，所述輥動件至少用于纏繞基膜并在所述移動部帶動下使所述基膜靠近或遠離所述蒸發機構。
6、進一步地，所述移動部包括：
7、連接框架，所述連接框架上設置有避讓空間，所述避讓空間沿從所述
8、其中，所述輥動件固定在所述避讓空間并與所述蒸發機構相對設置。
9、進一步地，所述驅動部包括：
10、支撐座，所述蒸發機構設置于所述支撐座和所述連接框架之間；
11、氣缸，所述氣缸固定在所述支撐座上，所述氣缸包括活塞桿，所述活塞桿與所述連接框架固定連接。
12、進一步地，所述驅動部還包括：
13、升降限位機構，所述升降限位機構包括導柱和導套，所述導柱設置在所述導套內并可沿所述導套的長度方向運動，所述導套固定在所述支撐座上，所述導柱與所述連接框架固定連接。
14、進一步地，所述連接框架為矩形框架結構，所述氣缸包括兩個，兩個所述氣缸分別設置于所述連接框架其中一條對角線上的相對兩端，所述驅動部還包括：
15、升降限位機構，所述升降限位機構包括兩個，兩個所述升降限位機構分別設置于所述連接框架另一條對角線上的相對兩端，其中，所述升降限位機構包括導柱和導套，所述導柱設置在所述導套內并可沿所述導套的長度方向運動，所述導套固定在所述支撐座上，所述導柱與所述連接框架固定連接。
16、進一步地，所述移動部還包括：
17、擋板，所述擋板設置于所述避讓空間遠離所述蒸發機構的一側并可沿第一方向相對所述連接框架滑動；
18、支撐架，所述支撐架固定于所述避讓空間遠離所述蒸發機構的一側，所述輥動件轉動連接在所述支撐架上并位于所述擋板遠離所述蒸發機構的一側。
19、進一步地，所述輥動件包括冷卻輥，所述冷卻輥轉動連接在所述支撐架上。
20、進一步地，所述輥動件包括至少兩個過輥，至少兩個所述過輥間隔設置在所述支撐架上并可相對所述支撐架轉動，且至少兩個所述過輥位于同一水平面。
21、進一步地，所述支撐架包括：
22、輥軸，所述輥動件固定設置在所述輥軸上；
23、支撐柱，所述支撐柱固定于所述避讓空間遠離所述蒸發機構的一側，且所述支撐柱兩兩相對位于所述擋板沿第二方向的相對兩端，所述支撐柱遠離所述擋板的一端設置有軸承，所述輥軸的兩端分別與所述軸承固定連接，所述第二方向為垂直于所述第一方向的方向。
24、進一步地，所述蒸發機構靠近所述輥動件的一側設置有多個蒸發體，所述擋板朝向所述蒸發體的一側間隔設置有多個凸起結構，且所述凸起結構在所述蒸發機構上的投影位于相鄰所述蒸發體之間。
25、相對于現有技術而言，本申請的技術方案至少具備如下技術效果：
26、本申請通過移動機構的移動部帶動輥動件靠近或遠離蒸發機構，來使輥動件上的基膜靠近或遠離蒸發機構，無需調整蒸發機構的高度來使蒸發機構靠近基膜，從而防止蒸發鍍膜裝置產生故障。
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1.一種蒸發鍍膜裝置，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述移動部(30)包括：
3.根據權利要求2所述的蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述驅動部(20)包括：
4.根據權利要求3所述的蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述驅動部(20)還包括：
5.根據權利要求3所述的蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述連接框架(31)為矩形框架結構，所述氣缸(22)包括兩個，兩個所述氣缸(22)分別設置于所述連接框架(31)其中一條對角線上的相對兩端，所述驅動部(20)還包括：
6.根據權利要求2至5任一所述的蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述移動部(30)還包括：
7.根據權利要求6所述的蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述輥動件包括冷卻輥(40)，所述冷卻輥(40)轉動連接在所述支撐架(33)上。
8.根據權利要求6所述的蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述輥動件包括至少兩個過輥(50)，至少兩個所述過輥(50)間隔設置在所述支撐架(33)上并可相對所述支撐架(33)轉動，且至少兩個所述過輥(50)位于
9.根據權利要求6所述的蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述支撐架(33)包括：
10.根據權利要求6所述的蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述蒸發機構(10)靠近所述輥動件的一側設置有多個蒸發體，所述擋板(32)朝向所述蒸發體的一側間隔設置有多個凸起結構(321)，且所述凸起結構(321)在所述蒸發機構(10)上的投影位于相鄰所述蒸發體之間。
...【技術特征摘要】
1.一種蒸發鍍膜裝置，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述移動部(30)包括：
3.根據權利要求2所述的蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述驅動部(20)包括：
4.根據權利要求3所述的蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述驅動部(20)還包括：
5.根據權利要求3所述的蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述連接框架(31)為矩形框架結構，所述氣缸(22)包括兩個，兩個所述氣缸(22)分別設置于所述連接框架(31)其中一條對角線上的相對兩端，所述驅動部(20)還包括：
6.根據權利要求2至5任一所述的蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述移動部(30)還包括：
7.根據權利要求6所述的蒸發鍍膜裝置...
【專利技術屬性】
技術研發人員：臧世偉，
申請(專利權)人：深圳金美新材料科技有限公司，
類型：新型
國別省市：
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